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[发明专利]一种处理设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法-CN202310666626.5在审
发明人：周芸福;黎微明;许允昕;郭云飞;许所昌 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-06-06 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本申请涉及一种处理设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法。其中处理设备包括反应室、加热装置和真空室。反应室内形成反应腔。加热装置包括加热室。加热室套设于反应室外。真空室内形成真空腔，反应室和加热装置设置于真空腔内。该结构的设置，实现了待反应物从传片到进入反应腔内始终保持真空状态，无需破真空，进而待反应物无需与大气接触，以使得待反应物之间气体流阻更加一致，能够有效提高待反应物之间的膜厚均匀性。同时，能够避免反应腔内待反应物在发生反应时，不会受到大气压强以及大气温度的干扰，以保证反应腔内气体的均匀性，使得待反应物之间气体流阻的一致性更好，进而待反应物之间的膜厚均匀性也更好。
一种处理设备半导体镀膜及其方法

[发明专利]一种化学物质输送系统及方法-CN202310782006.8在审
发明人：龚炳建;许所昌;宋道甫 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：本申请提供一种化学物质输送系统及方法，载气进气口通过第一载气支路与汽化器连接，且通过第二载气支路与液体化学物质箱连接；液体化学物质箱通过液体化学物质输送管路，与汽化器连接；汽化器中的快速隔膜阀的进气口与第一载气支路连接；快速隔膜阀的气液出口与汽化器的腔体连接；快速隔膜阀的进液口与液体化学物质输送管路连接；汽化器通过工艺气体沉积管路，与工艺气体沉积的反应腔体连接；快速隔膜阀用于在向反应腔体输送化学蒸汽时开启，在对反应腔体进行吹扫时关闭。通过快速隔膜阀可将响应时间缩短，实现快速将大量化学物质输入反应腔体，满足微观结构复杂的工艺气体沉积的需求。
一种化学物质输送系统方法

[发明专利]一种化学物质输送系统及方法-CN202310783458.8在审
发明人：龚炳建;许所昌;侯永刚 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：本申请提供一种化学物质输送系统及方法，载气进气口通过第一载气支路与汽化器连接，载气进气口通过第二载气支路分别与第一和第二阀门连接；第一阀门连接前级管路，第二阀门连接反应腔体；汽化器通过液体化学物质输送管路，与液体化学物质输送系统连接；汽化器通过薄膜沉积管路分别与第三和第四阀门连接；第三阀门连接前级管路，第四阀门连接反应腔体；第一阀门和第四阀门用于在输送化学蒸汽时开启，在进行吹扫时关闭；第二阀门和第三阀门用于在进行吹扫时开启，在输送化学蒸汽时关闭。从而本申请通过四个阀门之间的快速切换，可快速将大量化学物质输入反应腔，满足微观结构复杂的薄膜沉积的需求。
一种化学物质输送系统方法

[发明专利]一种半导体用加热设备、半导体镀膜设备以及加热方法-CN202310692615.4有效
发明人：周芸福;黎微明;许允昕;许所昌 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-06-13 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H05B3/02 文献下载
摘要：本申请提供了一种半导体用加热设备、半导体镀膜设备以及加热方法，该半导体用加热设备包括加热室、第一加热件以及第二加热件，加热室内形成工作腔，第一加热件套设于加热室的外壁，且第一加热件呈带状，呈首尾相接绕设于加热室外壁；第二加热件设置于加热室的一端，第二加热件与第一加热件相邻设置；其中，第一加热件包括：第一导热层，包裹设置于加热室外壁；第二导热层，与第一导热层层叠设置；加热丝，夹设于第一导热层和第二导热层之间。本申请的半导体用加热设备通过第一加热件和第二加热件对加热室进行加热，提高加热室内的温度均匀性的同时，做到紧靠加热室，以最短距离进行加热，减少热量损失，提高加热效率。
一种半导体加热设备镀膜以及方法

[发明专利]一种合金薄膜的制备方法-CN202310703009.8在审
发明人：李翔;袁红霞;强慧;韩萍;许所昌;王学博 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-06-13 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种合金薄膜的制备方法包括：提供反应腔室，反应腔室内设有喷淋装置和承载平台；在承载平台表面放置前制程结构；在前制程结构的表面形成第一元素至第M元素具有特征原子比的合金薄膜，步骤包括：设置喷淋装置具有特征温度；设置喷淋装置与承载平台之间具有特征距离；设置稳流装置具有特征流量；在特征温度、特征距离和特征流量的条件下向所述腔室内通入第一前驱体至第M前驱体，M为大于或等于2的整数；通过调节特征温度、特征距离和特征流量中的任意一个或几个参数的数值来调节特征原子比。合金薄膜的制备方法工艺简单且合金薄膜可实现不同元素之间的原子比可控调节。
一种合金薄膜制备方法

