[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法

摘要

因为采用了将在常压下形成层间绝缘膜的第一处理单元组，和在真空或者加压下进行如电子射线或紫外线照射、CVD、或者洗净处理等的第二处理单元组设置成一体的结构，所以，尤其能够缩短金属镶嵌工序的处理时间，能够减少每个处理能力所占用的面积。同时，由于缩短了处理时间，因此，例如，即使在采用多孔膜作为绝缘膜的情况下，也能够防止因吸收大气中的水分而使膜的质量恶化，从而能够形成质量良好的绝缘膜。

主权项

1.一种衬底处理装置，其特征在于，具有：存放盒站，配有多个存放衬底的存放盒；第一处理单元组，与所述存放盒站相邻而设，配有多个第一处理单元，所述第一处理单元在常压下，在衬底上形成绝缘膜；第一运送单元，对所述多个第一处理单元进行衬底的运送；第二处理单元组，配有多个第二处理单元，所述第二处理单元，在真空或者加压条件下，对已经形成所述绝缘膜的衬底进行处理；多个装载锁定室，分别与所述多个第二处理单元连接，能够控制内部压力；第二运送单元，在所述第一处理单元组和所述多个装载锁定室之间进行衬底的运送。