专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种液位计的防护装置-CN202222384360.9有效
  • 罗旭;雷建新;朱勇臣;郑桢 - 滢升自动化科技(上海)有限公司
  • 2022-09-08 - 2022-12-20 - G01F23/00
  • 本实用新型公开一种液位计的防护装置,包括:外部保护盒和顶部下压装置,外部保护盒可以起到保护作用,并且带有第一安装孔,能够使得液位计下部的圆头部露出与水体接触,顶部下压装置能够起到对液位计固定和缓冲作用,通过带有外部保护盒和顶部下压装置,外部保护盒包括两个侧板,侧板的内侧焊接有第二弹簧,所述第二弹簧的一端焊接有弧形夹板,能够起到固定液位计的作用,并且在撞击时起到缓冲目的,外部保护盒可以起到保护作用,弧形夹板和第二弹簧能够起到横向缓冲作用,防止侧面撞击造成的损坏。
  • 一种液位计防护装置
  • [实用新型]一种隔音隔热效果好的铝型材-CN202220870568.9有效
  • 张立君;王勇;周杰锋;雷建新 - 佛山市南海弘泰铝业有限公司
  • 2022-04-14 - 2022-12-13 - E06B5/16
  • 本实用新型涉及铝型材技术领域的一种隔音隔热效果好的铝型材,包括铝型材本体,所述铝型材本体固定有隔热层,所述隔热层的一侧固定有耐腐蚀层,所述耐腐蚀层远离隔热层的一侧固定有防水层,所述防水层远离耐腐蚀层的一侧固定有隔音层,所述铝型材本体的内壁固定有耐磨层。通过设置隔热层,当铝型材本体在安装完成使用时,可通过隔热层防止出现高温时铝型材本体受损,随后耐腐蚀层可配合隔热层增加了铝型材本体的耐腐蚀效果,防止铝型材本体在长时间使用时受到雨水或液体打湿出现腐蚀的情况,此时隔音层将增加了铝型材本体的隔音效果,实现了便于隔音隔热的效果,有利于提高了铝型材本体的使用寿命。
  • 一种隔音隔热效果铝型材
  • [实用新型]一种耐腐蚀的粉末喷涂铝型材-CN202221025984.5有效
  • 黄孟秋;贺娟;贺东秀;张立君;雷建新 - 佛山市南海弘泰铝业有限公司
  • 2022-04-28 - 2022-12-09 - E06B3/16
  • 本实用新型涉及铝型材技术领域的一种耐腐蚀的粉末喷涂铝型材,包括铝型材本体,所述铝型材本体的上下两端分别设有防护板,所述铝型材本体的两端分别设有侧板,两个所述防护板与两个所述侧板通过螺丝固定。与现有技术相比,通过设置的防护板、侧板和第一弹簧,便于该装置在使用过程中,将防护板和侧板通过螺丝安装在铝型材本体的外侧起到防护作用,避免铝型材本体在使用过程中直接暴露在空气中出现腐蚀,此外通过第一弹簧可以起到缓冲作用,避免直接冲击导致铝型材本体损害,从而更加便捷高效的起到对铝型材本体的防护,解决了传统铝型材本体防护性差的问题。
  • 一种腐蚀粉末喷涂铝型材
  • [发明专利]用于钝化靶材的方法及设备-CN202180009899.1在审
  • 杜超;陈新;基思·A·米勒;乔斯林甘·罗摩林甘;雷建新 - 应用材料公司
  • 2021-04-08 - 2022-08-30 - C23C16/455
  • 本文提供了用于钝化靶材的方法和设备。例如,一种方法包含:a)将氧化气体供应到处理腔室的内部空间中;b)点燃氧化气体以形成等离子体并氧化靶材或靶材材料中的至少一者,所述靶材材料沉积在设置于处理腔室的内部空间中的处理配件上;和c)执行循环净化,包括:c1)向处理腔室中提供空气以与靶材或沉积在处理配件上的靶材材料中的至少一者反应;c2)在处理腔室内维持预定压力达预定时间,以产生由空气与靶材或沉积在处理配件上的靶材材料中的至少一者反应而引起的有毒副产物;和c3)排空处理腔室以去除有毒副产物。
  • 用于钝化方法设备
  • [发明专利]用于处理基板的方法与设备-CN202180008729.1在审
  • 哈伯特·冲;陶荣;雷建新;汪荣军;基思·A·米勒;艾琳娜·H·威索克;龚则敬;陈新 - 应用材料公司
  • 2021-03-25 - 2022-08-19 - C23C14/34
  • 本案提供了用于清洁经配置用于处理基板的处理套件的方法和设备。例如,用于处理基板的处理腔室可以包括腔室壁;溅射靶,该溅射靶设置在该内部空间的上部中;基座,该基座包含基板支撑件,该基板支撑件具有支撑表面以支撑在该溅射靶下方的基板;功率源,经配置激发(energize)溅射气体以用于在该内部空间中形成等离子体;处理套件,该处理套件围绕该溅射靶和该基板支撑件;和ACT和控制器,该ACT连接到该基座,该控制器经配置使用该ACT来调谐该基座以维持该内部空间中的该等离子体与该处理套件之间的预定电势差,其中该预定电势差是基于该ACT的总电容的百分比和与该处理腔室的接地路径相关的杂散电容。
  • 用于处理方法设备

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