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[发明专利]用于提供存在信息的方法及实体-CN201510571514.7有效
发明人： 金旼秀;全永基 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2009-09-24 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： H04L29/08 文献下载
摘要：公开一种存在服务提供系统和方法，其向观察者提供关于存在体的存在信息。该存在系统设置映射信息，所述映射信息包含匹配于对应于该至少一个存在体的位置信息的存在信息。当经由定位系统接收位置信息时，存在系统从所设置的映射信息中检测匹配于接收的位置信息的存在信息。所检测到的存在信息被从存在系统发送到观察者。存在服务提供系统能够根据存在体的位置提供各种存在信息，从而观察者通过存在信息能够更具体和清楚地识别存在体的状态。
用于提供存在信息方法

[发明专利]使用磁流变弹性体的可变差速器安装装置-CN201210082664.8有效
发明人： 金旼秀;梁庆模;李省勋;尹智铉;郑云敞;杨仁亨;吴在应 -专利权人：现代自动车株式会社;汉阳大学校产学协力团
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： B60K17/16 文献下载
摘要：本发明公开的是一种使用磁流变弹性体(MRE)的可变差速器安装装置。该装置包括芯体、线圈、多个MRE支架、和磁路形成部件。芯体具有布置在其上的多个臂。线圈分别缠绕在多个臂上。多个MRE支架布置成分别面向多个臂。磁路形成部件布置在多个MRE支架外侧。更具体地，基于特定的驾驶条件，将电流施加至线圈，以改变可变差速器安装装置的刚度程度，从而使操作和舒适性提高。
使用流变弹性体可变差速器安装装置

[发明专利]铁路车辆用主动转向控制装置及方法-CN201080058728.X有效
发明人：许显茂;俞元熙;金旼秀;朴俊爀 -专利权人：韩国铁道技术研究院
申请日： 2010-08-13 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： B61F5/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种铁路车辆用主动转向控制装置及方法，更详细地，涉及一种列车在曲线区间行驶时，实时推定曲线的曲率半径，并根据推定的曲率半径控制轮轴具有最佳的轮轴转向角，从而顺畅地使行驶中的铁路车辆转向，能够大幅减小曲线区间与轮轴之间存在的迎角的铁路车辆用主动转向控制装置及方法。本发明的铁路车辆用主动转向控制装置，其特征在于，包括：测定部，其用于测定行驶中的铁路车辆的行驶数据；推定部，其利用由上述测定部测定的数据来推定铁路车辆行驶的曲线线路的曲率半径；计算部，其利用由上述推定部推定的曲率半径来设定行驶中的铁路车辆的轮轴转向角的目标值；控制部，其对由上述计算部设定的轮轴转向角的目标值与实际轮轴转向角进行比较，使轮轴产生转向控制信号；以及促动器，其借助上述控制部的转向信号使轮轴转向。
铁路车辆主动转向控制装置方法

[发明专利]用于抗蚀剂下层的含芳环的聚合物和包含该聚合物的抗蚀剂下层组合物-CN201080060358.3有效
发明人： 金旼秀;田桓承;赵诚昱;吴丞培;宋知胤 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2010-10-11 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：提供了用于抗蚀剂下层的含芳环的聚合物和包含该聚合物的抗蚀剂下层组合物。该含芳环的聚合物包括如以化学式1表示的单元结构。
用于抗蚀剂下层含芳环聚合物包含组合

[发明专利]用于电力设备的部分放电检测装置-CN201080059901.8有效
发明人：柳银泰;黄景禄;金旼秀;梁恒准 -专利权人：株式会社晓星
申请日： 2010-12-24 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G01R31/12 文献下载
摘要：根据本发明可提供一种用于电力设备的部分放电检测装置，所述装置包括绝缘体、接收单元、和连接电极。绝缘体具有一定的形态；接收单元被安装在所述绝缘体的内部或外部，具备接收至少一个以上的子频带的信号的至少一个以上的接收电极；连接电极与连接的同轴电缆联动，通过所述同轴电缆来送出所述接收电极的信号。
用于电力设备部分放电检测装置

