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[实用新型]一种真空镀膜设备观察窗辅助机构-CN202320666166.1有效
发明人：蒲春;徐伟;蒋碧含;温建仁;韩仁龙;侯立杰;王红江;贾范 -专利权人：北京北方华创真空技术有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C14/52 文献下载
摘要：本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，包括离化装置和吸附装置，离化装置包括高压正极和高压负极，高压正极和高压负极相对设置；吸附装置用于吸附离化出来的离子和电子。本申请具有减少颗粒附着在观察窗上的效果。
一种真空镀膜设备观察窗辅助机构

[实用新型]一种地下水采集装置-CN202222692567.2有效
发明人：赵阳刚;蒲春;曾蛟;周洪;段阳海;张浔浔 -专利权人：中国地质调查局军民融合地质调查中心
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G01N1/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及地下水监测技术领域，具体为一种地下水采集装置，包括采集管、支撑柱和壳体，所述壳体内的中部设置有水泵，所述水泵上设置有保护壳，所述保护壳内设置有电池和电路板，所述电路板上设置有处理模块、计时模块和电源模块，所述水泵的周围防止有数个取水瓶，每个所述取水瓶的瓶口处均安装有瓶盖，所述瓶盖上设置有进水管和排水管，所述进水管与水泵连接，并设置有电磁阀，所述壳体的侧面设置有光伏发电板，通过电路板上各个模块、水泵取水瓶之间的配合，使该装置能够自动抽出地下水，并自动对取水瓶进行装水，通过该装置打开壳体，再旋下取水瓶的瓶盖即可将取水瓶带走，不需要再进行现场取水，使得该装置的取水更方便快捷。
一种地下水采集装置

[实用新型]一种新型水文钻探夹持器-CN202222911864.1有效
发明人：蒲春;赵阳刚;段阳海;张浔浔;杨斌;杨科;次仁多杰;格桑吉米 -专利权人：中国地质调查局军民融合地质调查中心
申请日： 2022-11-02 - 公布日： 2023-01-20 - 主分类号： E21B19/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及水文钻辅助设备技术领域，且公开了一种新型水文钻探夹持器，包括装置主体、第一夹槽和第二电机，装置主体的顶部活动连接有第一夹槽，第一夹槽的右侧固定连接有第一电机，第一电机的左侧活动连接有螺纹杆，螺纹杆的外围活动连接有螺纹筒，螺纹筒的左侧固定连接有第一夹板，第一夹板提高装置夹紧效果，工作人员将钻针从第一夹槽和第二夹槽的顶部中间部位插入，通过第一电机匀速旋转带动螺纹杆匀速旋转，通过螺纹杆匀速旋转带动螺纹筒向右侧移动，通过两端螺纹筒带动两端第一夹板向内侧移动，通过两端第一夹板将钻针进行固定，且第二夹板的右侧设有弹簧，利用弹簧进行缓冲效果，防止钻针钻孔时，导致钻针左右针晃动。
一种新型水文钻探夹持

[发明专利]预测绵柔型白酒基酒质量等级的方法-CN202210650567.8在审
发明人：许正宏;张龙云;柴丽娟;张竞一;杨婷;高涛;蒲春;钱莉莉 -专利权人：江苏洋河酒厂股份有限公司;江南大学
申请日： 2022-06-09 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： G01N30/02 文献下载
摘要：本发明公开了预测绵柔型白酒基酒质量等级的方法，属于白酒酿造领域。本发明利用绵柔型白酒基酒的挥发性风味组分的指纹图谱建立并训练优化了K最近邻模型，然后，利用CART算法对挥发性风味组分进行筛选，除去对预测模型影响不明显甚至存在负效应的物质，得到特征物质，成功实现了特征空间维数的压缩，有效、可靠地提高了建模质量，用较少物质即可实现较高准确率的预测。并且，本发明方法操作简便、快速，适用于大通量分析。
预测绵柔型白酒酒质等级方法

[发明专利]气相沉积冷却装置-CN201810350546.8在审
发明人：蒲春 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2018-04-18 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及气相沉积技术领域，公开了一种气相沉积冷却装置，包括：冷却液注入机构和升降装置；冷却液注入机构包括：注液部件和进液管；注液部件设置在真空沉积区内，当载体停留在真空沉积区内时，注液部件在升降装置的驱动下上下移动插入载体内部的冷却液容纳区内，注入冷却液；所述进液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述注液部件连通，以便于从外部通过所述注液部件向所述冷却液容纳区内注入冷却液；进液管从外部伸入真空沉积区内并与注液部件连通，以便于从外部通过注液部件向冷却液容纳区内注入冷却液。本发明的气相沉积冷却装置能够实现在线气相沉积装置中基片的冷却散热，结构简单、操作方便，散热效率高。
冷却液注液部件真空沉积冷却装置气相沉积进液管外部升降装置注入机构容纳伸入连通气相沉积装置散热效率上下移动散热沉积冷却驱动停留

