|
钻瓜专利网为您找到相关结果 30个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]静电保护器件-CN201810502138.X有效
-
陈卓俊;曾云;彭伟;金湘亮;张云;吴志强
-
湖南大学
-
2018-05-23
-
2023-05-12
-
H01L27/02
- 本发明提供一种静电保护器件,包括衬底,在衬底内设有深N阱,在深N阱内从左到右依次设有第一N阱、第一P阱以及第二N阱,第一N阱内设有第一N+注入区、第一P+注入区以及第二N+注入区,第二N+注入区跨接在第一N阱与第一P阱之间,在第一P阱内设有第三N+注入区、第二P+注入区以及第四N+注入区,在第二N阱内设有第五N+注入区、第三P+注入区以及第六N+注入区,第五N+注入区跨接在第一P阱与第二N阱之间,第一N阱、第一P阱、以及第二N阱组成第一NPN结构,第二N+注入区、第一P阱以及第三N+注入区组成第二NPN结构。本发明提出的静电保护器件,可提高维持电压,降低触发电压,增强静电泄放能力。
- 静电保护器件
- [发明专利]一种双态物理不可克隆函数电路-CN202110658063.6有效
-
张吉良;陈卓俊;李文商;关振宇
-
湖南大学
-
2021-06-15
-
2022-05-13
-
H04L9/32
- 本发明涉及物理不可克隆函数技术领域,尤其涉及一种双态物理不可克隆函数电路,所述电路包括:信号驱动电路将接收的串行激励信号和串行配置信号分别转换为并行信号;若干个双态物理不可克隆函数电路单元,每个单元根据激励信号和配置信号获取响应;时序控制电路确保本电路按设计的时序工作;并行/串行转换器电路实现多比特响应的串行输出。其中每个双态物理不可克隆函数电路单元包括:状态配置电路根据配置信号切换本电路的工作状态;放大器链电路对带有工艺偏差的信号进行放大;响应读出电路根据激励信号选择单元并输出响应。通过设置本电路生成了高可靠性的密钥。
- 一种物理不可克隆函数电路
- [发明专利]多叉指静电保护器件-CN201810662973.X有效
-
陈卓俊;曾云;彭伟;金湘亮;吴志强;张云
-
湖南大学
-
2018-06-25
-
2021-06-15
-
H01L27/02
- 本发明提供一种多叉指静电保护器件,包括衬底,衬底上设有深N阱,深N阱内设有第一P阱、第二P阱、第三P阱,第二P阱位于第一P阱和第三P阱的中间,第一P阱内设有第一P+注入区、第一N+注入区、第二N+注入区,第一P阱与第二P阱之间设有第二P+注入区、第三N+注入区、第三P+注入区,第二P阱内设有第四P+注入区、第四N+注入区、N+/P+掺杂注入区、第五N+注入区、第五P+注入区,第四P+注入区以及第五P+注入区均与深N阱跨接,N+/P+掺杂注入区内设有多个交替设置的N+注入区和P+注入区,该多叉指静电保护器件以N+/P+掺杂注入区为对称中心对称设置。本发明能够解决导通不均匀的问题。
- 多叉指静电保护器件
- [发明专利]LDMOS静电保护器件-CN201810540058.3有效
-
陈卓俊;曾云;彭伟;金湘亮;吴志强
-
湖南大学
-
2018-05-30
-
2021-06-15
-
H01L27/02
- 本发明提供一种LDMOS静电保护器件,包括衬底,衬底上设有深N阱,所述深N阱内设有第一P阱和第一N阱,所述第一P阱内设有第一N+注入区、第二N+注入区和第一P+注入区,所述第一N阱内设有第三N+注入区、第二P+注入区和第三P+注入区;所述第二N+注入区、所述第一P阱、所述第一N阱构成第一NPN结构,所述第一P阱、所述第一N阱、所述第三P+注入区构成第一PNP结构,所述第一NPN结构与所述第一PNP结构形成第一SCR路径;所述第一N+注入区、所述第一P阱、所述第二N+注入区构成第二NPN结构,所述第三P+注入区、所述第一N阱、所述第二P+注入区构成第二PNP结构,所述第二NPN结构与所述第二PNP结构形成第二SCR路径。本发明增加了一条SCR路径,提高了静电泄放能力。
- ldmos静电保护器件
- [发明专利]LDMOS静电保护器件-CN201810482780.6有效
-
陈卓俊;曾云;彭伟;金湘亮;张云;吴志强
-
湖南大学
-
2018-05-18
-
2021-06-11
-
H01L27/02
- 本发明提供一种LDMOS静电保护器件,包括衬底,衬底上设有深N阱,深N阱内从左到右依次设有第一P阱、第三N+注入区、第三P+注入区和第四N+注入区,第一P阱内从左到右依次设有第一P+注入区、第一N+注入区、第二N+注入区和第二P+注入区;第二N+注入区和第二P+注入区互相连接;第一P+注入区、第一N+注入区连接阴极;第三P+注入区、第四N+注入区连接阳极,第三P+注入区、深N阱、第一P阱构成第一PNP型晶体管;深N阱、第一P阱、第一N+注入区构成第一NPN型晶体管;第二N+注入区、第一P阱、第一N+注入区构成第二NPN型晶体管。本发明能够在不牺牲SCR结构较强泄放电流能力的同时提高维持电压,避免LDMOS器件发生闩锁,维持鲁棒性。
- ldmos静电保护器件
- [发明专利]可控硅静电保护器件-CN201810542367.4有效
-
陈卓俊;曾云;彭伟;金湘亮;吴志强
-
湖南大学
-
2018-05-30
-
2021-04-13
-
H01L27/02
- 本发明提供一种可控硅静电保护器件,包括衬底,所述衬底上设有深N阱,所述深N阱内设有P阱和N阱,所述P阱内设有第一N+注入区、第二N+注入区和第一P+注入区,所述N阱内设有第三N+注入区、第二P+注入区和第三P+注入区;所述第一N+注入区、所述第三N+注入区、所述第二P+注入区与阳极相连,所述第二N+注入区、所述第一P+注入区、所述第三P+注入区与阴极相连;所述第二N+注入区、所述P阱、所述N阱构成NPN结构,所述P阱、所述N阱、所述第三P+注入区构成PNP结构,形成可控硅结构;所述第一N+注入区和所述P阱构成第一反偏二极管,所述第三P+注入区和所述N阱构成第二反偏二极管。本发明能够解决触发电压过高的问题。
- 可控硅静电保护器件
- [发明专利]静电保护器件-CN201810661331.8有效
-
陈卓俊;曾云;彭伟;金湘亮;吴志强;张云
-
湖南大学
-
2018-06-25
-
2021-04-13
-
H01L27/02
- 本发明提供一种静电保护器件,包括衬底,衬底上设有深N阱,深N阱内设有P阱和N阱,P阱内设有第一P+注入区、第一N‑base注入层和第一N+注入区,N阱内设有第二N‑base注入层、第二N+注入区和第二P+注入区;第一P+注入区、第一N+注入区与阴极相连;第二N+注入区、第二P+注入区与阳极相连;第一P+注入区与第一N+注入区之间设有第一薄栅氧化层,第一薄栅氧化层上覆盖有第一多晶硅栅,第二N+注入区与第二P+注入区之间设有第二薄栅氧化层,第二薄栅氧化层上覆盖有第二多晶硅栅;第二N‑base注入层跨接在P阱和N阱之间,第一N‑base注入层位于第一N+注入区的下方。本发明能够解决触发电压高、抗总剂量能力弱的问题。
- 静电保护器件
|