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- [实用新型]RPD镀膜装置-CN202321361583.1有效
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王琦;赵宇;冉孝超;董刚强;吕立强;郁操
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苏州迈为科技股份有限公司
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2023-05-31
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2023-10-17
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C23C14/24
- 本实用新型涉及光伏电池制造技术领域，尤其涉及一种RPD镀膜装置。该RPD镀膜装置包括反应腔室、第一离子枪组件、第二离子枪组件和高温蒸发组件。其中，反应腔室内设置有硅片。第一离子枪组件内设置有第一坩埚，第一坩埚用于盛放第一掺杂金属，第一坩埚连通反应腔室，且第一离子枪组件的功率可调。第二离子枪组件内设置有第二坩埚，第二坩埚用于盛放第二掺杂金属，第二坩埚连通反应腔室，且第二离子枪组件的功率可调。高温蒸发组件与反应腔室连通，高温蒸发组件内盛放有热丝材料，且高温蒸发组件的功率可调。该RPD镀膜装置能够控制TCO薄膜的掺杂比例，提高太阳能电池的发电效率，节约成本。
- rpd镀膜装置
- [发明专利]磁控溅射装置-CN202310872187.3在审
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张永胜;高通;解传佳;周振国;武瑞军
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苏州迈为科技股份有限公司
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2023-07-17
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2023-10-03
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C23C14/35
- 本发明涉及溅射镀膜工艺技术领域，尤其涉及一种磁控溅射装置。包括支撑座和磁铁组件。支撑座上设置有调节组件。磁铁组件包括磁轭、第一类磁铁块、第二类磁铁块和第三类磁铁块，调节组件与磁轭连接，调节组件被配置为调节磁铁组件与靶材之间的距离。第一类磁铁块、第二类磁铁块和第三类磁铁块均设置在磁轭上，沿第一方向，第一类磁铁块位于磁轭的两端位置处，第三类磁铁块位于磁轭的中部位置处，第二类磁铁块位于第一类磁铁块和第三类磁铁块之间；通过对第一类磁铁块、第二类磁铁块和第三类磁铁块充磁方向进行相应调整，进而改善磁铁组件的磁场分布。该磁控溅射装置能够提高靶材的利用率，节约成本。
- 磁控溅射装置
- [发明专利]张力控制方法和装置-CN202310935347.4在审
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郝跃;张永祺;张永胜
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苏州迈为科技股份有限公司
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2023-07-27
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2023-09-29
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B65H26/04
- 本申请涉及一种张力控制方法和装置。所述方法包括：获取距离收放卷机构预设范围内的基材的第一张力；在所述第一张力超出目标第一区间的情况下，迭代调整所述收放卷机构的角速度，直到所述第一张力位于所述目标第一区间以内，得到初始角速度；控制所述收放卷机构按照所述初始角速度转动，周期性获取距离所述收放卷机构预设范围内的基材的第二张力；在所述第二张力超出目标第二区间的情况下，迭代调整所述收放卷机构的角速度，直到所述第二张力位于所述目标第二区间以内；其中，所述目标第二区间小于所述目标第一区间。本公开实施例无需依赖传感器的数据，实现系统内精准自调节。
- 张力控制方法装置
- [实用新型]一种磁感应强度测量装置-CN202320100628.3有效
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王星辰;陆黎华
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苏州迈为科技股份有限公司
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2023-02-02
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2023-09-29
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G01R33/02
- 本实用新型涉及真空磁控溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种磁感应强度测量装置。该磁感应强度测量装置包括安装机构及测量机构，安装机构用于转动支撑待测量件，测量机构包括连接组件、横向探头及轴向探头，连接组件沿待测量件的轴向方向滑动连接于安装机构，横向探头和轴向探头均设置在连接组件上，横向探头的延伸方向与待测量件外表面磁力线的方向垂直，轴向探头的延伸方向与待测量件外表面磁力线的方向平行，横向探头和轴向探头均用于测量待测量件外表面的磁感应强度。磁感应强度测量装置能高效、精准地测量待测量件表面各个位置的磁感应强度。通过设置横向探头和轴向探头，能够对横向探头和轴向探头的测量值进行比对验证，保证了测量的精确度。