[发明专利]耐磨合金粉及其应用、耐磨焊层的制备方法-CN201910506905.9在审
发明人：余伟;李玉玺;颜维;雷勇;王维民;朱飞飞;蒲春 -专利权人：自贡长城硬面材料有限公司
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： B23K35/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种耐磨合金粉，包括以下质量比的组分制备得到：铸造碳化钨粉：镍铬硼硅合金粉质量比为3‑6:4‑7，所述铸造碳化钨粉或镍铬硼硅合金粉的粒度为80‑325目。本发明仅采用两种组分即可，成本更低，且制备的产品使用寿命长，经过等离子堆焊后的搅拌器使用寿命达到10个月，提高了6倍。
制备镍铬硼硅合金铸造碳化钨耐磨合金质量比等离子堆焊产品使用耐磨焊层使用寿命搅拌器应用

[实用新型]一种载板-CN201821702065.0有效
发明人：蒲春 -专利权人：东泰高科装备科技有限公司
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型涉及载板技术领域，尤其涉及一种载板。该载板包括具有N个侧面的承载区域和N个边缘区域，所述N个边缘区域分别对应设置在所述承载区域的N个侧面，所述N个边缘区域中的X个边缘区域与所述承载区域弹性连接，所述N为大于等于2的正整数，X为大于等于1小于等于N的正整数。本实用新型提供的载板，能够在保证基片的镀膜均匀性的前提下，有效减少载板的边缘区域造成的镀膜浪费，同时有效减少载板的边缘区域造成的设备空间的浪费。
边缘区域载板承载区域有效减少正整数本实用新型镀膜均匀性弹性连接设备空间侧面镀膜保证

[实用新型]气相沉积冷却装置-CN201820554418.0有效
发明人：蒲春 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2018-04-18 - 公布日： 2018-12-14 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及气相沉积技术领域，公开了一种气相沉积冷却装置，包括：冷却液注入机构和升降装置；冷却液注入机构包括：注液部件和进液管；注液部件设置在真空沉积区内，当载体停留在真空沉积区内时，注液部件在升降装置的驱动下上下移动插入载体内部的冷却液容纳区内，注入冷却液；所述进液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述注液部件连通，以便于从外部通过所述注液部件向所述冷却液容纳区内注入冷却液；进液管从外部伸入真空沉积区内并与注液部件连通，以便于从外部通过注液部件向冷却液容纳区内注入冷却液。本实用新型的气相沉积冷却装置能够实现在线气相沉积装置中基片的冷却散热，结构简单、操作方便，散热效率高。
冷却液注液部件真空沉积冷却装置气相沉积进液管本实用新型外部升降装置注入机构容纳伸入连通气相沉积装置散热效率上下移动散热沉积冷却驱动停留

[发明专利]反应腔室和半导体加工设备-CN201410732563.X有效
发明人：蒲春 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室和一种半导体加工设备，所述反应腔室包括具有第一入气口和第一排气口的腔体，所述腔体内设置有基座和隔热罩，所述隔热罩将所述腔体内的空间分隔为反应子腔和隔离子腔，所述反应子腔设置有贯穿所述隔热罩的第二入气口和贯穿所述隔热罩的第二排气口，所述基座设置在所述反应子腔内，所述反应腔室还包括凸起结构，所述凸起结构的上表面凸出于所述腔体的底壁，所述隔热罩的底部支撑在所述凸起结构上，且所述隔热罩的底部与所述凸起结构相接触的面积小于所述隔热罩的底部面积，以使得所述隔热罩的底部的至少一部分与所述腔体的底壁分离。本发明能够提高基座周围温度场的均匀性。
反应半导体加工设备

[发明专利]加热装置、反应腔室及等离子体加工设备-CN201310348967.4有效
发明人：张秀川;蒲春 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2013-08-12 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本发明提供加热装置、反应腔室及等离子体加工设备，加热装置包括多个相互独立的子线圈、通断开关和交流电源，其中多个子线圈分别对应于被加工工件表面的不同区域设置；通断开关用于选择性地将多个子线圈中的其中一个子线圈与交流电源电连接，或者选择性地将多个子线圈中的其中至少两个子线圈串联形成多匝线圈，并将该多匝线圈与交流电源电连接；交流电源用于向与其电连接的子线圈提供交变电流，以使该子线圈或多匝线圈采用感应加热的方式对与之相对应的被加工工件表面的区域进行加热。本发明提供的加热装置，其可以采用感应加热的方式对被加工工件进行均匀加热，从而可以提高工艺的均匀性。
加热装置反应等离子体加工设备

