[实用新型]用于真空溅射沉积薄膜的设备

权利要求书

1、一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台(1)、前负载腔体(2)、主溅射区、后负载腔体(8)、后升降台(9)、外部回送系统，其特征在于：所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元(10)，该回送单元(10)包括回送线支架(104)、回送线平台(105)、回送线传动轴(102)、回送线传动轮(101)、回送线马达(106)，所述的回送线平台(105)置于所述的回送线支架(104)上，所述的的回送线传动轴(102)可转动地设置在所述的回送线平台(105)上，所述的回送线传动轮(101)固定安装在所述的回送线传动轴(102)上，所述的回送线传动轴(102)由所述的回送线马达(106)带动传动。

2、根据权利要求1所述的用于真空溅射沉积薄膜的设备，其特征在于：所述的各溅射区均包括一个溅射区腔体，所述的溅射区腔体上部设置有靶极组，所述的靶极组包括多个靶材、多个靶材吊环、多个靶材法兰口，所述的靶材位于所述的溅射区腔体内部，所述的靶材吊环与靶材法兰口位于所述的溅射区腔体的外部，所述的溅射区腔体下部设置有内部流通冷却水的多块遮板、溅射区传动轮及传动链条，所述的遮板上具有遮板入水口和遮板出水口，所述的遮板入水口和遮板出水口延伸至所述的溅射区腔体外部，所述的多个溅射区的溅射区腔体是依次相连的。

3、根据权利要求1或2所述的用于真空溅射沉积薄膜的设备，其特征在于：所述的主溅射区设有至少五个溅射区。