- 一种感应强度测量装置
- [实用新型]硅片印刷机-CN202320811964.9有效
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姚成超;陈宇;胡清乐
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苏州迈为科技股份有限公司
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2023-04-13
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2023-09-22
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B41F15/16
- 本实用新型涉及太阳能电池片制造技术领域，具体公开了一种硅片印刷机。本实用新型提供的硅片印刷机，印刷转台上设置四个工作台，缩小了印刷转台的直径，占用空间小，降低了印刷转台的转动惯量，可以提高印刷转台的转速，进而可以提高整个印刷设备的生产效率，且印刷转台的直径变小更便于更换丝网和擦拭丝网；进片站、印刷站和出片站分别对应一个工作台，印刷站能印刷进片站输送的硅片，并通过出片站输出完成印刷的硅片，设置一个印刷站即可，降低了硅片印刷机的设备成本，提高了市场竞争力；印刷站的至少两个刮刀组件通过一组刮刀驱动组件驱动，实现了多个刮刀组件的同步控制，提高了丝网印刷的一致性和生产效率。
- 硅片印刷机
- [实用新型]XY插补机构及硅片搬运系统-CN202320390211.5有效
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韦宝金;陆瑜;陈宇;陈建安
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苏州迈为科技股份有限公司
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2023-03-06
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2023-09-22
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H01L21/67
- 本实用新型涉及自动化技术领域，尤其是涉及一种XY插补机构及硅片搬运系统，旨在解决现有的分选机成本高、占用空间、结构多，导致维护不方便的问题。本实用新型提供了一种XY插补机构，包括传动部件、执行部件、Y1动力部件和Y2动力部件；传动部件包括X轨道、Y1轨道和Y2轨道，X轨道、Y1轨道和Y2轨道形成H形轨道，H形轨道上缠绕有一根连续的同步带；Y1轨道的端部设置有Y1动力部件，Y2轨道的同方位的端部设置有Y2动力部件；执行部件设置于X轨道，执行部件在Y1动力部件和Y2动力部件的带动下进行X方向、Y方向以及X方向和Y方向的复合运动。本实用新型提供的XY插补机构节省空间，维护方便。
- xy机构硅片搬运系统
- [实用新型]光致发光检测装置-CN202320279375.0有效
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杨光;孙路;杨少飞
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苏州迈为科技股份有限公司
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2023-02-22
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2023-09-15
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H01L21/66
- 本实用新型涉及太阳能电池检测技术领域，尤其涉及一种光致发光检测装置，旨在解决现有技术中无法对叠层电池的电池效果进行检测的技术问题。该光致发光检测装置包括输送机构、补光光源、图像采集单元、图像处理分析模块和暗箱；输送机构用于传送电池片；沿输送机构的传送路径，多个补光光源间隔分布，且各补光光源的光源波长不同，图像采集单元与补光光源一一对应设置，各图像采集单元分别用于采集不同波长的图像；图像处理分析模块与图像采集单元信号连接；暗箱罩设于补光光源和图像采集单元的上方。采用该光致发光检测装置，填补了叠层电池在检测方面的空白，能够观测到叠层电池上多层不同电池的光致发光图像效果，从而分析叠层电池的异常点。
- 光致发光检测装置
- [实用新型]硅片包边装置-CN202320438126.1有效
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刘刚;龚志清;魏艺深;李波;洪飞
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苏州迈为科技股份有限公司
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2023-03-09
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2023-09-15
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B05C1/02
- 本实用新型涉及硅片加工技术领域，尤其涉及一种硅片包边装置，旨在解决因硅片位置和形状因素导致涂墨不均甚至部分无法涂墨的问题。本实用新型提供的硅片包边装置包括涂墨组件、驱动组件和承载组件；涂墨组件包括涂墨辊、刮刀和限位挡板，涂墨辊表面形成油墨层，刮刀控制油墨层的厚度；限位挡板设置于涂墨辊和硅片之间并可沿竖直方向移动；驱动组件驱动涂墨组件靠近硅片，进而使硅片边缘插入油墨层。本实用新型通过限位挡板保证硅片边缘与涂墨辊轴线平行，使硅片边缘均匀准确的插入油墨层中以实现对硅片边缘的涂覆，保证了涂覆质量，避免因硅片偏斜等因素导致涂墨不均匀以及部分边缘无法涂墨的问题。
- 硅片装置
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