[发明专利]阵列基板和其制造方法以及显示装置有效
| 申请号： | 201210050164.6 | 申请日： | 2012-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN102646717A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 牛菁;刘圣烈 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，提供了一种阵列基板和其制造方法以及显示装置。该阵列基板包括：在基板的一面上依次设置的有源层、第一绝缘层、栅极、栅极绝缘层、像素电极和源漏极；其中，所述第一绝缘层仅仅设置在所述有源层的图案上，所述像素电极与漏极直接电连接。本发明中通过采用半曝光工艺，使得有源层、第一绝缘层以及栅极仅通过一次构图工艺处理制得，而像素电极和栅绝缘层的过孔设置也通过一次构图工艺处理制得，最终整个阵列基板通过3-mask完成，简化了生产工艺。同时采用该工艺可以使漏极与像素电极直接电连接，避免了保护层多个过孔的设置，节约了生产成本并提高了产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 制造 方法 以及 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：在基板的一面上依次设置的有源层、第一绝缘层、栅极、栅极绝缘层、像素电极和源漏极；其中，所述第一绝缘层仅仅设置在所述有源层的图案上，所述像素电极与漏极直接电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210050164.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
