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[实用新型]真空内磁场约束装置及真空镀膜系统-CN202320438120.4有效
发明人：冯火群;彭孝龙;莫超超 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空内磁场约束技术领域，尤其涉及一种真空内磁场约束装置及真空镀膜系统，旨在缓解现有磁场约束装置安全性能低的技术问题。该真空内磁场约束装置包括固定外壳、电磁线圈、永磁铁、电极馈入和水接头；固定外壳具有容纳腔；电磁线圈设置在永磁铁的至少一个侧面，并同永磁铁一起设置于容纳腔内；电极馈入固定于固定外壳的外壁，并与电磁线圈电连接；水接头设有至少两个，固定于固定外壳的外壁，并与容纳腔连通。该真空镀膜系统包括真空内磁场约束装置。通过该真空内磁场约束装置，可以产生约束磁场实现对等离子体的约束，同时循环的冷却水可带走电磁线圈产生的热量，提高了安全性能。
真空磁场约束装置真空镀膜系统

[发明专利]动态镀膜装置及其动态镀膜方法-CN202211632285.1在审
发明人：张永胜;解传佳;武瑞军;彭孝龙;杨肸曦 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种动态镀膜装置及其动态镀膜方法，动态镀膜装置包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，过渡腔包括至少三个检测元件，相邻两个检测元件限定出一过渡区间，过渡区间内设有一驱动机构，驱动机构具有工艺速度、传动速度及极限速度；控制模块与检测元件、驱动机构通信连接，用于在靠近镀膜腔的检测元件检测到前一基片远离镀膜腔的尾部离开时控制驱动机构加速至传动速度，且靠近镀膜腔的检测元件检测到后一基片靠近镀膜腔的头部开始离开时控制驱动机构降速至工艺速度；多次追赶的加速度和传动速度较小，降低基片碎片率，缩短相邻基片的间距，实现20mm以下间距连续镀膜，减少靶材浪费，提升镀膜工艺稳定性及产品良率。
动态镀膜装置及其方法

[实用新型]一种磁控溅射旋转阴极磁场检测装置-CN202222281788.0有效
发明人：周振国;张永胜;彭孝龙;董刚强 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射旋转阴极磁场检测装置，属于磁控镀膜领域，包括模拟靶筒以及测量机构，所述模拟靶筒沿其轴向上设有限位机构；所述测量机构包括高斯计以及固定座，所述固定座上设有固定部，所述高斯计一端卡接在固定部中，所述固定座在限位机构中沿模拟靶筒长度方向移动。本实用新型克服现有技术中圆柱形靶材上某处的磁场强度测量结果不准的不足，通过设置一块模拟靶材放置在原靶材位置处，进而在模拟靶材上通过移动测量机构准确测得靶材上各处的磁场强度。
一种磁控溅射旋转阴极磁场检测装置

[实用新型]硅片载具及镀膜系统-CN202223097888.4有效
发明人：宋文化;彭孝龙;杨肸曦;张永胜 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-11-22 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型涉及硅片镀膜生产技术领域，尤其是涉及一种硅片载具及镀膜系统，解决了现有的硅片载具存在的当未设计卡点时，硅片边部会和载具斜坡产生剐蹭和搭边、当设计卡点时，卡点尖端放电，导致卡点位置硅片打火的问题。本实用新型提供的硅片载具，包括至少一个载具单元；载具单元上设置有至少一个用于容纳硅片的框体，框体沿厚度方向设置有上板块和下板块，上板块和下板块以下板块的内缘凸出上板块的内缘的形式形成一阶梯结构，阶梯结构的表面用于承载硅片；上板块向框体的中部凸出设置有导向部，导向部的上表面朝框体的镂空中心斜向下设置，且导向部的端部不超过下板块的边缘。
硅片镀膜系统

[发明专利]一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备-CN202211351999.5在审
发明人：张永胜;解传佳;周振国;武瑞军;彭孝龙;莫超超 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备。磁控溅射阴极装置包括靶材筒组件、磁棒组件及汇聚磁铁组件，靶材筒组件位于真空腔室内，磁棒组件位于靶材筒组件的内部，汇聚磁铁组件设置在靶材筒组件靠近真空腔室侧壁的一侧，汇聚磁铁组件产生的磁力线能够朝靠近待镀膜基片的方向挤压磁棒组件产生的磁力线，避免溅射的原子沉积到真空腔室的侧壁上，使更多的原子沉积到待镀膜基片上。磁控溅射设备通过应用上述磁控溅射阴极装置，减少了靶材的损耗，降低了生产成本，提升了产品良率，延长了磁控溅射设备的维护周期，提高了设备的开机效率。
一种磁控溅射阴极装置设备

