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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]辐射源-CN201380026022.9有效
发明人： J·范斯库特;A·凯姆鹏;H·克鲁威尔;A·M·雅库尼恩 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2013-04-29 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种用于生成适于在光刻设备中使用的EUV辐射的辐射源，所述辐射源包括激光器，配置成用激光脉冲照射被供给燃料液滴的束流的目标区域。燃料液滴可以是锡液滴，其在被激光束激发时发射EUV辐射。EUV辐射通过收集器收集。锡液滴可以在主激光脉冲之前被激光预脉冲预调节，其目的在于改变液滴的形状，使得它们处于用于接收主激光脉冲的最佳状态。本发明的多个实施例考虑一个燃料液滴的蒸发对随后的燃料液滴的影响，并允许调节主脉冲和/或预脉冲的时机，从而考虑在前的液滴蒸发所引起的随后的燃料液滴的到达的预定延迟或形状的振荡。
辐射源

[发明专利]用于器件制造的光刻设备的辐射源以及方法-CN201280041657.1有效
发明人： R·豪特曼;A·凯姆鹏;B·范伊森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-07-27 - 公布日： 2014-04-30 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种用于通过LPP（激光产生等离子体）或（双激光等离子体）由熔融金属燃料液滴束流产生EUV的辐射源，具有：燃料液滴生成装置，配置成提供燃料液滴束流；和至少一个激光器，配置成蒸发所述燃料液滴中的至少一些，由此产生辐射。所述燃料液滴生成装置包括喷嘴、燃料供给线和贮液器，其中泵送装置配置成通过燃料供给线由贮液器供给熔融金属燃料流并将其作为液滴束流从喷嘴排出。燃料液滴生成装置包括燃料供给线中的可更换过滤器组件，配置成在使用中过滤熔融金属燃料，以阻止喷嘴被燃料中的固体颗粒杂质堵塞。
用于器件制造光刻设备辐射源以及方法

[发明专利]辐射源-CN201280040931.3在审
发明人： A·凯姆鹏;E·鲁普斯特拉;C·伦特罗普;D·德格拉夫;F·古贝尔斯;G·R·海斯;H·J·范德维尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-07-27 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：辐射源，具有：喷嘴，喷嘴配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流；和激光器，配置成将激光辐射引导至等离子体形成位置以在使用中生成用于生成辐射的等离子体。喷嘴具有内表面，所述内表面配置成防止在用以形成燃料液滴的燃料中存在的污染被沉积在该内表面上。
辐射源

[发明专利]辐射源-CN201180072807.0有效
发明人： A·凯姆鹏;E·鲁普斯特拉;C·瓦格纳;H·泰根博世;G·斯温克尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-12-13 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种辐射源包括：喷嘴，配置成沿着轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴（30）的流；激光器，配置成输出激光辐射，所述激光辐射在等离子体形成位置处被引导到燃料液滴上以在使用中生成用于产生辐射的等离子体；和捕捉装置，配置成捕捉穿过等离子体形成位置的燃料液滴，所述捕捉装置包括：容器（40），被配置成容纳流体（42）；驱动器（44），被配置成驱动所述流体以使得流体移动；所述捕捉装置被配置成使得燃料液滴入射到移动的流体上。
辐射源

[发明专利]收集器反射镜组件以及用于产生极紫外辐射的方法-CN201180019319.3有效
发明人： D·兰贝特斯基;E·鲁普斯特拉;A·凯姆鹏 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-03-18 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种收集器反射镜组件(302)包括：包括反射表面(304)的收集器反射镜(co’)和具有边缘(308)的孔(306)。所述孔延伸通过反射表面。所述组件还包括管状主体(310)，所述管状主体(310)具有内表面(312)和外表面(314)。所述管状主体构造和布置成沿着大致横向于反射表面的方向引导气流(GF)。所述管状主体的外表面和孔的边缘形成开口(316)，所述开口布置成引导另外的气流(GF’)，所述另外的气流与大致横向于反射表面的气流分开。
收集反射组件以及用于产生紫外辐射方法

[发明专利]辐射源、光刻设备和器件制造方法-CN201080055711.9有效
发明人： A·凯姆鹏;R·布吕尔斯;E·鲁普斯特拉;R·莫尔斯;G·斯温克尔斯;W·梅斯特罗姆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-12-08 - 公布日： 2012-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种辐射源生成用于光刻设备的极紫外辐射，作为设置有低压氢气环境的腔。痕量的保护性化合物，例如H2O，H2O2，O2，NH3或NOx，被提供至所述腔，以辅助保持在腔中的金属，例如钛部件上的保护性氧化物膜。
辐射源光刻设备器件制造方法

[发明专利]辐射源、光刻设备以及器件制造方法-CN200980131416.4有效
发明人： A·凯姆鹏;V·班尼恩;V·伊万诺夫;E·鲁普斯卓 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-13 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备，包括：源，配置成使用等离子体生成包括想要的辐射和不想要的辐射的辐射束；照射系统，配置成在光刻设备操作期间调节辐射束并且接收氢气；和支撑结构，构造成保持图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。衬底台构造成保持衬底，以及投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备配置成使得进入照射系统的辐射束包括由等离子体生成的至少50％的不想要的辐射，并且包括与氢气反应以生成氢自由基的辐射的波长。
辐射源光刻设备以及器件制造方法

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