[实用新型]一种基片固定装置-CN201820056459.7有效
发明人：刘旭;蒲春 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2018-01-12 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基片固定装置，载板的各个边框槽的深度不同，即各个边框槽的外侧边缘与对应的边框的内侧边缘的距离不尽相同，在实际放置基片时，可将基片向深度较小的边框槽靠近或贴紧放置，即首先保证基片在深度较小边框槽处无效边被遮挡，即可保证各个无效边被遮挡，如此即可避免基片放置到基片槽中之后的遮挡无效边区域变小、甚至遮挡失败的情况，满足镀膜要求；另外，在基片与压块之间设置弹性件，可保证始终对基片实现压紧，从而解决基片厚度的差异会造成基片无法同时压紧的情况。
边框槽遮挡基片固定装置压紧边框本实用新型镀膜要求内侧边缘外侧边缘弹性件基片槽保证变小贴紧压块载板失败

[实用新型]PVD设备的冷却装置以及PVD设备总成-CN201721629568.5有效
发明人：蒲春 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种PVD设备的冷却装置以及PVD设备总成，其中，前者包括冷却腔室和冷却板；冷却腔室位于工艺腔室外部；冷却板位于冷却腔室中，冷却板能移动至工艺腔室中，并与载板的底部相贴合。本实用新型提供的PVD设备的冷却装置，载板进入工艺腔室之后，冷却板上升与载板的底部贴合，从而对载板进行冷却，避免了加工过程中温度太高，从而确保加工顺利进行。
冷却板载板冷却腔室冷却装置工艺腔室贴合本实用新型设备总成工艺腔室外部总成本冷却移动加工

[实用新型]PVD设备总成-CN201721671379.4有效
发明人：蒲春 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种PVD设备总成，包括工艺腔室，工艺腔室中设置有工艺源、载板和冷却板；载板与工艺源之间形成有工艺区；冷却板位于所述工艺区之外；冷却板上开设有冷却通道；冷却通道预留有进风口和出风口，出风口朝向载板；冷却气体经过进风口进入冷却通道，并从出风口吹至载板上。当载板置于工艺腔室中之后，冷却板的出风口朝向载板吹出冷却气体，从而将载板连同基片进行冷却，冷却效率非常高，并且能同时适用于批次式加工的PVD设备和在线式PVD设备。
载板出风口冷却板工艺腔室冷却通道冷却气体工艺区进风口冷却效率设备总成在线式总成本吹出冷却预留加工

[发明专利]一种基片固定装置-CN201810031427.6在审
发明人：刘旭;蒲春 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2018-01-12 - 公布日： 2018-05-25 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了一种基片固定装置，载板的各个边框槽的深度不同，即各个边框槽的外侧边缘与对应的边框的内侧边缘的距离不尽相同，在实际放置基片时，可将基片向深度较小的边框槽靠近或贴紧放置，即首先保证基片在深度较小边框槽处无效边被遮挡，即可保证各个无效边被遮挡，如此即可避免基片放置到基片槽中之后的遮挡无效边区域变小、甚至遮挡失败的情况，满足镀膜要求；另外，在基片与压块之间设置弹性件，可保证始终对基片实现压紧，从而解决基片厚度的差异会造成基片无法同时压紧的情况。
边框槽遮挡基片固定装置压紧边框镀膜要求内侧边缘外侧边缘弹性件基片槽保证变小贴紧压块载板失败

[发明专利]调节装置、反应腔室及半导体加工设备-CN201410099577.2有效
发明人：蒲春 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2014-03-18 - 公布日： 2018-01-09 - 主分类号： C30B29/06 文献下载
摘要：本发明提供一种调节装置、反应腔室及半导体加工设备，调节装置包括调节杆、连接杆和支撑杆，支撑杆用于支撑连接杆，且支撑杆与连接杆动连接；连接杆的固定端与感应线圈的一个子线圈固定连接，连接杆的活动端与调节杆的一端通过旋转轴固定；通过调节调节杆的移动和/或旋转带动与之连接的连接杆的活动端围绕旋转轴旋转，因而间接带动连接杆的固定端围绕旋转轴旋转，固定端在旋转的过程中带动与之固定连接的子线圈移动，以实现调节该子线圈和与之相邻的子线圈之间的间距。本发明提供的调节装置，不仅可以提高感应线圈对托盘加热的均匀性，从而可以提高工艺质量；而且可以提高该调节装置的实用性。
调节装置反应半导体加工设备

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