[发明专利]一种光刻胶涂敷装置有效
| 申请号： | 03147269.9 | 申请日： | 2003-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN1570766A | 公开（公告）日： | 2005-01-26 |
| 发明（设计）人： | 陈望生;曾增魁 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李宗明;杨梧 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是提供一种光刻胶涂敷装置，该光刻胶涂敷装置主要包括：一用来放置至少一光刻胶瓶的储存槽，该光刻胶瓶是用来存放该光刻胶涂敷装置运作所需的光刻胶溶剂；一冷却系统，该冷却系统用来冷却该光刻胶瓶内的光刻胶溶剂，使该光刻胶瓶内的光刻胶溶剂保持低温；一升温系统，该升温系统用来加热由该光刻胶瓶输出的光刻胶溶剂至适当温度，以及一自动供墨系统，该自动供墨系统用来吸取与输送该光刻胶溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 胶涂敷 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶涂敷装置，该光刻胶涂敷装置包括：一储存槽，该储存槽用来放置至少一光刻胶瓶，该光刻胶瓶是用来存放该光刻胶涂敷装置运作所需的光刻胶溶剂；一冷却系统，该冷却系统用来冷却该光刻胶瓶内的光刻胶溶剂；一升温系统，该升温系统用来加热该光刻胶溶剂；以及一自动供墨系统，该自动供墨系统用来吸取与输送该光刻胶溶剂。
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- 本实用新型涉及半导体制造的涂胶显影机技术领域，具体为一种涂胶显影机的显影腔体，包括显影外腔体，所述显影外腔体的内部活动套接有显影内腔体，所述显影内腔体靠近上表面的顶端侧面活动连接有涂胶显影吸盘；所述显影内腔体的结构包括有内腔管，所述内腔管靠近下表面的底端侧面固定连接有螺纹环柱；该涂胶显影机的显影腔体中，通过在显影外腔体内设有螺纹槽和在内腔管上设置有螺纹环柱的结构，实现了显影腔体可调控的功能，达到了腔内压强可释放不会损坏腔体的效果，以及通过在内腔管上设置有压力传感器和电动旋转块结构，实现了涂胶腔管对腔内气压进行自动调控的功能，提高了吸附晶圆片的吸附力。
- 一种感光干膜的涂膜装置-202223352441.7
- 禤洁文;周伟林;梁卓权 - 韶关市远望涂料厂有限公司
- 2022-12-13 - 2023-09-19 - G03F7/16
- 本实用新型涉及感光干膜技术领域，公开了一种感光干膜的涂膜装置，包括箱体，其特征在于：所述箱体的固定块，所述固定块的顶部固定连接有升降杆。本实用新型具有以下优点和效果：通过工作人员将感光干膜传送至箱体内部，工作人员通过牵引杆将固定架传送至感光干膜的一端，通过固定夹板架感光干膜固定，对感光干膜进行牵引，通过升降杆伸缩调节滚筒的位置，将感光干膜固定，通过电机转动转动轴带动滚筒，将感光干膜进行传送，当感光干膜传送至涂覆装置底部时，通过调节杆伸缩调节涂覆装置的位置，这样可以更加轻松的对感光干膜进行涂覆，通过伸缩管道和传送管道可以更加轻松的将涂料传送至涂覆装置的内部。
- 疏水承载板及其制备方法、光刻胶旋涂装置和旋涂工艺-202310732901.9
- 陶佳强;李宗怿;梁新夫;潘波 - 长电集成电路（绍兴）有限公司
- 2023-06-19 - 2023-09-12 - G03F7/16
- 本发明提供一种疏水承载板及其制备方法、光刻胶旋涂装置和旋涂工艺，疏水承载板包括：承载板，所述承载板具有相对设置的正面和背面，所述承载板的背面包括适用于固定所述承载板的固定区和环绕所述固定区的疏水处理区；疏水层，位于所述疏水处理区和/或所述承载板的侧壁，且所述疏水层未覆盖所述承载板的正面，所述疏水层背离所述承载板的表面具有疏水面。所述疏水承载板的正面制备得到的光刻胶层厚度均匀性较高且避免光刻胶层爬行到承载板的背面。
- 一种负性光阻层的固化方法-202310700087.2
- 李思拥;曾一鑫 - 信利光电股份有限公司
- 2023-06-13 - 2023-09-12 - G03F7/16
- 本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种负性光阻层的固化方法。所述方法包括：提供待固化负性层的基板，清洗所述基板至洁净；在所述基板上均匀涂覆负性光阻，形成负性光阻层；对所述基板和所述负性光阻层进行预烤；使用UV光通过掩膜板对所述负性光阻层进行曝光；使用碱性显影液对所述负性光阻层进行显影以使负性光阻层形成与所述掩膜板的透光区对应的图案；使用1200‑1300mj/cm2能量的UV光照射所述基板60‑70秒，照射温度35‑40℃；对所述负性光阻层进行高温固化。本申请的负性光阻层的固化方法，在基板上对负性光阻层进行固化时，能够显著提高负性光阻层的附着力，提高最终显示产品的质量和良品率。
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