[发明专利]有机真空成膜过程中样品的自动交替镀膜控制装置及方法

摘要

有机真空成膜过程中样品的自动交替镀膜控制装置及方法涉及有机薄膜系统的自动交替控制，该装置包括：单片机与键盘电路(1)、膜厚测量模块(2)、模数转换单元(3)、电磁阀(4)、固体继电器(5)、等效可变电阻电路(6)，整个控制系统主要分为四个功能模块：人机交互、膜厚控制、强弱电转换、样品蒸镀处理。本发明的控制系统实现了镀膜的自动交替控制，并且能够避免有机半导体材料在真空腔内的污染，同时控制系统简便，制造成本低廉。

主权项

1.一种有机真空成膜过程中样品的自动交替镀膜控制装置，其特征在于该装置包括：a.单片机与键盘电路(1)：实现人对单片机的操作，单片机对系统的控制；b.膜厚测量模块(2)：实时测量有机半导体模厚；c.模数转换单元(3)：将膜厚模拟信号转化为数字信号，实时地反馈给单片机；d.电磁阀(4)：将单片机的弱电信号转化为镀膜系统的开关，连接在蒸发源上；e.固体继电器(5)：强弱电转换功能；f.等效可变电阻电路(6)，与镀膜系统加热电阻串联分压，实现对镀膜速率的控制；其中：单片机与键盘电路(1)中单片机的P1.6、P1.7端接等效可变电阻电路(6)的A1、A0端；单片机与键盘电路(1)中单片机的P0.0～P0.7端接模数转换单元(3)，模数转换单元(3)的输入端接膜厚测量模块(2)的输出端，膜厚测量模块(2)的输入端接真空腔(7)采集信号；单片机与键盘电路(1)中单片机的P1.0～P1.5端接固体继电器(5)，固体继电器(5)的输出端分别接真空腔(7)中的电磁阀(4)和蒸发源(8)。