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[发明专利]带电粒子的多单元检测器-CN201880063458.8有效
发明人：汪苏;王勇新;陈仲玮;胡学让 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：一种多单元检测器包括第一层(420)，其具有第一导电类型的区域(422)；以及第二层(440)，其包括第二导电类型的多个区域(444)。第二层还可以包括第一导电类型的一个或多个区域(442)。第二导电类型的多个区域优选地可以通过第二层的第一导电类型的一个或多个区域(444)彼此分隔。在第二层中，第二导电类型的多个区域(444)可以与第一导电类型的一个或多个区域(442)间隔开。该检测器还可以包括第一层和第二层之间的本征层(430，432)。
带电粒子单元检测器

[发明专利]用于输送气体的设备及用于产生高谐波辐射的照射源-CN202211226584.5在审
发明人： S·斯里瓦斯塔瓦;S·B·罗博尔;S·G·J·马西森;林楠;S·N·L·唐德斯;K·F·布斯特雷恩;P·W·斯摩奥伦堡;G·J·H·布鲁斯阿德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-02-15 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了适合于高谐波产生(HHG)辐射源的气体输送系统，所述高谐波产生辐射源可以用于产生用于检查设备的测量辐射。在这样的辐射源中，气体输送元件在第一方向上输送气体。所述气体输送元件具有光学输入和光学输出，限定了在第二方向上延伸的光学路径。所述第一方向相对于所述第二方向以不垂直且不平行的角度来布置。也公开了一种具有气体射流成形装置的气体输送元件，或一对气体输送元件，其中的一个输送第二气体，使得所述气体射流成形装置或第二气体可操作以修改所述气体的流轮廓使得所述气体的数量密度急剧降低。
用于输送气体设备产生谐波辐射照射

[发明专利]量测方法及相关联的量测和光刻设备-CN202180044794.X在审
发明人： S·罗伊 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种用于确定指示被处理的衬底的对准性能的性能指标的方法。所述方法包括：获得包括位于所述衬底上的对准标记的多个被测量的位置值的测量数据；和计算每个被测量的位置值与对应的期望的位置值之间的位置偏差。这些位置偏差被用于确定所述对准标记之间的方向导数，并且所述方向导数被用于确定至少一个方向导数性能指标。
方法相关光刻设备

[发明专利]用于保护EUV源中的流体管线的装置-CN202180049142.5在审
发明人：史扬 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： F16K31/22 文献下载
摘要：一种源材料阀，该源材料阀放置在用于源材料腔室(诸如源材料再填充储器)的流体供给管线中，以防止该腔室中的熔融源材料到达并且因此在压力故障的情况下污染和堵塞该源材料阀上游的该流体供给管线。
用于保护 euv 中的流体管线装置

[发明专利]用于转换量测数据的方法-CN202211028992.X在审
发明人：郭蕴博;王竹;杨丰;赵谦;冯牧;王祯祥 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2022-08-25 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本文描述了一种量测系统和用于经由经训练的机器学习(ML)模型转换量测数据的方法。所述方法包括：访问由第一扫描电子量测(SEM)系统获取的第一SEM数据集(例如图像、轮廓灯)和由第二SEM系统获取的第二SEM数据集，其中所述第一SEM数据集和所述第二SEM数据集与图案化衬底相关联。使用所述第一SEM数据集和所述第二SEM数据集作为训练数据，机器学习(ML)模型被训练，使得所述经训练的ML模型被配置为将由所述第二SEM系统获取的量测数据集转换为转换数据集，所述转换数据集具有与由所述第一SEM系统获取的量测数据相当的特性。此外，测量值可以基于所述经转换的SEM数据来确定。
用于转换数据方法

[发明专利]用于调节光学装置的系统和方法-CN202180049015.5在审
发明人： O·V·沃兹恩伊;B·莫斯特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-05-31 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种包括预曝光元件(134)的台系统(130)，并且涉及一种采用预曝光元件来调节光学系统(100)的方法。预曝光元件包括在台系统的表面处的辐射接收区域，其中辐射接收区域包括被配置为接收辐射的至少一个预曝光板。台系统还包括控制器(140)，其中控制器能够控制预曝光元件的光学参数，由此控制被预曝光元件反射的所接收辐射的一部分。
用于调节光学装置系统方法

