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[发明专利]光学元件、辐射系统及光刻系统-CN201910106311.9有效
发明人： R·栋克尔;E·鲁普斯特拉;H-K·尼恩惠斯;B·克鲁兹卡 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-09-24 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种光学元件、辐射系统及光刻系统。该光学元件包括：主体；反射性表面，所述反射性表面设置于所述主体上以用于接收辐射束以便形成束斑区域和反射的辐射束；和移动机构，所述移动机构能够操作以移动所述主体使得所述束斑区域遵循周期性路径在所述反射性表面上移动，并且所述反射的辐射束的方向实质上保持不变；用于更改所述反射性表面的曲率的变形机构，其中所述变形机构被布置成更改所述反射性表面的所述曲率以便至少部分地校正由入射于所述反射性表面上的所述辐射束所导致的所述反射性表面的曲率。
光学元件辐射系统光刻

[发明专利]光刻方法和光刻系统-CN201810873364.9有效
发明人： A·尼基佩洛维;W·恩格伦;J·艾科曼斯;E·鲁普斯特拉;O·弗里吉恩斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-06-17 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图案化光刻衬底的方法，该方法包括使用自由电子激光器(FEL)以产生EUV辐射并且输送EUV辐射至将EUV辐射投影至光刻衬底上的光刻设备(LA)，其中该方法进一步包括通过使用基于反馈的控制回路(CT)以监测自由电子激光器并相应地调整自由电子激光器的操作从而减少输送至光刻衬底的EUV辐射功率的波动。
光刻方法系统

[发明专利]多层反射镜-CN201710699731.3有效
发明人： A·亚库宁;V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;H·范德斯库特;L·史蒂文斯;M·范卡朋 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-03-17 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种多层反射镜，所述多层反射镜包括作为最外层的石墨烯。
多层反射

[发明专利]光谱纯度滤光片-CN201610210083.6有效
发明人： A·亚库宁;V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;H·范德斯库特;L·史蒂文斯;M·范卡朋 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-03-17 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光谱纯度滤光片，所述光谱纯度滤光片包括石墨烯。
光谱纯度滤光

[发明专利]光刻设备、器件制造方法和计算机程序-CN201280057705.6有效
发明人： P·提奈马恩斯;A·布里克尔;E·鲁普斯特拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-11-06 - 公布日： 2019-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及参照部位的位置和/或旋转确定用于照射目标上的多个部位的多个束的强度值。此外提供相关的光刻或曝光设备，相关的器件制造方法和相关的计算机程序。
光刻设备器件制造方法计算机程序

[发明专利]束传输设备和方法-CN201480063035.8有效
发明人： V·班尼恩;P·巴特瑞;R·范格尔库姆;L·阿门特;彼得·德亚格尔;G·德维里斯;R·栋克尔;W·恩格尔伦;O·弗里基恩斯;L·格瑞米克;A·卡塔伦尼克;E·鲁普斯特拉;H-K·尼恩惠斯;A·尼基帕罗夫;M·瑞肯斯;F·詹森;B·克鲁兹卡 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-09-24 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
传输设备方法

[发明专利]光刻方法和光刻系统-CN201480034718.0有效
发明人： A·尼基佩洛维;O·弗里吉恩斯;G·德弗里斯;E·鲁普斯特拉;V·巴尼内;P·德加格;R·唐克;H-K·尼恩海斯;B·克瑞金加;W·恩格伦;O·鲁伊藤;J·艾科曼斯;L·格里敏克;V·里特维南科 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-06-17 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图案化光刻衬底的方法，该方法包括使用自由电子激光器(FEL)以产生EUV辐射并且输送EUV辐射至将EUV辐射投影至光刻衬底上的光刻设备(LA)，其中该方法进一步包括通过使用基于反馈的控制回路(CT)以监测自由电子激光器并相应地调整自由电子激光器的操作从而减少输送至光刻衬底的EUV辐射功率的波动。
光刻方法系统

[发明专利]光刻方法和设备-CN201380048627.8有效
发明人： E·鲁普斯特拉;J·范斯库特;T·森吉尔斯;C·瓦伦汀;A·范帝杰赛欧东克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2013-09-17 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种使用EUV光刻设备在衬底上曝光图案化区域的方法，该光刻设备具有至少大约5倍的缩小率和至少大约0.4的数值孔径，所述方法包括步骤：使用第一曝光在衬底上曝光图案化区域的第一部分，第一部分具有比常规曝光的尺寸明显小的尺寸；和使用一次或更多次附加曝光在衬底上曝光图案化区域的一个或多个附加部分，所述一个或多个附加部分的尺寸比常规曝光的尺寸明显小。所述方法还包括重复以上步骤以在衬底上曝光第二图案化区域，该第二图案化区域设置有与第一图案化区域相同的图案，其中第一图案化区域的中心点与第二图案化区域的中心点之间的距离与常规曝光的尺寸对应。
图案化区域曝光衬底曝光图案中心点方法和设备光刻设备数值孔径尺寸比缩小率光刻图案重复

