[发明专利]光敏性树脂组合物有效
| 申请号： | 02814638.7 | 申请日： | 2002-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN1547683A | 公开（公告）日： | 2004-11-17 |
| 发明（设计）人： | H·库拉;H·奥卡;M·奥瓦 | 申请（专利权）人： | 西巴特殊化学品控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/031 | 分类号： | G03F7/031;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵苏林;谭明胜 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光敏性组合物，它包含：(A)在分子中含有至少一个羧酸基团并具有200000或更低分子量的低聚物或聚合物；(B)至少一种式(I)的光引发剂化合物，其中R1是直链或支链C1－C12烷基，R2是直链或支链C1－C4烷基，R3和R4各自独立地是直链或支链C1－C8烷基；和(C)具有至少一个烯属双键的单体、低聚或聚合化合物，该组合物特别适合于制备光刻胶，特别是滤色器。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 树脂 组合 | ||
【主权项】：
1、一种光敏性组合物，它包含：(A)在分子中含有至少一个羧酸基团并具有200000或更低分子量的低聚物或聚合物；(B)至少一种式I的光引发剂化合物：![]()
其中R1是直链或支链C1-C12烷基；R2是直链或支链C1-C4烷基；R3和R4各自独立地是直链或支链C1-C8烷基；和(C)具有至少一个烯属双键的单体、低聚或聚合化合物。
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