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[发明专利]使用人工神经网络的运动控制-CN202180048962.2在审
发明人： K·范贝尔克;J·J·博德尔;S·博斯玛 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-17 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：可变设定点和/或其它因素可能限制用于设备的移动部件的迭代学习控制。本公开描述一种被配置成控制设备的部件(ST)以至少一个指定运动进行移动的处理器。所述处理器被配置成接收诸如和/或包括可变设定点的控制输入(SP)。所述控制输入指示所述部件的所述至少一个指定运动。所述处理器被配置成利用经训练的人工神经网络(PM)基于所述控制输入(SP)来确定所述部件(ST)的控制输出。利用训练数据来训练所述人工神经网络，使得所述人工神经网络确定所述控制输出，而与所述控制输入是否落在所述训练数据之外无关。所述处理器至少基于所述控制输出来控制所述部件。
使用人工神经网络运动控制

[发明专利]用于像素化电子检测器的读出电路-CN202180053269.4在审
发明人： M·萨比·莫哈梅德·埃尔·迪斯;Q·范;S·尼蒂亚诺维 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G01T1/17 文献下载
摘要：确定在一时段内入射到检测器上的带电粒子的数目的方法可以包括：生成第一信号，第一信号基于撞击检测器的感测元件的带电粒子；基于检测器上的带电粒子到达事件的预定特性，使用第一信号来执行处理；以及基于处理来输出计数信号。
用于像素电子检测器读出电路

[发明专利]用于光刻设备的载物台轴承-CN201880073599.8有效
发明人：黄仰山;P·C·J·德杰格;R·瑞立克;C·L·瓦伦汀;J·L·J·舒尔滕;A·H·维尔魏;E·范霍恩 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种载物台承载系统可以包括：载物台、耦接到载物台的空心轴、以及耦接到空心轴和载物台的内真空气体轴承组件。内真空气体轴承组件可以包括气体轴承、扫气槽和真空槽。气体轴承沿内真空气体轴承组件的内壁和空心轴的外壁设置。扫气槽沿所述内壁设置，使得扫气槽与气体轴承隔离。真空槽沿所述内壁设置，使得真空槽与扫气槽及气体轴承隔离。
用于光刻设备载物台轴承

[发明专利]带电粒子束检查的样品检查选配方案的动态确定的方法-CN201880063430.4有效
发明人：陈仲玮;招允佳;方伟;关键 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-25 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：本文中公开了一种方法，该方法包括：基于样品的第二组特性确定对样品上的区域的带电粒子束检查的选配方案的参数；使用该选配方案检查该区域。
带电粒子束检查样品选配方案动态确定方法

[发明专利]利用多个带电粒子束检查样本的方法-CN201880058003.7有效
发明人：曾国峰;董仲华;王義向;陈仲玮 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：本文公开了一种设备，包括：被配置为发射带电粒子的源、光学系统和台架；其中台架被配置为在其上支撑样本并且被配置为将样本在第一方向上移动第一距离；其中光学系统被配置为利用带电粒子在样本上形成探测点；其中光学系统被配置为在台架将样本在第一方向上移动第一距离时，将探测点同时在第一方向上移动第一距离并且在第二方向上移动第二距离；其中光学系统被配置为在台架将样本在第一方向上移动第一距离之后，将探测点在第一方向的相反方向上移动第一距离减去探测点之一的宽度。
利用带电粒子束检查样本方法

[发明专利]用于测量曝光图案的量测方法以及相关联的量测装置-CN202180050971.5在审
发明人： J·科特塔尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G02F1/35 文献下载
摘要：公开了用于在衬底上对光致抗蚀剂中的曝光图案执行测量的方法和相关联的量测装置。方法包括：在测量区域之上的所述曝光图案上施加测量辐射束，测量区域的尺寸防止或减轻来自测量辐射的光致抗蚀剂损伤；在所述测量辐射已从所述曝光图案散射之后，捕获包括所述测量辐射的散射辐射，并且在至少一个检测器上检测所述散射辐射。根据散射辐射来确定感兴趣参数的值。
用于测量曝光图案方法以及相关装置

[发明专利]用于预测层变形的系统和方法-CN202310013681.4在审
发明人： C·巴蒂斯塔奇斯;S·A·米德尔布鲁克斯;S·F·伍伊斯特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G06F30/28 文献下载
摘要：披露了一种方法，涉及：获得用于模拟抗蚀剂中的图案的变形过程的抗蚀剂变形模型，所述抗蚀剂变形模型是被配置为模拟作用于所述抗蚀剂的流体内力的流体动力学模型；通过使用所述抗蚀剂变形模型来执行所述变形过程的计算机模拟，以获得针对至所述抗蚀剂变形模型的输入图案的经显影抗蚀剂图案的变形；以及产生表示针对所述输入图案的所述经显影抗蚀剂图案的所述变形的电子数据。
用于预测变形系统方法

[发明专利]用于产生宽带辐射的基于空芯光子晶体光纤的光学部件-CN202080018536.X有效
发明人：帕特里克·塞巴斯蒂安·于贝尔;塞巴斯蒂安·托马斯·鲍尔思科米特;彼得·马克西米兰·戈茨 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-02-17 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G02F1/365 文献下载
摘要：公开了一种光学部件，所述光学部件被配置为在宽带辐射源装置中用作光学频率转换器。所述光学部件包括气室以及被至少部分地封闭在所述气室内的空芯光子晶体光纤。所述气室的局部腔室容积包括36cm3/所述空芯光子晶体光纤的长度cm的最大值，在局部腔室容积中，所述空芯光子晶体光纤被封闭在所述气室内。
用于产生宽带辐射基于光子晶体光纤光学部件