[发明专利]量测方法、设备和计算机程序-CN202180048651.6在审
发明人： S·G·J·马西森;P·A·J·蒂内曼斯;A·J·登博夫;K·巴塔查里亚;S·U·雷曼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开一种改进感兴趣参数的测量的方法。方法包括：获得量测数据，量测数据包括与衬底上的一个或多个目标相关的感兴趣参数的多个测量值，每个测量值与所述一个或多个目标中的目标和测量目标的测量条件的不同测量组合，以及与一个或多个目标的不对称性相关的不对称性度量数据相关。基于测量组合中感兴趣参数存在公共真实值的假设，确定测量组合中的每个测量组合使感兴趣参数的真实值与不对称性度量数据相关的各自关系。使用这些关系来改进感兴趣参数的测量。
方法设备计算机程序

[发明专利]用于调整图案化过程的方法-CN202180048684.0在审
发明人：郭超群;S·S·克德卡;A·P·根德伯拉;林晨希;H·J·卡斯蒂尔斯;陈宏伟;S·H·邦德;李兆泽;S·I·马萨瓦特;邹毅;A·伊普玛;张幼平;G·迪克尔;E·K·施泰因迈尔;K·范贝尔克;J·J·博德尔;A·胡包克斯;A·V·霍洛德;J·M·冈萨雷斯韦斯卡;F·B·阿尔登 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-14 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描述了产生用于图案化过程的控制输出。接收控制输入。所述控制输入用于控制所述图案化过程。所述控制输入包括在所述图案化过程中使用的一个或更多个参数。利用经训练的机器学习模型，基于所述控制输入来产生所述控制输出。所述机器学习模型是利用从模拟所述图案化过程和/或实际过程数据所产生的训练数据来训练。所述训练数据包括1)与所述图案化过程的多个操作条件相对应的多个训练控制输入，其中所述图案化过程的所述多个操作条件与所述图案化过程的随时间变化的特定于操作条件的行为相关联；和2)使用物理模型、基于所述训练控制输入而产生的训练控制输出。
用于调整图案过程方法

[发明专利]用于热敏元件的热机械控制的方法和用于光刻生产过程的设备-CN202180047236.9在审
发明人： V·S·多克;K·范伯克尔;M·G·E·施奈德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于对承受热负荷的热敏元件(MI)进行热机械控制的方法，包括：‑提供热敏元件的非线性热机械模型，该非线性热机械模型描述热负荷的特性与热敏元件的变形之间的动态关系；‑基于非线性模型的优化计算来计算控制信号，‑向加热器(HE)提供致动信号，其中致动信号至少部分地基于控制信号，‑基于致动信号通过加热器加热热敏元件。
用于热敏元件机械控制方法光刻生产过程设备

[发明专利]带电粒子束装置以及操作该装置的系统和方法-CN201880060710.X有效
发明人： M·G·M·J·玛森;P·P·亨佩尼尤斯;任伟明;陈仲玮 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： H01J37/21 文献下载
摘要：一种带电粒子束装置包括子束形成单元，该子束形成单元被配置为在样品(440)上形成子束阵列(410)并且对其进行扫描。子束阵列的第一部分被聚焦到焦平面(430)上，并且子束阵列的第二部分具有至少一个子束，该至少一个子束相对于焦平面具有离焦水平(490)。该带电粒子束装置还包括检测器，其被配置为检测由子束阵列形成的样品的图像；以及处理器，其被配置为基于检测的图像来估计焦平面与样品之间的分隔水平，并且然后基于估计水平来减小分隔水平。
带电粒子束装置以及操作系统方法

