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- [发明专利]一种场效应晶体管及其制备方法-CN202211343819.9在审
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戴莉;梁成栋;何亮亮
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上海华力微电子有限公司
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2022-10-31
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2022-12-27
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H01L29/78
- 本发明提供了一种场效应晶体管及其制备方法,包括:衬底、第一氮化铝镓层、第一栅极、第二栅极、第二氮化铝镓层及源漏区,其中第一氮化铝镓层位于衬底上,第一栅极位于第一氮化铝镓层上,第二栅极位于第一栅极的两侧,第二氮化铝镓层位于第一氮化铝镓层上,第二氮化铝镓层覆盖第一栅极并延伸覆盖部分氮化铝镓层及第二栅极沿第二方向上的部分宽度,第一方向与第二方向垂直;源漏区位于第二栅极远离第一栅极一侧的第一氮化铝镓层内及第二栅极上方的第二氮化铝镓层内。第二栅极部分嵌入第二氮化铝镓层内,嵌入式的第二栅极可以有效加强栅极对沟道区内电子的控制能力,使场效应晶体管拥有更好的阈值特性及稳定性。
- 一种场效应晶体管及其制备方法
- [发明专利]一种半导体器件-CN202210420868.1在审
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刘强;梁成栋;何亮亮;孙昌
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上海华力微电子有限公司
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2022-04-20
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2022-07-29
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H01L29/06
- 本发明提供了一种半导体器件,包括:衬底、超级结构和栅极结构。其中,超结结构,形成在所述漂移区中并位于所述阱区和所述漏区之间,并且所述超结结构的尺寸小于所述阱区至所述漏区之间的间隔尺寸,以使所述超结结构和所述阱区间隔设置。在本发明提供的半导体器件中,减小超结结构的长度,在阱区与超结结构间保留部分漂移区,通过阱区与超结结构之间的漂移区与衬底进行相互耗尽,提高源端的电场强度,降低超结结构中的电荷非平衡,从而有助于消除衬底辅助耗尽效应,提高器件表面的电场分布的均匀性,大幅提高器件的击穿电压。同时,栅极结构覆盖阱区并延伸至超结结构,有助于提高器件表面的电场均匀性,可进一步提高击穿电压。
- 一种半导体器件
- [发明专利]大规模自组织麦克风阵列下帧级多通道的说话人确认方法-CN202111576469.6在审
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张晓雷;梁成栋;姚嘉迪
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西北工业大学;西北工业大学深圳研究院
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2021-12-22
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2022-05-13
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G10L17/06
- 本发明公开了一种大规模自组织麦克风阵列下帧级多通道的说话人确认方法,在单通道说话人确认系统的池化层之前加入时空处理块,分别建模通道内、通道间以及跨时间的上下文关系,进一步提升远场ASV的性能。包括如下步骤:1)在池化层之前加入由跨帧处理层(Cross‑Frame Processing Layer,CFL)和跨通道处理层(Cross‑Channel Processing Layer,CCL)组成的时空处理块;2)为了使噪声通道的通道权重为零,将跨通道处理层的softmax算子改进为sparsemax算子。在Libri‑adhoc‑simu数据集上的结果表明,STB的多通道ASV系统实现了低于oracle one‑best基线33%的等错误率(EER);在Libri‑adhoc40数据集上的结果表明,STB的多通道ASV系统实现了低于oracle one‑best基线27%的等错误率,同时也实现了低于话语级跨通道自注意力ASV系统9%的等错误率,达到了优越的性能。
- 大规模组织麦克风阵列下帧级多通道说话确认方法
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