[发明专利]硬掩模组合物和形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路器件-CN201110306768.8有效
发明人：吴丞培;田桓承;赵诚昱;金旼秀;宋知胤;崔有廷 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2011-10-11 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供硬掩模组合物，所述硬掩模组合物包括一种化合物和溶剂，所述化合物包括用以下化学式1表示的结构单元，在化学式1中，A、L、B、R₁、R₂、n₁和n₂中的每一个与在具体实施方式中所定义的相同。并且，本发明提供了利用所述硬掩模组合物形成图案的方法，以及包括通过所述图案形成方法形成的多个图案的半导体集成电路器件。所述硬掩模组合物具有高的蚀刻选择性和改进的光学特性，同时保证对多重蚀刻的抗蚀性。[化学式1]
模组形成图案方法以及包括半导体集成电路器件

[发明专利]硬掩模组合物和形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路器件-CN201110304927.0有效
发明人：宋知胤;金旼秀;田桓承;吴丞培;崔有廷 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2011-10-10 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供了一种硬掩模组合物，其包含由以下化学式1表示的含芳环化合物和溶剂，在化学式1中，A、R₁至R₆、X₁至X₆、n₁至n₆均与说明书中具体定义的相同。本发明还提供了一种通过使用该硬掩模组合物来形成图案的方法和包括通过该图案形成方法形成的多个图案的半导体集成电路器件。本发明的硬掩模组合物能够在确保对多重蚀刻的抗性的同时，具有高蚀刻选择性和改善的光学性能。
模组形成图案方法以及包括半导体集成电路器件

[发明专利]硬掩模组合物和形成图案的方法、以及包括图案的半导体集成电路器件-CN201110315277.X有效
发明人： 金旼秀;田桓承;宋知胤;金永珉;李哲虎;李忠宪 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2011-10-17 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供了硬掩模组合物和形成图案的方法、以及包括图案的半导体集成电路器件。所述硬掩模组合物包括含芳环化合物和溶剂，所述含芳环化合物包括由以下化学式1表示的部分和由以下化学式2表示的部分中的至少一种。在化学式1或2中，Ar、R₁至R₃以及n如在详细描述中所定义。此外，提供了通过使用硬掩模组合物用于形成图案的方法、以及包括通过图案形成方法形成的多个图案的半导体集成电路器件。根据本发明的硬掩模组合物具有优异的间隙填充性能和平面化特性以及改善的耐蚀刻性和光学性能。[化学式1][化学式2]
模组形成图案方法以及包括半导体集成电路器件

[发明专利]芘主链聚合物及含有该聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法-CN201110305955.4有效
发明人：尹敬皓;金钟涉;鱼东善;吴昌一;邢敬熙;金旼秀;李镇国 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2007-12-31 - 公布日： 2012-06-27 - 主分类号： C08G61/02 文献下载
摘要：提供了芘主链聚合物和含有该芘主链聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法。所述硬掩模组合物含有有机溶剂、引发剂、和由式C表示的芘主链聚合物，这些在说明书中有描述。本发明的硬掩模组合物可以用于提供以很高的纵横比图案化的多层薄膜，并且可以将良好的图像转移至下层。另外，通过旋转涂覆技术可以很容易地施覆组合物。
芘主链聚合物含有反射模组以及材料图案方法

[发明专利]萘主链聚合物及含有该聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法-CN201110306447.8有效
发明人：尹敬皓;金钟涉;鱼东善;吴昌一;邢敬熙;金旼秀;李镇国 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2007-12-31 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： C08G61/02 文献下载
摘要：提供了萘主链聚合物和含有该萘主链聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法。所述硬掩模组合物含有有机溶剂、引发剂、和由式B表示的萘主链聚合物，这些在说明书中有描述。本发明的硬掩模组合物可以用于提供以很高的纵横比图案化的多层薄膜，并且可以将良好的图像转移至下层。另外，通过旋转涂覆技术可以很容易地施覆组合物。
萘主链聚合物含有反射模组以及材料图案方法

