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[发明专利]载物台、台式设备、保持方法和光刻设备-CN202180066969.7在审
发明人： M·M·A·斯特尔;B·简森;A·B·珍宁科;J·A·C·M·皮耶宁堡 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供了一种载物台，所述载物台包括：‑保持表面，所述保持表面用于保持物体；‑致动器装置，所述致动器装置被配置成在所述物体上施加保持力以将所述物体保持到所述保持表面；由此，所述致动器装置被进一步配置成在所述物体被保持到所述保持表面的同时，通过将所述物体的多个部分与所述保持表面顺序地分离和重新附接而减小由所述保持力在所述物体中引起的应变。
载物台台式设备保持方法光刻

[发明专利]物体保持器、静电片和制造静电片的方法-CN202180040857.4在审
发明人： B·L·W·M·范德文;K·范贝尔克;M·A·范德柯克霍夫;R·F·M·M·哈梅林克;沙哈布·谢尔文;M·A·C·费许伦;J·B·C·恩格伦;M·克鲁兹恩卡;塔莫·伊特尔迪克;奥列克西·谢尔吉约维奇·加拉克提诺夫;K·G·H·詹森;J·A·C·M·皮耶宁堡;彼得·范德尔夫特 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种配置成支撑物体的物体保持器，所述物体保持器包括：芯部本体，所述芯部本体包括多个突节，所述多个突节具有位于支撑平面中以用于支撑所述物体的远侧端部；静电片，所述静电片位于所述突节之间，所述静电片包括被夹在介电层之间的电极；以及周向屏障，所述周围屏障用于减小从所述物体与所述芯部本体之间的空间逃逸的气体的流出量。
物体保持静电制造方法

[发明专利]物体保持器、工具和制造物体保持器的方法-CN202180020908.7在审
发明人： B·L·W·M·范德文;J·B·C·恩格伦;A·W·诺滕博姆;J·V·奥沃卡姆普;K·G·H·詹森;J·A·C·M·皮耶宁堡;J·范杜凡波第;E·J·聂文辉;K·范贝尔克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种被配置成支撑物体的物体保持器，所述物体保持器包括：芯体，所述芯体包括多个突节，所述多个突节具有位于支撑平面中以用于支撑所述物体的远端；和静电片，所述静电片位于所述突节之间，所述静电片包括被夹在介电层之间的电极；其中，所述静电片通过具有至少100nm的厚度的结合材料结合至所述芯体。
物体保持工具制造方法

[发明专利]用于表征图案形成装置的测量系统和方法-CN202080068963.9在审
发明人： A·B·杰尤恩克;E·H·E·C·奥姆梅伦;拜尔拉克·摩艾斯特;赫敏·福肯·彭;德克·昂科;J·A·C·M·皮耶宁堡 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种用于确定图案形成装置的表面参数的方法，包括以下步骤：使用第一测量系统相对于曝光辐射束的路径定位所述图案形成装置；将所述图案形成装置设置在布置于第二测量系统中的色差透镜的第一焦平面处；用穿过所述色差透镜的辐射照射所述图案形成装置的表面的一部分，其中所述辐射包括多个波长；确定所述图案形成装置的被照射的部分在第一方向和第二方向上的位置；通过所述色差透镜收集由所述图案形成装置反射的辐射的至少一部分；测量辐射的被收集的部分的作为波长的函数的强度，以获得被照射的区域的光谱信息；和根据所述光谱信息确定所述图案形成装置在所确定的位置处的所述表面参数。
用于表征图案形成装置测量系统方法

[发明专利]系统、光刻设备和减少衬底支撑件上的氧化或去除衬底支撑件上的氧化物的方法-CN201880044201.8有效
发明人： L·H·J·斯特文斯;N·V·德兹沃姆基娜;L·M·费尔南德斯迪亚兹;J·A·C·M·皮耶宁堡 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-06-08 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种系统，包括：衬底支撑件，所述衬底支撑件配置成保持衬底；导电或半导电元件，所述导电或半导电元件与衬底支撑件接触并覆盖衬底支撑件的至少一部分；和充电装置，所述充电装置配置成相对于衬底支撑件的被导电或半导电元件覆盖的部分向所述导电或半导电元件施加正电位。
系统光刻设备减少衬底支撑氧化去除氧化物方法