[发明专利]确定与图案化过程有关的信息的方法、减小测量数据中的误差的方法、校准量测过程的方法、选择量测目标的方法-CN201880078343.6有效
发明人： J·J·文塞拉尔;A·齐亚托马斯;S·阿尔·拉赫曼;P·C·赫因恩;J-P·A·H·M·韦森;N·M·魏斯;G·R·圣圭内蒂;T·扎卡鲁普卢;M·M·扎尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-11-14 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及确定与图案化过程有关的信息。在一种方法中，从应用到衬底上的多个量测目标中的每个量测目标的量测过程获得测量数据。每个量测目标的所述测量数据包括至少第一贡献和第二贡献。所述第一贡献来自用于形成所述量测目标的图案化过程的感兴趣的参数。所述第二贡献来自所述量测过程中的误差。所述方法还包括：使用来自所有所述多个量测目标的已获得的测量数据来获得与所述量测过程中的误差有关的信息；和使用所获得的与所述量测过程中的所述误差有关的所述信息来针对每个量测目标提取所述感兴趣的参数的值。
确定图案过程有关信息方法减小测量数据中的误差校准选择目标

[发明专利]用于加速EUV源的液滴生成器中的液滴的装置和方法-CN202180046047.X在审
发明人： A·I·厄肖夫;C·拉加古鲁;D·U·H·特雷斯;J·M·卢肯斯;T·W·德赖森;R·J·拉法克;G·O·瓦斯琴科 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：用于加速用于生成EUV辐射的液滴的装置和方法包括产生导向照射区域的激光束的装置和液滴源。液滴源包括以流的形式离开喷嘴的流体，该流分解成液滴，然后经历聚结。然后，液滴受到气流的作用，气流夹带液滴并使之加速。
用于加速 euv 生成器中的装置方法

[发明专利]带电粒子设备的可更换模块-CN202180042316.5在审
发明人： C·奥滕;P-P·克兰斯;M·斯米茨;L·德尔·廷;C·泰武尼森;Y-S·黄;S·W·H·K·斯蒂恩布林克;胡学让;席庆坡;罗希楠;刘学东 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-03 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本文所公开的是一种用于支撑被配置为操纵带电粒子设备中的带电粒子路径的装置的模块，该模块包括：被配置为支撑该装置的支撑布置，其中该装置被配置为操纵带电粒子设备内的带电粒子路径；以及被配置为在模块内移动支撑布置的支撑定位系统；其中模块被布置为在带电粒子设备中是现场可更换的。
带电粒子设备更换模块

[发明专利]现场可编程检测器阵列-CN202310014405.X在审
发明人：王勇新;赖瑞霖;董仲华 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：公开了用于实现检测器阵列的系统和方法。根据某些实施例，衬底包括多个感测元件(501‑503)，其包括第一元件(502)和第二元件(503)；以及在第一元件与第二元件之间的开关区域(3009)，被配置为连接第一元件和第二元件。基于响应于感测元件接收具有预定量的能量的电子而生成的信号，开关区域可以被控制。
现场可编程检测器阵列

[发明专利]图案选择系统和方法-CN202211133960.6在审
发明人：刘梦;陈炳德;邵德保;伍健一;陈浩;艾曼·哈穆达;程建华 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2022-09-16 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描述了为半导体晶片的设计布局选择优化的、几何多样化的片段子集。所述设计布局的完整表示被接收到。所述设计布局的代表性片段集合被确定，使得各个代表性片段包括所述设计布局的一个或多个独特图案的不同组合。所述代表性片段的子集基于所述一个或多个独特图案来选择。所述代表性片段的所述子集被配置为包括：(1)最小数量的代表性片段中的每个几何独特图案；或者(2)最大数量的代表性片段中尽可能多的所述设计布局的几何独特图案。例如，所述代表性片段子集被提供为训练数据，以训练光学邻近效应校正或者源掩模优化半导体过程机器学习模型。
图案选择系统方法

[发明专利]用于高性能检测设备技术领域的增强架构-CN202180039316.X在审
发明人：王勇新 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：一种检测器包括：多个感测元件；区段电路系统，将第一感测元件集通信地耦合到第一信号处理电路系统的输入；以及开关网络，对感测元件集进行连接。元件间开关可以对相邻的感测元件(包括在对角线方向上的感测元件)进行连接。输出总线可以通过开关元件连接到第一集中的每个感测元件。可以在一个感测元件处布置有公共输出(拾取点)，该公共输出被配置为输出来自第一集的信号。提出了各种开关和布线方案。例如，公共输出可以直接连接到开关网络。可以在输出总线与第一信号处理电路系统之间提供开关。可以在开关网络与第一信号处理电路系统之间提供开关。
用于性能检测设备技术领域增强架构

[发明专利]高度测量方法和高度测量系统-CN202180042006.3在审
发明人： A·V·罗加凯维斯基;B·A·W·H·克纳伦;D·C·托鲁姆巴;A·吉耶斯贝特森;C·卡雷西奥;R·森特诺;T·W·基亚尼朱;J·A·登博艾尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-04-19 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供了使用高度水平传感器来计算经校正的第一衬底的衬底高度映射的方法。方法包括：在第一衬底以第一速度移动的情况下，借助高度水平传感器对第一衬底进行采样以生成第一高度水平数据，其中第一速度是第一衬底相对于高度水平传感器的第一至少部分非恒定速度；基于第一高度水平数据，生成第一高度映射；以及通过从第一高度映射中减去校正映射来计算经校正的衬底高度映射，其中校正映射根据第一速度高度映射和第二速度高度映射之间的差来计算。
高度测量方法测量系统