[发明专利]具有抗反射特性的下层组合物-CN200980148064.3有效
发明人：尹敬皓;李镇国;田桓承;金旼秀;宋知胤 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2009-12-01 - 公布日： 2011-10-26 - 主分类号： C08G61/02 文献下载
摘要：本发明提供一种用于平版印刷方法的具有良好抗反射性的下层组合物。该组合物具有优异的光学特性、机械特性，及蚀刻选择性，且可使用旋涂方法涂敷。有利地，该组合物可应用于短波长平版印刷方法并显示最少的剩余酸。
具有反射特性下层组合

[发明专利]用于基于位置信息更新和提供存在信息的方法和装置-CN200980137342.5有效
发明人： 金旼秀;全永基 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2009-09-24 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： H04B7/26 文献下载
摘要：公开一种存在服务提供系统和方法，其向观察者提供关于存在体的存在信息。该存在系统设置映射信息，所述映射信息包含匹配于对应于该至少一个存在体的位置信息的存在信息。当经由定位系统接收位置信息时，存在系统从所设置的映射信息中检测匹配于接收的位置信息的存在信息。所检测到的存在信息被从存在系统发送到观察者。存在服务提供系统能够根据存在体的位置提供各种存在信息，从而观察者通过存在信息能够更具体和清楚地识别存在体的状态。
用于基于位置信息新和提供存在方法装置

[发明专利]用于抗蚀剂下层的包含芳香环的化合物，以及抗蚀剂下层组合物-CN201010613154.X有效
发明人：赵诚昱;田桓承;金旼秀;吴丞培;宋知胤 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： C07C33/26 文献下载
摘要：本发明披露了由以下化学式1表示的含芳香环化合物和包含所述化合物的抗蚀剂的下层组合物。在化学式1中，每个取代基与具体实施方式中定义的相同。所述含芳香环化合物可以具有优异的光学性能、机械特性和蚀刻选择性特性，并且可以利用旋涂涂覆方法应用。它对于利用短波长的光刻过程也是有用的，并显示出最小的残留酸含量。本发明还提供了利用抗蚀剂的下层组合物图案化器件的方法。[化学式1]
用于抗蚀剂下层包含芳香化合物以及组合

[发明专利]含芳环的聚合物及含有该聚合物的硬掩膜组合物-CN201010566229.3有效
发明人：邢敬熙;金钟涉;鱼东善;吴昌一;尹敬皓;金旼秀;李镇国 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2007-12-20 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： C08G61/02 文献下载
摘要：本发明提供了说明书中描述的式3的含芳环的聚合物。本发明还提供了一种具有增透特性的硬掩膜组合物，该组合物含有所述含芳环的聚合物。该硬掩膜组合物适用于平版印刷工艺并且具有优异的光学特性和机械特性。另外，该组合物易于通过旋转涂布技术施用。特别地，该组合物对干蚀刻有很高的抗蚀性。因此，该组合物可用于提供形成高纵横比图案的多层薄膜。
含芳环聚合物含有硬掩膜组合

[发明专利]光刻胶下层聚合物和光刻胶下层组合物及用其图案化的方法-CN201010242377.X有效
发明人：宋知胤;田桓承;赵诚昱;尹敬皓;金旼秀;吴丞培 -专利权人：第一毛织株式会社
申请日： 2010-07-29 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： C08G61/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶下层聚合物、含有这种光刻胶下层聚合物的光刻胶下层组合物以及图案化器件的方法。该聚合物包括由以下化学式1表示的重复单元和/或由以下化学式2表示的重复单元。[化学式1] [化学式2]在以上化学式1或2中，每一取代基与在详细描述中定义的取代基相同。
光刻下层聚合物组合图案方法