“葛黎黎”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果16个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种用于称重雨量传感器的校准设备-CN202223328409.5有效
发明人：郑国宏;陈金根;刘昭武;陈为超;李新亚;王峰;高云鹤;张智;柴红;刘建伟;葛黎黎 -专利权人：北京十环科技有限公司;新疆金锋华云气象科技有限公司
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G01W1/18 文献下载
摘要：本实用新型实施例涉及一种用于称重雨量传感器的校准设备，包括校准设备包括壳体、传感器放置台、传感器、水平校准台、电子秤、净水器、进水管、进水电动推杆、称量桶、升降电动推杆、出水管和电气柜；其中，净水器进水口与外接水源相连接，出水口与进水管相连；进水电动推杆控制进水管出水口伸入或退出称量桶顶部；称量桶放置在电子秤上；升降电动推杆驱动称量桶升降；出水管的进水口设置在称量桶上方，出水口设置在传感器上方；电气柜与升降电动推杆、进水电动推杆、进水阀、出水控制器、电子秤、传感器电性连接。该设备无需对称重雨量传感器进行拆解，可实现自动化检测、校准多种型号的称重雨量传感器的精准度，具有简单化、标准化的特点。
一种用于称重雨量传感器校准设备

[发明专利]一种用于称重雨量传感器的校准设备和方法-CN202211606386.1在审
发明人：郑国宏;陈金根;刘昭武;陈为超;李新亚;王峰;高云鹤;张智;柴红;刘建伟;葛黎黎 -专利权人：北京十环科技有限公司;新疆金锋华云气象科技有限公司
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： G01W1/18 文献下载
摘要：本发明实施例涉及一种用于称重雨量传感器的校准设备，包括校准设备包括壳体、电动升降台、传感器放置台、传感器、水平校准台、电子秤、净水器、进水管、进水电动推杆、称量桶、升降电动推杆、出水管和电气柜；其中，净水器进水口与外接水源相连接，出水口与进水管相连；进水电动推杆控制进水管出水口伸入或退出称量桶顶部；升降电动推杆驱动称量桶升降；出水管的进水口设置在称量桶上方，出水口设置在传感器上方；电气柜与升降电动推杆、进水电动推杆、进水阀、出水控制器、电子秤、传感器电性连接。该设备无需对称重雨量传感器进行拆解，可实现自动化检测、校准多种型号的称重雨量传感器的精准度，具有简单化、标准化的特点。
一种用于称重雨量传感器校准设备方法

[发明专利]照明均匀性补偿装置和方法-CN202111005473.7在审
发明人：杨建新;葛黎黎 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻设备技术领域，公开了一种照明均匀性补偿装置和方法，其中照明均匀性补偿装置包括：沿照明视场的光轴方向依次设置的多个补偿版，且各所述补偿版沿所述照明视场的长度方向延伸并沿所述延伸方向设有多个相互间隔且高度不相同的补偿台阶，各所述补偿版上的所述补偿台阶沿所述照明视场的长度方向进出所述照明视场以遮挡部分照明光。补偿台阶进入照明视场中作为补偿区域能够遮蔽部分照明光，不同高度的补偿台阶能够实现补偿不同的照度，多个补偿版沿照明视场的长度方向延伸并移动，使得不同高度的补偿台阶移动至目标区域后，实现均匀性补偿，该装置提升了装调效率，降低控制难度。
照明均匀补偿装置方法

[发明专利]夹爪、张网装置及张网方法-CN202110864511.8在审
发明人： 葛黎黎;贾威威;冯佳林;董浩 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：本发明提供一种夹爪、张网装置及张网方法。其中，夹爪中的导向单元包括具有至少两个连接轴的气浮导轨。在拉伸过程中夹持单元受到两个及以上的导向力，避免出现扭转导致的掩模板损坏或偏离目标焊接区域，影响张网精度。并且，反馈单元实时监测掩模板的拉伸位移并反馈至张网装置中的控制单元中，控制单元据此调整驱动单元提供的拉力，不仅提高张网精度，还避免掩模板的拉损。此外，夹爪的驱动单元中还加设了拉伸保护装置，拉伸保护装置可避免掩模板被拉损。当掩模板受到的拉力大于弹性件的弹力设定值时，弹性件增加弹性形变伸出第一框架，带动盖板与第一框架分离，以平衡拉力，减少掩模板的受力，进而保护掩模板免于被拉损，提高产率和经济效益。
夹爪装置方法