[发明专利]喷淋板、反应腔室、使用气体的处理设备及基片处理方法-CN202310489360.1在审
发明人：周芸福;郭云飞;王新征;许允昕;许所昌;周仁;黎微明;吴飚;侯彬 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-05-04 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种喷淋板、反应腔室、使用气体的处理设备以及基片的处理方法，淋板一面为平面、另一面为非平面，可使得本体中部区域的厚度大于两侧区域的厚度，这样气道可以设置在本体的不同厚度处，使得位于中部的气道至喷淋面的距离大于两侧区域气道至喷淋面的距离，这样中部区域的喷淋路径较两侧区域的喷淋路径更长，而喷淋面的中部面向待加工基片的中部区域，喷淋面的两侧区域面向待加工基片的两侧区域，从而，可以通过喷淋路径长度不同，改善进气腔体的混气二次分配的效果，提高混气效率和均匀性，有利于镀膜均匀性的改善。
喷淋反应使用气体处理设备方法

[发明专利]一种反应设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法-CN202310689192.0在审
发明人：周芸福;黎微明;许允昕;郭云飞;许所昌 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-06-12 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：本申请涉及一种反应设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法。其中反应设备包括反应室、第一盖板、进气组件和匀流板。其中反应室内形成反应腔，用于承载待反应物，反应室包括相对设置的第一端和第二端。第一盖板盖设于第一端。进气组件设置于第一盖板，进气组件与反应腔连通。匀流板设置于第一盖板和反应室之间。第一盖板与匀流板的排列方向和待反应物的垂直轴线相互垂直，匀流板朝向第一盖板一侧壁面呈隆起设置，第一盖板朝向匀流板一侧壁面呈凹陷设置。该结构的设置使得反应源在进入反应室的过程中扩散更加均匀，以使得待反应物上的反应源的分布更均匀，进而待反应物之间的膜厚均匀性更好。
一种反应设备半导体镀膜及其方法

[发明专利]输送装置及自动输送系统-CN202211389712.8在审
发明人： 许所昌;龚炳建;王新征;周芸福 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：本申请涉及一种输送装置及自动输送系统，包括主体及旁通管，主图内部具有用于输送第一介质的输送通道，输送通道的出口与反应装置连通，旁通管与树洞通道连通且用于输送第二介质。其中，输送通道具有用于产生负压的第一功能段，旁通管与功能段连通，第二介质在功能段产生的负压作用下通过旁通管被吸入输送装置。如此，旁通管内的第二介质，在第一功能段产生的负压作用下，被自动且快速的吸入输送通道内并随第一介质一起从输送通道的出口进入反应装置内，以满足反应装置的后续工艺要求。
输送装置自动系统

[发明专利]镀膜设备及其控制方法-CN202211391978.6在审
发明人：荒见淳一;许所昌;黎微明;李翔;吴飚 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本申请涉及一种镀膜设备及其控制方法，包括反应腔和抽气系统，反应腔具有排气部，抽气系统包括排气管阀组件、第一泵体及第二泵体，第一泵体的入口侧和第二泵体的入口均经由排气管阀组件连接至排气部，第一泵体的出口侧连通大气，其中，第二泵体的真空度大于第一泵体的真空度，且第二泵体的出口侧经由排气管阀组件连接至第一泵体的入口侧。本申请通过第二泵体能够实现较高真空度的要求，强化反应腔内挥发性有机物质、湿气等杂质的抽离，提高反应腔的洁净度，减小薄膜中的杂质含量，提高所制备的薄膜质量。同时，第一泵体的设置不仅可以降低第二泵体的负载、且进行预抽气，提高第二泵体的使用寿命，避免第二泵体过载而影响抽真空。
镀膜设备及其控制方法

[发明专利]原子层沉积设备-CN202211369288.0在审
发明人：智顺华;钱一萍;许所昌;吴飚;周仁 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请实施例涉及一种原子层沉积设备。该原子层沉积设备包含：过渡腔、扩散腔以及一或多个抽气结构。过渡腔具有进气口以接收气体。扩散腔从第一端部延伸到第二端部，且在径向方向上第一端部的宽度小于第二端部的宽度，且扩散腔与过渡腔连通且经配置以容纳待沉积的半导体晶片。一或多个抽气结构与扩散腔连通。与现有技术相比，本申请提供的一种原子层沉积设备，其通过对沉积设备的腔体结构和进源方式进行改进，减少了沉积过程的每个循环的时间，提高了沉积效率。
原子沉积设备

