[发明专利]像素结构、像素结构的制作方法以及有源元件阵列基板有效

专利信息
申请号: 201210190372.6 申请日: 2012-06-08
公开(公告)号: CN103488012A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 郭丰玮;任珂锐;游家华;王义方 申请(专利权)人: 瀚宇彩晶股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/02;H01L21/77
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种像素结构及其制作方法以及有源元件阵列基板。像素结构由扫描线与数据线驱动。像素结构包括第一图案化金属层,设置于基板上且具共用线与栅极;第一绝缘层,覆盖第一图案化金属层;半导体图案,位于栅极上方第一绝缘层上;第二图案化金属层,设置于第一绝缘层上且具源极与漏极,源极与漏极电连接于半导体图案;第二绝缘层,覆盖第二图案化金属层且具接触窗开口暴露漏极;电极层,设置于第二绝缘层上且具像素电极与共用电极,像素电极经接触窗开口而连接到漏极。共用线、第一绝缘层与像素电极构成第一存储电容。共用线、漏极与共用电极构成三明治结构,共用线、第一绝缘层与漏极构成第二存储电容,漏极、第二绝缘层与共用电极构成第三存储电容。
搜索关键词: 像素 结构 制作方法 以及 有源 元件 阵列
【主权项】:
一种像素结构,设置于基板上,所述像素结构由扫描线与数据线所驱动,所述像素结构的特征在于包括:第一图案化金属层,设置于所述基板上,所述第一图案化金属层具有共用线与栅极;第一绝缘层,覆盖所述第一图案化金属层;半导体图案,位于所述栅极上方的所述第一绝缘层上;第二图案化金属层,设置于所述第一绝缘层上,所述第二图案化金属层具有源极与漏极,所述源极与所述漏极电连接于所述半导体图案;第二绝缘层,覆盖所述第二图案化金属层,所述第二绝缘层具有接触窗开口暴露出所述漏极;以及电极层,设置于所述第二绝缘层上,所述电极层具有像素电极与共用电极,所述像素电极经由所述接触窗开口而连接到所述漏极,其中,所述共用线、所述第一绝缘层与所述像素电极构成第一存储电容,所述共用线、所述漏极与所述共用电极构成三明治结构,所述共用线、所述第一绝缘层与所述漏极构成第二存储电容,且所述漏极、所述第二绝缘层与所述共用电极构成第三存储电容,部分的所述漏极延伸到所述共用线上方、且重叠于所述共用线上方的所述第一绝缘层上。
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