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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于DUV光源中的逐脉冲波长目标跟踪的波长控制系统-CN201780075020.7有效
发明人： R·阿拉瓦特;T·P·达菲 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：步进扫描器中的晶片定位误差会导致成像缺陷。改变光源的生成的光的波长可以补偿Z方向上的晶片位置误差。确定晶片的实时z位置，并且将用于抵消该误差的波长目标的变化传送给光源。除了接收新指定的激光波长目标以用于后续激光脉冲突发之外，光源在前馈操作中使用波长目标的这种变化，并且在一个实施例中还结合现有的反馈操作，逐脉冲地针对当前脉冲突发中的后续脉冲。
用于 duv 光源中的脉冲波长目标跟踪控制系统

[发明专利]补偿由重复率偏差引起的波长误差的方法-CN202080052966.3在审
发明人：邓国泰;R·阿拉瓦特 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2020-06-25 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于控制辐射脉冲的辐射系统包括：被配置为与辐射脉冲相互作用以控制辐射脉冲的特性的光学元件；被配置为根据从控制器接收的控制信号致动光学元件的致动器，控制信号至少部分地取决于辐射系统的参考脉冲重复率；以及被配置为从控制器接收脉冲信息并且使用脉冲信息确定对控制信号的调节的处理器。辐射系统可以用于提高以多焦点成像模式操作的光刻设备的精度。
补偿重复偏差引起波长误差方法

[发明专利]用于调制光源波长的设备和方法-CN202080035506.X在审
发明人：邓国泰;R·阿拉瓦特;P·福祖恩玛耶 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2020-05-11 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H01S3/1055 文献下载
摘要：用于控制激光系统的设备和方法，该激光系统能够生成具有多个交替波长的激光辐射的脉冲的脉冲串，其中控制波长的元件被预定位在脉冲串之间，以处于其产生一个波长的位置与其产生另一波长的位置之间波长。还公开了一种使用二次规划、动态规划、反向前馈控制或迭代学习控制来确定元件在位置之间移动的最佳控制波形的系统。诸如预填充的查找表或现场可编程门阵列的数据存储装置可以用于针对多个重复速率中的每个重复速率存储至少一个最佳控制参数。
用于调制光源波长设备方法

[发明专利]针对光学源中的干扰的补偿-CN201910744324.9有效
发明人： R·阿拉瓦特 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2015-12-03 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：接收从光学源发射的脉冲光束，脉冲光束与时间重复率相关联；确定光学源中的干扰的频率，频率是随着脉冲光束的时间重复率变化的混叠频率；基于混叠频率生成校正波形；以及通过基于生成的校正波形修改脉冲光束的特性来补偿光学源中的干扰。
针对光学中的干扰补偿

[发明专利]脉冲光束频谱特征控制-CN201911099274.X有效
发明人： K·M·奥布里恩;R·阿拉瓦特 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2016-06-14 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本公开的实施例涉及脉冲光束频谱特征控制。一种系统包括：耦合到光源的第一可致动装置的第一致动模块，所述第一可致动装置由所述第一致动模块更改以调整脉冲光束的频谱特征；耦合到所述光源的第二可致动装置的第二致动模块，所述第二可致动装置由所述第二致动模块更改以调整所述脉冲光束的频谱特征；以及控制系统，被配置为接收关于所述第一可致动装置的操作状态的指示，并且向第二致动模块发送信号以调整脉冲光束的频谱特征，从而：基于第一可致动装置的操作状态防止第一可致动装置饱和，或者如果第一可致动装置饱和则将第一可致动装置去饱和。
脉冲光束频谱特征控制

[发明专利]气体放电光源中的气体混合物控制-CN202011111824.8在审
发明人： R·阿拉瓦特;T·亚加瓦尔 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： H01S3/036 文献下载
摘要：本公开涉及气体放电光源中的气体混合物控制。气体放电光源包括气体放电系统，其包括一个或多个气体放电室。气体放电系统中的每个气体放电室填充有相应的气体混合物。对于每个气体放电室，通过激活其相关联的能量源来将脉冲能量供应给相应的气体混合物，从而从气体放电室产生脉冲放大的光束。确定气体放电系统的一个或多个属性。基于确定的气体放电系统的一个或多个属性，从多个可能的方案中选择气体维护方案。选择的气体维护方案被应用于气体放电系统。气体维护方案包括与将一种或多种补充气体混合物添加到气体放电系统的气体放电室有关的一个或多个参数。
气体放电光源中的混合物控制

