专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]铁薄膜在辅助剥离金刚石多晶薄膜中的应用-CN202111396220.7有效
  • 陶涛;郑凯文;张东祺;智婷;谢自力;刘斌 - 南京大学
  • 2021-11-23 - 2023-03-14 - C23C16/01
  • 本发明公开了铁薄膜在辅助剥离金刚石多晶薄膜中的应用,具体为在蓝宝石衬底上生长铁薄膜,在铁薄膜上生长金刚石多晶薄膜,采用机械剥离的方式将金刚石多晶薄膜从蓝宝石衬底上剥离。可以使金刚石多晶薄膜无碎裂的从蓝宝石衬底上剥离。本发明利用铁薄膜来辅助剥离金刚石多晶衬底,生长过程中金属铁具有好的延展性,可以缓解蓝宝石与金刚石之间由晶格失配带来的应力,减少样品碎裂的概率。且铁金属层、金刚石层、蓝宝石之间的热膨胀系数差距较大,结合力较弱,便于采用机械剥离的方法实现金刚石多晶薄膜与蓝宝石衬底的分离,从而使金刚石多晶薄膜无碎裂的从蓝宝石衬底上完整剥离。
  • 薄膜辅助剥离金刚石多晶中的应用
  • [发明专利]一种基于Micro-LED的车载可见光通信系统及应用-CN202210436286.2在审
  • 叶鹏飞;刘晓艳;杨牧;李悦;孙菲钒;俞景豪;智婷;王磊;童祎 - 南京邮电大学
  • 2022-04-25 - 2022-08-23 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种基于Micro‑LED的车载可见光通信系统及其应用。其中,Micro‑LED阵列芯片由独立寻址驱动的单个器件周期性排列构成,器件之间大小形状不限。Micro‑LED器件包括衬底外延层、电流扩展层、钝化层和电极。本发明将Micro‑LED阵列芯片同时作为可见光通信的光发射器和光接收器,应用在车辆或交通设施上,搭建一个由Micro‑LED光发射器、自由空间环境和Micro‑LED光接收器构成的车载可见光通信系统。通过车辆与车辆、车辆与交通设施之间的高速双向并行的可见光通信,构建一个多终端在线共享的数据链路网,实现用户与用户、用户与互联网之间的信息实时交互,在提供高速率光通信传输的同时还兼具照明显示功能提升资源利用率。
  • 一种基于microled车载可见光通信系统应用
  • [发明专利]栅状电极增强表面等离激元激光器及其制备方法-CN202110725102.X有效
  • 陶涛;苗涛;蒋迪;智婷;刘斌 - 南京大学
  • 2021-06-29 - 2022-07-12 - H01S5/042
  • 本发明公开了一种栅状电极增强表面等离激元激光器,该激光器包括表面等离激元衬底、多量子阱纳米线和栅状电极。本发明利用栅状电极对纳米结构实施电磁场刺激,同时利用等离激元可与增益介质中的激子形成共振耦合从而实现增益介质中光子的受激辐射,成功获得了增强型表面等离激元纳米激光器,核心在于通过采用栅状电极对纳米光腔中的载流子实施电磁场刺激,从而增强纳米光腔中的光产生高效率的激发,降低了表面等离激元激光器的阈值,实现了室温下0.8W/cm2低阈值激射,提高激光器的品质因子Q值。本发明特色在于栅状电极与纳米光腔无接触,在实施电磁场加载的同时有效避免了漏电问题,在一个维度上可突破光学衍射极限的限制。
  • 电极增强表面离激元激光器及其制备方法
  • [发明专利]在金刚石衬底上制备GaN薄膜的方法-CN202111548864.3在审
  • 陶涛;张东祺;胡文晓;叶煜聪;陈凯;智婷;刘斌;谢自力;张荣 - 南京大学
  • 2021-12-17 - 2022-04-05 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种在金刚石衬底上制备GaN薄膜的方法,在常规衬底上生长GaN纳米柱,在GaN纳米柱上生长多晶金刚石薄膜,除去常规衬底,以多晶金刚石薄膜为衬底,以多晶金刚石薄膜上的GaN纳米柱为成核层,在其上生长GaN薄膜。本发明利用了基于金刚石衬底的GaN纳米柱形成成核层,以生长后的金刚石薄膜作为衬底,去除硅后,金刚石薄膜上集成了GaN纳米柱,以GaN纳米柱作为中间层生长GaN薄膜,由于GaN纳米柱能够极大的缓解GaN和金刚石衬底之间的晶格失配产生的应力,可以避免金刚石衬底直接外延GaN薄膜的应力和晶格取向问题,有利于金刚石薄膜的均匀性,提高形核密度。从而获得高质量的GaN薄膜。
  • 金刚石衬底制备gan薄膜方法
  • [发明专利]高落差台阶结构的多色LED外延芯片及其制备方法-CN201911251245.0有效
  • 智婷;陶志阔;薛俊俊 - 南京邮电大学
  • 2019-12-09 - 2022-03-18 - H01L33/20
  • 本发明公开了一种高落差台阶结构的多色LED外延芯片,包括衬底层,其特征在于:所述衬底层上形成至少一层的台阶结构,台阶与衬底层表面之间的落差≥5μm,每层台阶之间的落差≥5μm,在含有台阶结构的衬底层上依次生长GaN缓冲层、InGaN多量子阱结构,形成多色LED外延芯片。并公开了其制备方法。本发明利用紫外曝光、刻蚀等技术制备蓝宝石的高低落差,进MOCVD、MBE炉外延生长时,这种高低落差会造成表面具有较大的温度差,进而调控了不同区域铟镓组分。本方法可有效在同一外延片上获得不同发光波长区域,从而实现双色甚至多色LED芯片,该方法可低成本、高稳定实现全色高清显示芯片。
  • 落差台阶结构多色led外延芯片及其制备方法
  • [发明专利]采用纳米结构制备高质量金刚石单晶的二次外延方法-CN201911180429.2有效
  • 智婷;陶涛;谢自力;刘斌 - 南京邮电大学
  • 2019-11-27 - 2020-11-10 - C30B25/18
  • 本发明公开了一种采用纳米结构制备高质量金刚石单晶的二次外延方法,其生长步骤是:1)选用高温高压金刚石作为籽晶;2)对籽晶表面缺陷和损伤刻蚀预处理;3)控制反应室压力,微波功率,温度,甲烷浓度以及生长时间,首次外延2~40μm厚度金刚石薄膜层;4)电子束蒸发蒸镀约4~40nm厚度金属Ni薄膜层;5)高温热处理获得金属纳米颗粒图形;6)等离子刻蚀获得金刚石纳米颗粒图层;7)控制反应室压力,微波功率,温度,甲烷浓度以及生长时间,二次外延5‑200μm厚度金刚石薄膜。本发明有效抑制金刚石薄膜内缺陷的延伸、降低缺陷密度、提高晶体表面的平整度。
  • 采用纳米结构制备质量金刚石二次外延方法

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