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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]脉冲光束的光谱特征选择和脉冲时序控制-CN201980023674.4有效
发明人： K·M·奥布里恩;T·P·达菲;J·J·索内斯 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2019-03-01 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：一种方法包括：在以脉冲重复率产生脉冲突发的同时，以与脉冲重复率相关的频率在一组离散状态之间驱动光谱特征调节器；以及在脉冲突发的产生之间(在没有脉冲产生的同时)之间，根据由一组参数限定的驱动信号来驱动光谱特征调节器。每个离散状态对应于光谱特征的离散值。该方法包括当通过调节以下中的一项或多项来产生下一突发中的脉冲时，通过调节以下中的一项或多项来确保当产生下一突发中的脉冲时光谱特征调节器处于离散状态中的、与放大光束的光谱特征的离散值相对应的一个离散状态中：给光刻曝光装置的指令、给光谱特征调节器的驱动信号、和/或给光源的指令。
脉冲光束光谱特征选择时序控制

[发明专利]感测氟浓度的装置和方法-CN202211573745.8在审
发明人： T·P·达菲 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2018-07-10 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G01N29/24 文献下载
摘要：本发明的实施例涉及用于测量在准分子激光器中使用的激光气体中的F2的浓度的装置和方法。在一个或多个实施例中，使用石英增强光声光谱法以仅使用少样品量快速地获取F2浓度的直接测量。
感测氟浓度装置方法

[发明专利]感测氟浓度的装置和方法-CN201880045530.4有效
发明人： T·P·达菲 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2018-07-10 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：本发明的实施例涉及用于测量在准分子激光器中使用的激光气体中的F2的浓度的装置和方法。在一个或多个实施例中，使用石英增强光声光谱法以仅使用少样品量快速地获取F2浓度的直接测量。
感测氟浓度装置方法

[发明专利]用于光谱特征计量的光束均匀化-CN201780070823.3有效
发明人：赵中全;B·E·金;T·P·达菲 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2017-10-23 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： G01J3/45 文献下载
摘要：一种计量系统用于测量脉冲光束的光谱特征。计量系统包括：在脉冲光束的路径中的光束均化器，光束均化器具有波前修改单元的阵列，每个单元具有与光束的至少一个空间模式的尺寸相匹配的表面积；在离开光束均化器的脉冲光束的路径中的光学频率分离装置，其中光学频率分离装置被配置为与脉冲光束交互并且输出与脉冲光束的光谱分量相对应的多个空间分量；以及接收并且感测输出空间分量的至少一个传感器。
用于光谱特征计量光束均匀

[发明专利]具有独立电压和定时控制并降低功耗的双脉冲功率系统-CN202080091291.3在审
发明人： P·C·梅尔彻;T·P·达菲;W·D·吉莱斯皮 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H01S3/104 文献下载
摘要：提供了用于控制包括两个激光放电腔室的激光源的系统、设备、方法和计算机程序产品。示例激光控制系统可以包括第一脉冲动力系，该第一脉冲动力系包括被配置为生成第一谐振充电供应(RCS)输出电压的第一独立电路。第一RCS输出电压可以被配置为驱动第一激光放电腔室。示例激光控制系统还可以包括第二脉冲动力系，该第二脉冲动力系包括被配置为生成独立于第一RCS输出电压的第二RCS输出电压的第二独立电路。第二RCS输出电压可以被配置为驱动独立于第一激光放电腔室的第二激光放电腔室。
具有独立电压定时控制降低功耗脉冲功率系统

[发明专利]辐射源测试-CN202080076759.1在审
发明人： R·A·布尔德特;T·P·达菲 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种生成用于辐射源的测试的方法，该辐射源用于光刻设备，该方法包括以下步骤：接收与辐射源的多个发射图案相对应的数据。该方法还包括以下步骤：分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，该一个或多个另外的发射图案用于测试辐射源。参数被确定为：使得辐射源当执行使用参数所配置的一个或多个另外的发射图案时的稳定性与辐射源当执行多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于辐射源当执行多个发射图案时的稳定性的预定界限内。另外，参数被确定为：使得一个或多个另外的发射图案当由辐射源执行时的总持续时间将小于多个发射图案当由辐射源执行时的持续时间。
辐射源测试

[发明专利]用于DUV光源中的逐脉冲波长目标跟踪的波长控制系统-CN201780075020.7有效
发明人： R·阿拉瓦特;T·P·达菲 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：步进扫描器中的晶片定位误差会导致成像缺陷。改变光源的生成的光的波长可以补偿Z方向上的晶片位置误差。确定晶片的实时z位置，并且将用于抵消该误差的波长目标的变化传送给光源。除了接收新指定的激光波长目标以用于后续激光脉冲突发之外，光源在前馈操作中使用波长目标的这种变化，并且在一个实施例中还结合现有的反馈操作，逐脉冲地针对当前脉冲突发中的后续脉冲。
用于 duv 光源中的脉冲波长目标跟踪控制系统

