[发明专利]布线构造及其形成方法和印刷布线板有效

专利信息
申请号: 200810082834.6 申请日: 2008-02-28
公开(公告)号: CN101257004A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 长瀬健司;川畑贤一 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H01L23/538 分类号: H01L23/538;H01L23/498;H01L21/48;H01L21/60;H05K1/11;H05K3/40
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 刘春成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种能够充分提高被布线体和与其连接的布线图形(层)的连接性的布线构造。半导体内置基板(1)在内芯基板(11)的两面上形成有导电图形(13),并且,在层叠于内芯基板(11)上的树脂层(16)内配置有半导体装置(14)。在树脂层(16)上设有导电图形(13)和半导体装置(14)的凸起(14p),在其上部形成有导通孔(19a、19b)。此外,在导通孔(19a、19b)的内部,导通孔电极部(23a、23b)连接于导电图形(13)和半导体装置(14)的凸起(14p)。导通孔电极部(23a、23b)在上表面具有凹部,并以包括其凹部的边缘部的侧壁不与导通孔(19a、19b)的内部接触的方式而被设置。
搜索关键词: 布线 构造 及其 形成 方法 印刷
【主权项】:
1.一种布线构造,其特征在于,包括:绝缘层,形成有连接孔;被布线体,以至少一部分在所述连接孔的底部露出的方式而配置;以及布线层,在所述连接孔的内部与所述被布线体连接,在该布线层的上表面的至少一部分上具有凹部,并且,以包括该凹部的边缘部的侧壁不与所述连接孔的内壁接触的方式而被设置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810082834.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top