[发明专利]一种曝光装置、光刻设备及曝光方法-CN201910578477.0有效
发明人：周畅;朱岳彬;李莉;杨玉杰;彭水平;葛黎黎;沈逸豪 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种曝光装置、光刻设备及曝光方法，曝光装置包括曝光单元、至少一个物料承载运动单元、与所述至少一个物料承载运动单元一一对应的至少一个物料传送单元、第一定位检测单元、第二定位检测单元、位姿调整单元。物料承载运动单元可在物料传送单元的等待工位和曝光单元的曝光工位之间移动，第一定位检测单元，用于在所述物料承载运动单元位于所述等待工位时，检测物料的位姿；第二定位检测单元，用于在所述物料承载运动单元位于所述曝光工位时，检测或校验物料的位姿；位姿调整单元，用于根据所述第一定位检测单元或所述第二定位检测单元的检测结果，调整物料的位置和姿态。本发明实施例能够提高曝光装置的曝光精度。
一种曝光装置光刻设备方法

[发明专利]大尺寸基板曝光机-CN201810757869.9在审
发明人： 葛黎黎;杨志勇;朱岳彬 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-07-11 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种大尺寸基板曝光机，包括：曝光系统、测量系统、运动台系统、照明系统、掩模传输系统、外部框架、核心曝光测量框架、内部支撑框架和位置调节组件，外部框架安装有照明系统和掩模传输系统；核心曝光测量框架设置在外部框架内侧，安装有曝光系统和测量系统；内部支撑框架设置在外部框架和核心曝光测量框架之间，安装有运动台系统；位置调节组件分别与核心曝光测量框架和内部支撑框架连接，位置调节组件被配置为当内部支撑框架随运动台系统运动发生偏移变形时，位置调节组件能够向与内部支撑框架的偏移变形方向相同的方向发生结构形变，调节运动台系统和曝光系统的相对位置不变。上述大尺寸基板曝光机能够提高大尺寸基板的曝光精度。
内部支撑位置调节组件外部框架运动台大尺寸基板曝光系统曝光测量掩模传输系统测量系统框架设置偏移变形照明系统曝光机结构形变框架连接位置不变系统运动配置

[发明专利]一种用于光刻运动台系统的微动台及其控制方法-CN201610617002.4有效
发明人：王理华;廖飞红;朱岳彬;葛黎黎;张魁斌 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2016-07-29 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于光刻运动台系统的微动台及其控制方法，所述微动台安装于工件台的运动部件上，包括微动板和设置于所述微动板底部的四个垂向电机，所述四个垂向电机分设于所述微动板的两侧，每个所述垂向电机对应设置一个传感器，同侧的两个垂向电机之间设置一个Rz电机，距离所述微动板的质心30mm以内处设置有气浮解耦装置。本发明采用四个垂向电机和四个传感器根据冗余驱动原理和冗余测量原理，实现了冗余控制，降低了对微动板频率的要求，即达到50Hz带宽，微动板频率只需做到120Hz左右，降低了对贵重材料的需求，降低了成本；气浮解耦装置靠近微动板的质心而非形心，从而极大地减小了Rz电机的出力。
微动板电机垂向解耦装置微动台传感器质心贵重材料冗余测量冗余控制冗余驱动运动部件工件台运动台光刻减小气浮同侧形心分设带宽出力

[发明专利]运动台装置、曝光装置及光刻机-CN201511031819.5有效
发明人： 葛黎黎;朱岳彬 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种运动台装置、曝光装置及光刻机，其中，所述运动台装置包括：Y向电机，所述Y向电机的电机动子可沿水平面的Y向移动；X向电机，设置在X向导轨上，所述X向导轨与所述Y向电机的电机动子连接，并由所述Y向电机牵引沿水平面的Y向移动，所述X向电机的电机动子可沿水平面的X向移动；内部框架，支承所述X向导轨；运动台，设置在所述X向电机的电机动子上。本发明提供的技术方案使得Y向电机的运动单元整体减重，提升了运动台装置的模态和振动特性，所述X向导轨通过非接触式连接内部框架，对内部框架产生的振动冲击较小，同时使运动控制平稳，提升运动控制精度。
运动装置曝光光刻

[发明专利]一种光刻机减振框架-CN201510270152.8有效
发明人： 葛黎黎;朱岳彬;高玉英 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-05-24 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机减振框架，包括：内部框架，外部框架，包括第一外部框架、第二外部框架和第三外部框架，地基，用于支撑内部框架和外部框架；地基包括相互分离的第一地基、第二地基和第三地基；第一外部框架、第二外部框架和第三外部框架分别由第一地基、第二地基和第三地基支撑；掩模台系统的Y向长行程电机定子设置在第二外部框架上；工件台系统的Y向长行程电机定子设置在第三外部框架上。本发明提供的光刻机减振框架将光刻机的不同部件的质量分布在光刻机减振框架的不同位置，优化减振框架的承载质量分布、减小作用在内部框架上的电机反作用力，使光刻机减振框架残余加速度小、位置稳定性高，稳定时间短，提升光刻机产率。
一种光刻机减振框架

