[实用新型]用于真空溅射沉积薄膜的设备

摘要

本实用新型涉及一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台、前负载腔体、主溅射区、后负载腔体、后升降台、外部回送系统，所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元，该回送单元包括回送线支架、回送线平台、回送线传动轴、回送线传动轮、回送线马达，所述的回送线平台置于所述的回送线支架上，所述的回送线传动轴可转动地设置在所述的回送线平台上，所述的回送线传动轮固定安装在所述的回送线传动轴上，所述的回送线传动轴由所述的回送线马达带动传动。本实用新型的优点是：提高了抽气速率及靶极溅射能力，增加了溅射薄膜的厚度，提高了效率，降低了成本。

主权项

1、一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台(1)、前负载腔体(2)、主溅射区、后负载腔体(8)、后升降台(9)、外部回送系统，其特征在于：所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元(10)，该回送单元(10)包括回送线支架(104)、回送线平台(105)、回送线传动轴(102)、回送线传动轮(101)、回送线马达(106)，所述的回送线平台(105)置于所述的回送线支架(104)上，所述的的回送线传动轴(102)可转动地设置在所述的回送线平台(105)上，所述的回送线传动轮(101)固定安装在所述的回送线传动轴(102)上，所述的回送线传动轴(102)由所述的回送线马达(106)带动传动。