[实用新型]磁轭组件及磁控溅射设备-CN202222426065.5有效
发明人：周振国;彭孝龙;莫超超;董刚强 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型属于磁控溅射设备技术领域，公开了一种磁轭组件及磁控溅射设备。磁轭组件包括磁轭、第一永磁体和第二永磁体；第一永磁体设置于所述磁轭的顶面，所述第一永磁体的两个磁级上下排布；所述磁轭的相对两侧均设置有所述第二永磁体，所述第二永磁体的下方形成非导磁区域，所述第二永磁体的两个磁级的排布方向与竖直方向呈非零夹角设置。该种设置能够减小磁轭形成的非必要的导磁区域，有利于最大程度将永磁体的磁能释放到靶材表面，避免磁能被多余的导磁区域吸收，从而提高磁轭组件提供的磁场强度。
组件磁控溅射设备

[实用新型]磁棒封装结构-CN202222421381.3有效
发明人：周振国;彭孝龙;杨肸曦;董刚强 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-09-13 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： H01F7/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及磁控溅射技术领域，尤其涉及一种磁棒封装结构，旨在解决因磁棒密封导致连接结构复杂的问题。本实用新型包括磁棒套壳、磁棒支撑管、调节螺杆和磁力连接块；磁棒套壳内设置有磁棒，磁棒套壳朝向磁棒支撑管的一侧开设有限位凹槽；磁力连接块卡接于限位凹槽并与磁棒磁力连接；调节螺杆一端与磁力连接块连接，另一端与磁棒支撑管连接。本实用新型通过将磁棒密封于磁棒套壳内，并利用磁力连接块和磁棒的磁吸力实现磁力连接块与磁棒套壳的连接，避免了在磁棒套壳上开孔，简化了磁棒套壳和磁棒支撑管的连接方式，仅需磁力连接块和调节螺杆即可，无需对连接处进行密封。
封装结构

[实用新型]磁控溅射用的旋转阴极磁棒及磁控管-CN202220619986.0有效
发明人：周振国;杨肸曦;彭孝龙;张永胜;董刚强;莫超超;解传佳;梁得刚 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射用的旋转阴极磁棒，包括承载组件以及固定在承载组件上的工作组件，所述工作组件沿承载组件的长度方向设置，所述工作组件包括多条并列设置的永磁铁，多条并列设置的永磁铁包括位于中间的两条永磁铁以及位于其两侧的多条永磁铁，其中，中间的两条永磁铁的充磁方向为向内并相对的倾斜充磁，并与承载组件的水平安装方向形成夹角。通过上述方式，本实用新型不改变调整磁铁的自身尺寸和相对位置尺寸，在多条永磁铁的相互作用下达到整体磁场形成减小溅射角的效果，在保证溅射角的同时尽量不损失到达靶材表面的磁场强度，以保证较高的溅射速率。
磁控溅射旋转阴极磁控管

[发明专利]一种异质结电池效率提升方法-CN202210466722.0在审
发明人：张永胜;解传佳;武瑞军;彭孝龙;莫超超 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L31/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种异质结电池效率提升方法，涉及异质结电池技术领域，能够同步解决硅片表面污染、氧化和水汽吸附问题，不影响PVD设备的工作节拍。该方法步骤包括制绒清洗、非晶硅沉积、TCO膜制备和栅线制备，在TCO膜制备步骤之前增加非晶硅表面处理，用于改善异质结电池制备过程中非晶硅表面可能存在的污染和氧化问题，并去除托盘表面吸附水汽；非晶硅表面处理采用面状ICP等离子源来实现；具体地，在真空侧的顶部设置若干线圈；线圈与外部RF匹配器连接，用于产生射频磁通，射频磁通沿轴向感应出的射频电场对其中的电子进行加速，从而产生等离子体；待表面处理的沉积了非晶硅的硅片位于线圈下方且按预设速度依次通过等离子体区域。
一种异质结电池效率提升方法

[发明专利]一种提高旋转靶材利用率的溅射方法及溅射设备-CN202210506190.9在审
发明人：张永胜;解传佳;武瑞军;莫超超;杨肸曦;彭孝龙;周振国 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-05-10 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明属于溅射镀膜技术领域，公开了一种提高旋转靶材利用率的溅射方法及溅射设备。该提高旋转靶材利用率的溅射方法中，在线获取位于真空室内的所述靶材的形貌信息；根据所述靶材的形貌信息自动生成所述靶材的外径形貌拟合图；根据所述外径形貌拟合图，自动控制所述靶材轴向各处的磁场强度，以使所述靶材均匀消耗。在线获取靶材刻蚀情况并自动调整磁场强度，不需要对真空室破除真空后取出靶材调整更方便，且有利于提高调整频率，从而能够及时调整靶材轴向各处的磁场强度，有利于增大靶材利用率的调整幅度。本发明提供的溅射设备能够在线获取靶材表面刻蚀情况并调整对应位置磁场强度，不需人工操作，效率高，调整及时，能明显改善靶材的利用率。
一种提高旋转利用率溅射方法设备