[实用新型]衬底台、光刻设备和液体限制系统-CN201922170733.0有效
发明人： T·波耶兹;B·D·斯霍尔滕;D·W·哈伯特;L·H·J·斯蒂文斯;L·M·费尔南德斯迪亚兹;J·A·C·M·皮耶宁堡;A·A·索图特;W·J·J·韦尔特斯;J·M·W·范德温克尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-12-06 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种衬底台、一种光刻设备和一种液体限制系统。提供了一种用于浸没系统的衬底台，所述浸没系统包括：投影系统，布置成将图像投影到衬底上；和液体限制系统，配置成将浸没液体限制在所述投影系统和所述衬底之间的空间中。所述衬底台包括：衬底保持器，配置成保持衬底；和电流控制装置，布置成在所述浸没液体被限制在所述空间中的同时减小在所述衬底和所述衬底保持器之间流动的电流。
衬底光刻设备液体限制系统

[发明专利]辐射源-CN201880060612.6在审
发明人： A·M·雅库尼恩;J·A·C·M·皮耶宁堡;C.G.N.H.M.柯林 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种辐射源配置成提供EUV辐射，所述辐射源包括燃料发射器和激光系统。燃料发射器配置成将燃料目标提供至等离子体形成区。激光系统被配置为当燃料目标位于等离子体形成区时用激光辐射照射燃料目标，以便将燃料目标的一部分转换成等离子体。特别地，激光系统配置成使得在垂直于激光辐射的传播方向的平面中，燃料目标处的激光辐射的横截面小于转换成等离子体的燃料目标的部分的横截面。这种辐射源提供相对于已知的激光产生等离子体(LPP)源具有改良的转换效率的激光产生等离子体源。
辐射源

[发明专利]冷却设备和用于冷却设备的等离子体清洁站-CN201880055596.1在审
发明人： A·H·考沃埃特斯;C·A·德迈耶雷;W·M·德拉佩尔;S·N·L·多纳斯;J·格勒沃尔德;A·L·C·勒鲁;M·A·纳萨莱维奇;A·尼基帕罗夫;J·A·C·M·皮耶宁堡;J·C·G·范德尔桑登 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：投影系统，配置成投影图案化辐射束以在衬底上形成曝光区域；冷却设备，在使用时位于所述衬底上方并且邻近于所述曝光区域，所述冷却设备配置成在使用期间从所述衬底去除热量；等离子体容器，位于所述冷却设备下方且所述等离子体容器的开口面朝所述冷却设备；以及用于将气体供应至所述等离子体容器的气体供应件和用于接收辐射束的孔。在使用时，所供应的气体与所接收的辐射束反应以在所述等离子体容器内形成等离子体，所述等离子体被引导朝向面向所述等离子体容器的开口的所述冷却设备的表面。
冷却设备用于等离子体清洁

[发明专利]清除方法、显露装置、光刻设备和器件制造方法-CN201880044464.9在审
发明人： A·B·珍宁科;V·沃罗尼纳;T·朱兹海妮娜;B·彼得森;J·A·C·M·皮耶宁堡 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-05-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于显露由层覆盖的衬底上的传感器目标的方法，所述方法包括以下步骤：确定所述衬底上的具有良率目标部分的第一区域的部位和所述衬底上的具有非良率目标部分的第二区域的部位；至少部分去除覆盖所述第二区域中的特征的所述层的特征区以显露出所述第二区域中的特征；测量所述第二区域中的被显露出的传感器特征的部位；基于所述第二区域中的被显露出的传感器特征的被测量的部位确定所述第一区域中的传感器目标的部位；和使用所述第一区域中的传感器目标的被确定的部位至少部分去除覆盖所述第一区域中的所述传感器目标的所述层的传感器目标区。
清除方法显露装置光刻设备器件制造

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