[发明专利]单片颗粒检查设备-CN202180045300.X在审
发明人： I·范韦佩伦;A·J·A·伯克曼;M·斯维拉姆;J·L·克鲁泽;S·鲁 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：提供了用于检测衬底表面上的颗粒的系统、装置和方法。示例方法可以包括由光栅结构接收来自辐射源的相干辐射。方法还可以包括由光栅结构基于相干辐射生成经聚焦相干辐射束。方法还可以包括由光栅结构将经聚焦相干辐射束朝向衬底的表面的区域传输。方法还可以包括由光栅结构响应于利用经聚焦相干辐射束照射区域而接收从该区域散射的光子。方法还可以包括通过光电检测器测量由光栅结构接收的光子。方法还可以包括由光电检测器并且基于所测量的光子生成用于检测位于衬底的表面的区域中的颗粒的电子信号。
单片颗粒检查设备

[发明专利]照射设备和相关联的量测和光刻设备-CN202180048008.3在审
发明人： S·R·胡伊斯曼;A·J·A·贝克曼;A·J·登鲍埃夫;塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;N·库马尔;廉晋;周子理 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-10 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：披露了一种用于对宽带照射束进行光谱成形以获得经光谱成形的照射束的照射装置。所述照射装置包括：束分散元件，所述束分散元件用于分散所述宽带照射束；和空间光调制器，所述空间光调制器用于在所述宽带照射束被分散之后在空间上调制所述宽带照射束。所述照射装置还包括以下各项中的至少一个：束扩展元件，所述束扩展元件用于在至少一个方向上扩展所述宽带照射束，所述束扩展元件位于所述照射装置的输入与所述空间光调制器之间；和透镜阵列，其中每个透镜用于在所述宽带照射束被分散至所述空间光调制器的相应的区上之后引导所述宽带照射束的相应的波长带。
照射设备相关光刻

[发明专利]具有延长的光纤使用寿命的基于空芯光纤的宽带辐射产生器-CN202180048010.0在审
发明人： A·阿布多尔万德;克里斯蒂安·博格丹·克雷斯;安娜·埃泽斯卡娅;法尼·库马尔·多马拉帕雷 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G02F1/355 文献下载
摘要：披露了一种用于宽带光源装置的光学部件，该光学部件被配置为用于在接收泵浦辐射时产生宽带输出，并且该光学部件包括空芯光子晶体光纤(HC‑PCF)；和填充该HC‑PCF的气体混合物，其中，所述气体混合物包括至少一种第一气体和至少一种第二气体的混合物，所述至少一种第一气体被配置为用于所述宽带辐射的产生，所述至少一种第二气体包括氦气或由氦气组成。
具有延长光纤使用寿命基于宽带辐射产生器

[发明专利]用于激光到液滴对准的系统和方法-CN202180048047.3在审
发明人： P·哈吉;S·W·麦克罗根;R·N·雅克奎斯;D·J·里格斯;L·M·马蒂斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：提供了用于转向对准激光束和燃料目标的系统、设备和方法。一种示例方法可以包括：以第一速率生成指示燃料目标与激光束之间的第一重叠的第一感测数据。该示例方法还可以包括：以第二速率生成指示燃料目标与激光束之间的第二重叠的第二感测数据。该方法还可以包括：以第三速率并且基于第一感测数据和第二感测数据来生成转向控制信号，转向控制信号被配置为使激光束或燃料目标转向。在一些方面中，第二速率可以不同于第一速率，并且第三速率可以大约等于第一速率。在其他方面中，第一速率和第二速率可以大约等于第三速率。
用于激光到液滴对准系统方法

[发明专利]带电粒子多射束列、带电粒子多射束列阵列、检查方法-CN202180048142.3在审
发明人： M·J-J·维兰德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-28 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01J37/075 文献下载
摘要：本公开涉及带电粒子多射束列和多射束列阵列。在一种配置中，限定子射束的孔径阵列根据带电粒子射束形成子射束。准直器阵列使子射束准直。物镜阵列将经准直的子射束投射到样品上。检测器检测从样品发射的带电粒子。每个准直器与物镜中的一个物镜直接相邻。检测器设置在限定子射束的孔径阵列的射束下游平面中。
带电粒子多射束列阵列检查方法