[实用新型]一种高效的硅片载具检测工装-CN202220564896.6有效
发明人：宋文化;张永胜;杨肸曦;彭孝龙;董刚强 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-03-15 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G01B21/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种高效的硅片载具检测工装，涉及硅片载具检测技术领域，利用定位销和凸台相结合的方式检测硅片载具的定位孔和硅片放置位是否合格，能够实现更高效、更便捷、可靠性更高的硅片载具检测。该检测工装包括底板、若干检测凸起位和若干定位孔检测位；所述检测凸起位和所述定位孔检测位均位设于所述底板上；所述检测凸起位的形状和位置均与标准硅片载具上的硅片放置位匹配；所述定位孔检测位的形状和位置均与所述硅片载具上的定位孔匹配；所述定位孔检测位具体为定位销，所述定位销垂直固定在所述底板上。
一种高效硅片检测工装

[实用新型]一种具有辅助抽气功能的抽气系统-CN202220362781.9有效
发明人：莫超超;刘浏;董刚强;彭孝龙;张永胜 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： F04B37/14 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种具有辅助抽气功能的抽气系统，涉及镀膜设备技术领域，能够进行前后两个阶段的抽气，在保证硅片无损伤的情况下，显著缩短抽气时间。该系统包括加载互锁腔体、主抽气管路、辅助抽气管路和主控单元；主抽气管路的第一端和辅助抽气管路的第一端均与加载互锁腔体连通，主抽气管路的第二端和辅助抽气管路的第二端均与同一抽真空动力设备连接或分别与不同的抽真空动力设备连接；主抽气管路包括匀气板、主抽气管道和第一开关；主抽气管道的第一端与匀气板连接，第一开关设于主抽气管道上；辅助抽气管路包括辅助抽气管道和第二开关；第二开关设于辅助抽气管道上；第一开关和第二开关均与主控单元连接。
一种具有辅助功能系统

[发明专利]载板的清洗方法及其应用-CN202111310480.8在审
发明人：武瑞军;张永胜;董刚强;杨肸曦;彭孝龙;宋文化 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： C23G1/08 文献下载
摘要：本申请公开了一种载板的清洗方法及其应用，属于载板清洗技术领域。一种载板的清洗方法，所述方法包括：S100、对载板进行预镀膜处理，使载板的表面形成有预镀膜层，所述预镀膜层的材料包括不耐酸的金属氧化物；S200、将硅片置于步骤S100得到的载板中，以载板作为硅片镀膜载具对硅片进行镀膜处理，镀膜处理后，载板的表面形成有透明导电膜；S300、将步骤S200的载板进行酸洗，以去除载板表面的预镀膜层和透明导电膜。本申请能够改善载板的清洗效果，且在清洗过程中能够避免载板的变形，可以实现载板的反复利用。
清洗方法及其应用

[实用新型]连续PVD镀膜设备中阴极的安装系统-CN202023226783.5有效
发明人：吴超;彭孝龙;张永胜;杨肸曦;解传佳 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： B66F9/22 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种连续PVD镀膜设备中阴极的安装系统包括叉车式移载装置、及导向结构，叉车式移载装置包括：底座,在第一方向上具有相对的第一端和第二端，第一端具有导向部；竖直升降机构，安装于底座的第二端，左右调节组件，连接于竖直升降机构；承重货叉，连接于左右调节组件以能够沿第二方向往复移动，第二方向垂直于第一方向及垂直竖直方向，承重货叉包括沿第一方向延伸的叉臂，叉臂的面对底座的一侧设有吊勾；及向结构，设置于镀膜工艺室的下方，用于与所述底座的导向部配合，以引导车式移载装置朝向镀膜工艺室移动并限定所叉车式移载装置的移动位置，较传统天车，对厂房的结构强度和高度的要求较低。
连续 pvd 镀膜设备阴极安装系统

[实用新型]支撑装置及镀膜设备-CN202120307924.1有效
发明人：周剑;宋文华;张永胜;彭孝龙;杨肸曦;解传佳 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2021-02-03 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种支撑装置及镀膜设备，支撑装置包括框架及多个托盘，其中，框架由多根横梁与多根竖梁架设而成，且相邻的两根横梁和竖梁围成第一凹槽，横梁具有至少一个斜面，斜面自横梁在第一凹槽的槽深方向上的最高位置向着第一凹槽倾斜；托盘嵌设于第一凹槽内，且托盘具有多个第二凹槽，第二凹槽用于放置基板；横梁具有斜面结构使得嵌设有托盘的支撑装置在溅射镀膜过程中，横梁对于两侧放置的基板遮挡面积减小，提高了支撑装置上有效镀膜面积，从而提高了支撑装置利用率与靶材收集率，并且实现产能的提升。
支撑装置镀膜设备

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