[发明专利]用于EUV掩模版的表膜和多层反射镜-CN201410077948.7有效
发明人： A·亚库宁;V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;H·范德斯库特;L·史蒂文斯;M·范卡朋 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-03-17 - 公布日： 2017-08-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于EUV掩模版的表膜、多层反射镜和光刻设备，该光刻设备包括辐射源，配置成产生辐射束；和支撑件，配置成支撑图案形成装置。所述图案形成装置配置成将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束。腔定位在辐射源和图案形成装置之间。所述腔包含配置成反射辐射束的至少一个光学部件，所述腔配置成允许来自辐射源的辐射通过其中。隔膜（44）配置成允许辐射束通过并阻止污染物颗粒（54）通过隔膜的管道。颗粒捕获结构（52）配置成允许气体沿间接路径从腔内部流至腔外部。间接路径配置成基本上阻止污染物颗粒（58）从腔内部到达腔外部。
用于 euv 模版多层反射

[发明专利]用于光刻设备的投影系统、反射镜和辐射源-CN201380071158.1在审
发明人： M·范德克尔克霍夫;A·范欧斯腾;H·巴特勒;E·鲁普斯特拉;M·范德威吉斯特;K·扎尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2013-12-12 - 公布日： 2015-12-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减，并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
用于光刻设备投影系统反射辐射源

[发明专利]辐射源-CN201280040931.3在审
发明人： A·凯姆鹏;E·鲁普斯特拉;C·伦特罗普;D·德格拉夫;F·古贝尔斯;G·R·海斯;H·J·范德维尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-07-27 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：辐射源，具有：喷嘴，喷嘴配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流；和激光器，配置成将激光辐射引导至等离子体形成位置以在使用中生成用于生成辐射的等离子体。喷嘴具有内表面，所述内表面配置成防止在用以形成燃料液滴的燃料中存在的污染被沉积在该内表面上。
辐射源

[发明专利]辐射源和光刻设备-CN201280040912.0无效
发明人： C·华格纳;E·鲁普斯特拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-07-27 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：辐射源，包括：喷嘴，配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴（400）的束流；和激光器，配置成引导激光辐射至等离子体形成位置以在等离子体形成位置将燃料液滴转化为等离子体。激光器包括放大器（310、320）和光学元件（500），该光学元件配置成限定辐射通过放大器的发散束路径。
辐射源光刻设备

[发明专利]辐射源-CN201180072807.0有效
发明人： A·凯姆鹏;E·鲁普斯特拉;C·瓦格纳;H·泰根博世;G·斯温克尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-12-13 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种辐射源包括：喷嘴，配置成沿着轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴（30）的流；激光器，配置成输出激光辐射，所述激光辐射在等离子体形成位置处被引导到燃料液滴上以在使用中生成用于产生辐射的等离子体；和捕捉装置，配置成捕捉穿过等离子体形成位置的燃料液滴，所述捕捉装置包括：容器（40），被配置成容纳流体（42）；驱动器（44），被配置成驱动所述流体以使得流体移动；所述捕捉装置被配置成使得燃料液滴入射到移动的流体上。
辐射源

[发明专利]辐射源和用于光刻设备的方法和器件制造方法-CN201280036635.6有效
发明人： E·鲁普斯特拉;J·迪吉克斯曼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-07-04 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：用于通过LPP（激光产生等离子体）或DLP（双激光等离子体）从熔融的燃料液滴的束流产生EUV的辐射源具有布置成提供燃料(314)液滴的束流的燃料液滴产生装置和配置成汽化燃料的所述液滴中的至少一些以产生辐射的至少一个激光器。燃料液滴产生装置包括：喷嘴(301)、馈送室和贮液器(303)，其中泵送装置布置成将熔融状态下的燃料流从贮液器通过馈送室供给并作为液滴的束流排出喷嘴。馈送室具有与填充有液体的驱动腔(310)接触的外表面，并且液体布置成能够被驱动以由振动器(311)震荡，其中该震荡可以通过液体从馈送室的外表面传输至馈送室内的熔融燃料。该布置允许振荡驱动喷嘴馈送室以控制燃料束流破碎成液滴，而不需要振动器和燃料喷嘴馈送室之间的直接接触。这可以减少通过接触失效从振动器至馈送室的传输损失，并且可以允许在冷却位置远程定位振动器用于有效操作。
辐射源用于光刻设备方法器件制造

[发明专利]静电夹具设备和光刻设备-CN201280011710.3有效
发明人： V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;T·凯蒂;J·阿克曼斯;L·斯卡克卡巴拉兹;C·L·瓦伦汀 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-01-18 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种静电夹具设备(500)，构造用以支撑光刻设备的图案形成装置(505)，所述静电夹具设备包括支撑结构，所述图案形成装置被抵靠所述支撑结构支撑；用于在支撑结构和图案形成装置之间提供夹持力的夹持电极(525)；和电容传感器阵列(660)，能够操作用以测量所述图案形成装置的形状。
静电夹具设备光刻

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