[发明专利]气体放电光源中的气体混合物控制-CN201680081010.X有效
发明人： R·阿拉瓦特;T·亚加瓦尔 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： H01S3/036 文献下载
摘要：气体放电光源包括气体放电系统，其包括一个或多个气体放电室。气体放电系统中的每个气体放电室填充有相应的气体混合物。对于每个气体放电室，通过激活其相关联的能量源来将脉冲能量供应给相应的气体混合物，从而从气体放电室产生脉冲放大的光束。确定气体放电系统的一个或多个属性。基于确定的气体放电系统的一个或多个属性，从多个可能的方案中选择气体维护方案。选择的气体维护方案被应用于气体放电系统。气体维护方案包括与将一种或多种补充气体混合物添加到气体放电系统的气体放电室有关的一个或多个参数。
气体放电光源中的混合物控制

[发明专利]气体放电光源中的氟检测-CN201880062088.6在审
发明人： J·J·索内斯;R·阿拉瓦特;E·S·罗;G·G·帕德玛班杜 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： G01N31/00 文献下载
摘要：一种装置包括：气体维持系统，具有被流体地连接到一个或多个气体放电腔室的气体供应系统；检测装置，被流体地连接到每个气体放电腔室；以及控制系统，被连接到气体维持系统和检测装置。检测装置包括：限定反应腔的容器，容纳金属氧化物并且被流体地连接到气体放电腔室，以用于在反应腔中从气体放电腔室接收包括氟的混合气体，容器使得能够在所接收的混合气体的氟与金属氧化物之间起反应以形成包括氧气的新气体混合物；以及氧气传感器，被流体地连接到新气体混合物以感测新气体混合物内的氧气的量。控制系统被配置为估计所接收的混合气体中的氟的浓度。
气体放电光源中的检测

[发明专利]用于光源的波长稳定化-CN201680027079.4有效
发明人： R·阿拉瓦特 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2016-03-18 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： H01S3/13 文献下载
摘要：确定针对从光源发射的第一脉冲子集中的每个脉冲的波长误差，波长误差是针对特定脉冲的波长与目标波长之间的差异；基于所确定的波长误差来确定逐脉冲校正信号，该逐脉冲校正信号包括与第一脉冲子集中的每个脉冲相关联的校正信号；以及将基于所确定的逐脉冲校正信号的校正应用到从光源发射的第二脉冲子集中的每个脉冲，其中对第二脉冲子集中的脉冲应用校正降低了第二脉冲子集中的脉冲的波长误差。
用于光源波长稳定

[发明专利]脉冲光束频谱特征控制-CN201680037721.7有效
发明人： K·M·奥布里恩;R·阿拉瓦特 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2016-06-14 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：一种系统包括：耦合到光源的第一可致动装置的第一致动模块，所述第一可致动装置由所述第一致动模块更改以调整脉冲光束的频谱特征；耦合到所述光源的第二可致动装置的第二致动模块，所述第二可致动装置由所述第二致动模块更改以调整所述脉冲光束的频谱特征；以及控制系统，被配置为接收关于所述第一可致动装置的操作状态的指示，并且向第二致动模块发送信号以调整脉冲光束的频谱特征，从而：基于第一可致动装置的操作状态防止第一可致动装置饱和，或者如果第一可致动装置饱和则将第一可致动装置去饱和。
脉冲光束频谱特征控制

[发明专利]针对光学源中的干扰的补偿-CN201580066989.9有效
发明人： R·阿拉瓦特 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2015-12-03 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：接收从光学源发射的脉冲光束，脉冲光束与时间重复率相关联；确定光学源中的干扰的频率，频率是随着脉冲光束的时间重复率变化的混叠频率；基于混叠频率生成校正波形；以及通过基于生成的校正波形修改脉冲光束的特性来补偿光学源中的干扰。
脉冲光束光学源时间重复校正波形混叠频率生成关联发射

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