[发明专利]硅片边缘保护装置及保护方法-CN201510052406.9有效
发明人：刘磊;葛黎黎;廖飞红;曹文 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-02-02 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片边缘保护装置及保护方法，该装置包括：安装板、固定在所述安装板上的升降装置和设置在所述升降装置顶部的硅片保护环，其中，所述升降装置包括：固定在所述安装板上的直线运动台、与所述直线运动台活动端固接的滑块以及与所述滑块连接的连接杆，所述连接杆的顶部与所述硅片保护环连接。本发明通过在硅片曝光时对其边缘进行保护，即负胶曝光和边缘保护同时进行，不需要经过二道工序对硅片边缘进行处理；本发明的升降装置采用直线运动台来驱动，结构简单，动作可靠、平稳，成本低廉；本发明集成于硅片运动台上，精度高。
升降装置硅片安装板硅片边缘保护装置连接杆滑块边缘保护发明集成硅片边缘曝光活动端负胶固接驱动

[发明专利]一种硅片边缘保护装置-CN201410857409.5有效
发明人：周旭;崔海仓;倪费;葛黎黎 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2014-12-30 - 公布日： 2017-08-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片边缘保护装置，包括水平运动机构；垂直运动机构；调速装置，用于调节所述垂直运动机构的运行速度；柔性防撞机构，用于连接所述水平运动机构和所述垂直运动机构；控制装置，所述控制装置与所述调速装置信号连接，发出控制信号至调速装置，控制所述垂直运动机构的运动。本发明提供的硅片边缘保护装置可以避免瞬间强烈冲击工件台，避免压碎硅片；当发生碰撞时，可以保护工作台和硅片；并且提高了生产效率。
一种硅片边缘保护装置

[发明专利]一种曝光装置的内部框架结构-CN201310332055.8有效
发明人：王茜;时燕;王璟;王天明;葛黎黎 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-08-02 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种曝光装置的内部框架结构，其特征在于，包括位于一支撑面上的吊框，该吊框上设置至少两个支腿，一主基板位于该支腿之上，该主基板上设置一相对隔离的照明支架以及掩模台支架。
一种曝光装置内部框架结构

[发明专利]曝光装置-CN201210587429.6有效
发明人： 葛黎黎;王天明 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-12-28 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于涂有光刻胶的硅片上，所述曝光装置包括曝光系统、运动台系统、测量系统、对准系统及传输系统，所述曝光系统用于将电路图形投影于所述硅片上，所述运动台系统用于承载掩模版和硅片，并具备快速步进、定位及微调能力，所述测量系统用于测量工件台及掩模台长行程的相对运动距离，所述对准系统用于测量所述掩模版、掩模台和工件台三者之间的相对位置，所述传输系统用于所述掩模版及硅片的交换工作，本发明提供的曝光装置在增大曝光视场、减小框架稳定时间、提高产率等方面提供了一些解决方案，以提高曝光装置的曝光精度，增加曝光装置的曝光效率。
曝光装置

[发明专利]一种光刻机运动台支撑平台-CN201310742835.X在审
发明人： 葛黎黎;杨铁刚;王天明;郭耸 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-12-27 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种光刻机运动台支撑平台，其特征在于，包括：一硅钢，用于为所述运动台提供磁预紧作用面；一吊框，所述吊框用于支撑所述硅钢。本发明公开的光刻机运动台支撑平台具有高刚度、高面型精度、高热稳定性且具备软磁特性。同时还具有减重及冷却腔对支撑平台进行减重及冷却，解决了磁预紧运动台运动中磁场变化导致的发热问题。
一种光刻机运支撑平台

[发明专利]用于气浮轴承的气浮垫-CN201010508109.8有效
发明人： 葛黎黎;王茜 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-10-15 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： F16C32/06 文献下载
摘要：本发明的用于气浮轴承的气浮垫用于连接滑块和导轨，包括上支座、下支座和连接部件；所述连接部件的一端与所述上支座活动连接，该连接部件能相对所述上支座在一定范围内移动；所述连接部件的另一端与所述下支座的一端连接，所述下支座的另一端的端面为气浮面；所述连接部件相对所述上支座的移动带动所述下支座移动，从而改变所述气浮面与所述导轨之间的空气间隙。本发明的用于气浮轴承的气浮垫可在气浮轴承工作时调节气膜厚度，使气浮刚度达到最佳值。
用于轴承气浮垫

1
2
下一页»
尾页
共 16 条