[发明专利]光刻光学器件调节和监测-CN202111225946.4在审
发明人： T·F·A·小毕比;O·祖里塔;A·苏布拉马尼安;T·P·达菲;K·K·塔鲍布;R·罗基斯基;D·J·哈兰;J·J·索内斯 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2017-06-29 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于处理由光学系统生成的光束的图像以提取指示光学系统中的光学元件的损坏程度的信息的方法和设备。还公开了一种能够在多个位置中的任何一个位置处获取光束的图像的光束图像和分析工具。
光刻光学器件调节监测

[发明专利]用于多个深紫外光学振荡器的控制系统-CN202080037757.1在审
发明人：赵颖博;W·D·吉莱斯皮;J·J·索内斯;T·P·达菲;E·A·梅森 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2020-05-15 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种深紫外(DUV)光学系统，包括：光源系统，包括：多个光学振荡器；束组合器；以及在所述光学振荡器与所述束组合器之间的束控制装置。所述束组合器被配置为接收并朝向扫描器装置引导从所述光学振荡器中的任何光学振荡器发出的光作为曝光光束，并且所述束控制装置被配置为确定所述束组合器是否从所述光学振荡器中的特定光学振荡器接收光。所述DUV光学光刻系统还包括控制系统，被耦合到所述光源系统，所述控制系统被配置为：确定在所述DUV光学系统中是否存在条件，并且基于所述存在条件的确定，在所述光学振荡器的子集中执行校准动作。
用于深紫光学振荡器控制系统

[发明专利]生成多个激光束的设备和方法-CN202080037257.8在审
发明人： W·D·吉莱斯皮;J·J·索内斯;T·P·达菲;E·A·梅森;R·波德尔 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2020-05-15 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： H01S3/0943 文献下载
摘要：使用多个激光室生成多个激光束的设备和方法。射束的相对定时是可控的，因此它们可以例如交错，可以重叠，或者被防止重叠，或者可以快速次序发生。射束可以具有不同光谱和功率特性，诸如不同波长。还公开了一种系统，其中多个激光室中的至少一个激光室被配置为生成两个不同波长的辐射。
生成激光束设备方法

[发明专利]减少准分子光源中的散斑-CN202111015096.5在审
发明人： T·P·达菲;F·埃弗茨;B·E·金;J·J·索内斯;W·P·E·M·奥普特鲁特;H·P·戈德弗里德 -专利权人：西默有限公司;ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-12-04 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种减少准分子光源中的散斑的方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第二时间相干长度定义的第二时间相干性的修改的脉冲，该第二时间相干长度小于脉冲的第一时间相干长度；至少从修改的脉冲形成脉冲光束；并且将形成的脉冲光束朝向光刻曝光设备内的衬底引导。
减少分子光源中的

[发明专利]光刻光学器件调节和监测-CN201780042691.3有效
发明人： T·F·A·小毕比;O·祖里塔;A·苏布拉马尼安;T·P·达菲;K·K·塔鲍布;R·罗基斯基;D·J·哈兰;J·J·索内斯 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2017-06-29 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于处理由光学系统生成的光束的图像以提取指示光学系统中的光学元件的损坏程度的信息的方法和设备。还公开了一种能够在多个位置中的任何一个位置处获取光束的图像的光束图像和分析工具。
光刻光学器件调节监测

[发明专利]减少准分子光源中的散斑-CN201780083474.9有效
发明人： T·P·达菲;F·埃弗茨;B·E·金;J·J·索内斯;W·P·E·M·奥普特鲁特;H·P·戈德弗里德 -专利权人：西默有限公司;ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-12-04 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第二时间相干长度定义的第二时间相干性的修改的脉冲，该第二时间相干长度小于脉冲的第一时间相干长度；至少从修改的脉冲形成脉冲光束；并且将形成的脉冲光束朝向光刻曝光设备内的衬底引导。
减少分子光源中的

[发明专利]调节光束的相干量-CN202011182770.4在审
发明人： T·F·A·毕比;J·J·索内斯;R·罗基斯基;T·P·达菲 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2017-08-17 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G01J11/00 文献下载
摘要：用于控制光学系统的技术包括访问从光学系统发射的脉冲光束的特定脉冲的属性的测量值，该属性与光束的相干量有关；将光束的属性的测量值与属性的目标值进行比较；基于比较确定是否生成控制信号；并且如果基于比较生成控制信号，则通过基于控制信号修改光学系统的方面来调节光束中的相干量，以减少特定脉冲之后的脉冲的相干量。
调节光束相干

[发明专利]用于延长激光室中电极寿命的方法和装置-CN201880069267.2在审
发明人： T·P·达菲;P·C·梅尔彻;W·D·吉莱斯皮 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2018-10-09 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： H01S3/225 文献下载
摘要：本文公开了用于延长激光放电室的使用寿命的方法和装置，在该激光放电室中，定位在放电室内固定位置处的电极的极性相对于限定与第一电极的放电间隙的第二电极的极性为正，并且第一电极由当使用第一电极作为阳极时形成抗腐蚀表面的材料制成。本文还公开了一种布置，其中第一电极相对于第二电极可定位，第一电极限定与第二电极的放电间隙，并且第一电极的位置被控制为将间隙的宽度维持在预定范围内。
用于延长激光电极寿命方法装置

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