[发明专利]半导体基板洗涤液组合物无效

专利信息
申请号: 200410033493.5 申请日: 2004-04-09
公开(公告)号: CN1542110A 公开(公告)日: 2004-11-03
发明(设计)人: 阿部优美子;石川典夫 申请(专利权)人: 关东化学株式会社
主分类号: C11D7/26 分类号: C11D7/26;H01L21/08
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 过晓东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种洗涤液,其具有从裸硅表面、Low-K膜这样的疏水性表面将粒子除去的高粒子去除能力。本发明通过在诸如草酸的有机酸的水溶液中组合特定的有机溶剂,使洗涤液与疏水性表面的润湿性提高。
搜索关键词: 半导体 洗涤液 组合
【主权项】:
1、一种洗涤液组合物,其用于水滴下时表面的接触角为70度以上的半导体基板的洗涤,所述洗涤液组合物由选自通式[1]所示化合物中1种以上的有机溶剂、脂肪族多元羧酸和水构成,所述洗涤液组合物滴到所述半导体基板上时的接触角为40度以下,R1-O-(-R2-O-)n-R3 [1]其中:R1为碳数1~6的烷基,R2为亚乙基或亚丙基,n为0~4,R3为氢或碳数1~6的烷基。
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