[发明专利]一种喷淋组件、半导体设备及晶片的加工方法-CN202211105794.9在审
发明人：智顺华;许所昌 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种喷淋组件、半导体设备及晶片的加工方法，提供环形喷淋板，该喷淋板的环形区形成多个独立的喷淋区，可以根据需要对通入的反应物的流量和浓度等分别进行调节，这些喷淋区环形分布，可以设置于中心进气口的边缘区域，可以根据需要对不同的喷淋区通入的反应物的流量和浓度等分别进行调节，进而调整晶片表面工艺参数的一致性，从而达到提高晶片边缘区域与中心区域沉积厚度的均匀性的目的。
一种喷淋组件半导体设备晶片加工方法

[实用新型]ALD喷淋组件及ALD镀膜设备-CN202120612864.4有效
发明人：黎微明;李翔;周芸福;王新征;许所昌 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种ALD喷淋组件，包括基板、盖板及第一进气件。盖板密封连接于基板且覆盖开口，待加工件放置于反应腔内，反应气体从第一进气孔进入进气腔后，进气腔会提供给反应气体一个缓冲空间，经过进气腔缓冲后的气体分布更加均匀。同时，从第一出气口排出的反应气体通过多个第一连通孔进入反应腔，进一步地提高了进入反应腔内的反应气体的均匀性，从而确保了反应腔内的反应气体与待加工件之间的接触更加均匀，使得最终反应气体在待加工件上生成的薄膜更加均匀，提高了薄膜的质量。本实用新型还涉及一种ALD镀膜设备。
ald 喷淋组件镀膜设备

[实用新型]反应源瓶及真空镀膜设备-CN202121644089.7有效
发明人：龚炳建;黎微明;李翔;许所昌 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种反应源瓶，其包括：瓶体，具有蒸发腔以及连通所述蒸发腔的开口；盖体，盖设在于所述开口上，所述盖体上设置有进气管和出气管，所述进气管与所述蒸发腔连通，用于向所述蒸发腔输入反应气体；通道块，设置在所述蒸发腔内，且具有曲折延伸的反应通道，其中，所述蒸发腔内置放有反应物源，所述反应通道的进气端与所述蒸发腔连通，所述反应通道的出气端与所述出气管连通。上述反应源瓶，反应气体在瓶体内与反应物源接触之后，携带反应物源的反应气体能够在反应通道内长时间的停留，使得反应气体和反应物源能够充分进行反应，之后再从出气管排出，保证了反应气体在反应源瓶内的充分反应，保证了镀膜的质量。
反应真空镀膜设备

[发明专利]栅介质层、场效应管的制造方法及场效应管器件-CN201810179008.7有效
发明人： 许所昌 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2018-03-05 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种在高k介质层金属栅极(HKMG)整合工艺中，改善栅介质层中氮原子分布的方法，通过在对栅介质层掺氮处理后增加湿法刻蚀工艺，去除其一定厚度的表面部分，使其新裸露出的表面氮原子浓度大于原始表面氮原子浓度，从而改善氮原子在栅介质层表面的浓度分布，避免了因掺氮后阈值电压漂移过大影响功函数的调节。
介质场效应制造方法器件

[发明专利]一种质子交换膜燃料电池金属双极板多纳米涂层结构的制备方法-CN201911364754.4有效
发明人：黎微明;马树全;许所昌;窦凤祥 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2020-02-27 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： H01M8/0228 文献下载
摘要：本发明公开了一种质子交换膜燃料电池金属双极板多纳米涂层结构的制备方法，属于质子交换膜燃料电池技术领域，该方法包含如下步骤：在清洗处理后的不锈钢或钛合金上利用PVD、CVD、ALD或电沉积中的任一种工艺，制备籽晶层；再利用PVD、CVD、ALD或电沉积工艺中的任一种制备第一功能层；进一步，利用ALD工艺制备分别制备第二功能层，其中籽晶层和催化层至少包含一种。本发明的结构在燃料电池工作的酸性环境下耐腐蚀性更强，同时第二功能层对第一功能层的缺陷也起到了修补、进一步保护的作用，催化层起到到加快反应速率的作用。与传统的涂层方式相比，能大大提高双极板的使用寿命，满足商业化需求。
一种质子交换燃料电池金属极板纳米涂层结构制备方法

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