专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件和具有势垒区的绝缘栅双极型晶体管-CN201811436630.8有效
  • J·G·拉文;R·巴布斯克;C·耶格 - 英飞凌科技股份有限公司
  • 2014-11-27 - 2022-07-26 - H01L29/739
  • 本公开涉及半导体器件和具有势垒区的绝缘栅双极型晶体管。一种电路配置包括:具有输出的栅极驱动器电路,其被配置为输出三个不同的电压电平;以及绝缘栅双极型晶体管,包括:栅极端子,连接到栅极驱动器电路的输出;晶体管单元,具有电连接到栅极端子的栅极电极;以及辅助单元,其包括:势垒区,其被夹在漂移区和电荷载流子转移区之间,势垒区和电荷载流子转移区形成pn结,并且势垒区和漂移区形成单质结;控制结构,包括控制电极,控制电极电连接到栅极端子或者经由电压移位器电耦合到栅极端子,并且其中控制结构被配置为在反型状态中在漂移区和势垒区中形成反型层,并且在非反型状态中,在漂移区和势垒区中不形成反型层。
  • 半导体器件具有势垒区绝缘栅双极型晶体管
  • [发明专利]单叶片轮-CN202080066301.8在审
  • A·克里斯特;C·耶格;R·维策尔 - KSB股份有限公司
  • 2020-09-16 - 2022-04-22 - F04D29/22
  • 本发明涉及一种用于泵的单叶片轮(3),所述泵用于输送混有固体的混合物的液体,所述单叶片轮(3)具有叶轮本体(11),其中在所述叶轮本体(11)中在第一盖盘(14)与第二盖盘(15)之间布置有叶片(13),其中所述叶片(13)的壁的厚度在其延伸的范围内变化,并且其中在所述叶片(13)与所述盖盘(14、15)之间形成有通道。按照本发明,支撑本体(12)至少部分地布置在所述叶轮本体(11)中,所述支撑本体具有相对于叶轮本体(11)而提高的密度。
  • 叶片
  • [发明专利]用于污水泵的叶轮进口边缘的刮除元件-CN202080057382.5在审
  • C·耶格;M·卡明斯基;E·穆勒;N·佩蒂特 - KSB股份有限公司
  • 2020-08-03 - 2022-03-25 - F04D29/22
  • 本发明涉及一种用于输送载有固体物质的污水的污水泵,其具有螺旋形壳体,该螺旋形壳体具有入口;具有叶轮,该叶轮具有至少一个叶片,其中,配属于各个叶片的进口边缘从叶轮轮毂反向弯曲地向外延伸;具有至少一个用于刮除所述进口边缘的污物的指部,其中,所述指部布置在入口内壁处,并且向所述叶轮的旋转轴线R的方向伸展,并且其中,设置至少一个、构造在所述壳体的吸入侧的内壁中的槽,并且所述叶轮的进口边缘与朝向该进口边缘的上部的指部面相对于所述旋转轴线R的垂直的投影面具有从5°至75°的角α。
  • 用于污水泵叶轮进口边缘元件
  • [发明专利]包括场阻止区的功率半导体二极管-CN202111074092.4在审
  • H-J·舒尔茨;C·耶格;M·杰里内克;D·施洛格;B·斯托伊布 - 英飞凌科技股份有限公司
  • 2021-09-14 - 2022-03-15 - H01L29/861
  • 提出功率半导体二极管,其包括具有沿垂直方向彼此相对的第一主表面和第二主表面的半导体本体。半导体二极管还包括第一导电类型的阳极区。功率半导体二极管还包括第二导电类型的漂移区。漂移区布置在阳极区与第二主表面之间。功率半导体二极管还包括第二导电类型的场阻止区。场阻止区布置在漂移区和第二主表面之间。场阻止区沿垂直方向的掺杂剂浓度分布包括最大峰。功率半导体二极管还包括第一导电类型的注入区。注入区布置在场阻止区和第二主表面之间。pn结形成在注入区和场阻止区之间。功率半导体二极管还包括第二导电类型的阴极接触区。阴极接触区布置在场阻止区和第二主表面之间。pn结和最大峰之间的第一垂直距离的范围是从200nm至1500nm。
  • 包括阻止功率半导体二极管
  • [发明专利]垂直功率半导体器件及制造方法-CN202110382152.2在审
  • H-J·舒尔策;C·耶格;M·耶利内克;D·施勒格尔;B·施托伊布 - 英飞凌科技股份有限公司
  • 2021-04-09 - 2021-10-19 - H01L29/06
  • 提出了一种垂直功率半导体器件(100)。该垂直功率半导体器件(100)包括半导体本体(102),其具有第一主表面(104)和沿着垂直方向(y)与第一主表面(104)相对的第二主表面(106)。垂直功率半导体器件(100)还包括半导体本体(102)中的漂移区(108)。漂移区(108)包括铂原子(109)。垂直功率半导体器件(100)还包括漂移区(108)与第二主表面(106)之间的半导体本体(102)中的场停止区(110)。场停止区(110)包括多个杂质峰(P1、P2)。多个杂质峰(P1、P2)中的第一杂质峰(P1)具有比多个杂质峰(P1、P2)中的第二杂质峰(P2)更大的浓度(c)。第一杂质峰(P1)包括氢,而第二杂质峰(P2)包括氦。
  • 垂直功率半导体器件制造方法
  • [发明专利]沟槽晶体管器件-CN201510137104.1有效
  • A·菲利波;J·G·拉文;C·耶格;F·沃尔特;F·D·普菲尔施;A·维莱 - 英飞凌科技股份有限公司
  • 2015-03-26 - 2019-09-10 - H01L29/78
  • 本公开的各个实施例涉及一种沟槽晶体管器件。该晶体管器件包括:在半导体本体中在第一与第二沟槽之间的半导体台式区域;在半导体台式区域中的第一导电类型的本体区域和第二导电类型的源极区域;在半导体本体中的第二导电类型的漂移区域;以及栅极电极,其在第一沟槽中与本体区域相邻,并且通过栅极电介质与本体区域介电绝缘。本体区域将源极区域与漂移区域分开,并且延伸至半导体台式区域的与源极区域相邻的表面。本体区域包括邻接半导体台式区域的表面和第一沟槽的表面区域。表面区域具有比本体区域的将源极区域与漂移区域分开的部分更高的掺杂浓度。
  • 沟槽晶体管器件

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