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[发明专利]晶片传输系统和方法-CN202210618135.9有效
发明人：孙文彬;石宇 -专利权人：江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-06-02 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种晶片传输系统和方法，涉及半导体技术领域。晶片传输系统包括前腔体、传送腔体、交换腔体和旋转升降装置，传送腔体的底板上开设有形状相同的第一交换口和第二交换口，第一交换口与前腔体上的对接口对接，交换腔体通过开口与前腔体和传送腔体密封连接，旋转升降装置安装在交换腔体上，旋转升降装置包括位置可交换的两个封板，封板上用于承载片盒，两个封板可分别升降到第一交换口和第二交换口中，以密封第一交换口和第二交换口，并将各自承载的片盒分别输送至前腔体和传送腔体中。该晶片传输系统能够减少晶片被粉尘污染的几率，提高整体加工效率。
晶片传输系统方法

[实用新型]抽真空装置以及去胶机-CN202123321946.2有效
发明人：朱成好 -专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： F04B37/14 文献下载
摘要：本申请属于半导体加工技术领域，具体涉及一种抽真空装置以及去胶机。该抽真空装置包括真空泵、隔离阀以及蝶阀，隔离阀设置有具有可开闭的第一抽气通道，隔离阀的第一抽气通道和反应腔连通，蝶阀设置有开度可调的第二抽气通道，蝶阀的第二抽气通道的两端分别和隔离阀的第一抽气通道以及真空泵的输入端连通。本申请所采用的抽真空装置，其中的主要构件采用单通道的隔离阀，以及具有开度可调的蝶阀，可有效降低成本，且单通道的隔离阀具有少故障点的特点，且更易维修，以降低维护成本，具有很好的实用性。
真空装置以及去胶机

[发明专利]一种密封机构及晶圆反应设备-CN202210531989.3有效
发明人：戴建波;孙文彬;陆北源 -专利权人：江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： F16K1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种密封机构及晶圆反应设备，涉及半导体技术领域。该密封机构包括门体、机架、密封组件、弹性件、丝杆、驱动组件及检测装置，门体上贯穿设置有开口，弹性件、驱动组件及检测装置均设置于机架上，密封组件通过滚珠与丝杆配合，丝杆上设置有止挡件，弹性件用于正向抵持止挡件，驱动组件与丝杆传动连接，用于驱动丝杆转动，以带动密封组件正向运动至与门体贴合以封闭开口，驱动组件还用于在密封组件与门体贴合的情况下驱动丝杆继续转动，以使丝杆带动止挡件反向运动并压缩弹性件，检测装置用于检测丝杆的位置，驱动组件还用于在检测装置检测到丝杆反向运动至预设位置时停机。本发明提供的密封机构具有更高的密封精度，密封性能更佳。
一种密封机构反应设备

[发明专利]UV LED面光源光强均匀性的控制方法和系统-CN202210603105.0有效
发明人：高阔;孙文彬 -专利权人：江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H05B45/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种UV LED面光源光强均匀性的控制方法和系统，涉及半导体技术领域，该方法首先检测相邻的光区的交汇处所在位置的检测点的实际光照强度，然后将该实际光照强度与目标光照强度进行比对，若差值超过了预设区间值，则可以依据预设调整比例来增大或者减小相邻的光区的光照强度。相较于现有技术，本发明通过检测光区交汇处的光照强度，能够在同等检测范围下大幅减小检测点位的数量，并且本发明能够依据预设比例来调整相邻光区的光照强度，能够有效地对面光源的多个光区进行均一性调整，实现对UV LED面光源的光照强度进行均匀度调节，从而保证UV LED面光源能够实现均匀出光。
uv led 光源均匀控制方法系统

[发明专利]工艺腔抽真空控制方法、装置、电子设备和存储介质-CN202210603099.9有效
发明人：阮正华;顾锐 -专利权人：江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： F04B49/06 文献下载
摘要：本发明提供一种工艺腔抽真空控制方法、装置、电子设备和存储介质，其中方法包括：隔离阀与真空泵之间的管道内的压力降至第一预设压力后，控制蝶阀由关闭状态打开至初始开合角度，开启隔离阀，再基于预设打开速度，控制蝶阀打开至全开状态；其中，蝶阀在初始开合角度下，以及蝶阀在基于预设打开速度打开至全开状态的过程中，真空泵受到的冲击压力始终小于第二预设压力；初始开合角度基于连接工艺腔与真空泵的管道的管道直径和第二预设压力确定，预设打开速度基于管道直径、第二预设压力和初始开合角度确定；初始开合角度和预设打开速度均与管道直径成反比、与第二预设压力成正比。本发明在保证抽真空过程的安全性的同时兼顾了抽真空的效率。
工艺真空控制方法装置电子设备存储介质

[实用新型]一种UV固胶系统-CN202122891105.9有效
发明人：邢凌枫 -专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2021-11-24 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： B05D3/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种UV固胶系统，涉及UV固胶技术领域。该UV固胶系统包括上位机、UV固化机及检测装置，UV固化机包括相互电连接的UV控制器及UV光源，上位机分别与UV控制器及检测装置电连接，检测装置用于检测UV光源的光照强度，上位机用于根据检测装置的检测结果及预设的光强参数控制UV控制器选择性调整对UV光源输出的功率大小。本实用新型提供的UV固胶系统能够保证UV光源的实际光照强度满足工艺需求，提升固化效率及固化效果。
一种 uv 系统

[发明专利]化学气相沉积设备清洁方法、装置、电子设备和存储介质-CN202210811943.7在审
发明人：阮正华;王孝亮 -专利权人：江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-07-12 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种化学气相沉积设备清洁方法、装置、电子设备和存储介质，其中方法包括：获取当前的工艺类型下化学气相沉积设备内部薄膜的沉积速度、当前的工艺类型对应的最大沉积厚度和清洁刻蚀速度；单次工艺流程结束后，基于化学气相沉积设备上一次清洁的时间至当前时间的时间段内化学气相沉积设备进行沉积工艺的时长，以及化学气相沉积设备内薄膜的沉积速度，确定化学气相沉积设备内的沉积薄膜厚度；若沉积薄膜厚度大于等于最大沉积厚度，则基于沉积薄膜厚度以及清洁刻蚀速度，确定预设清洁时长；发送沉积清洁命令，以对化学气相沉积设备进行沉积清洁。本发明提升了设备清洁的及时性，并且提升了设备清洁的充分性和恰当性。
化学沉积设备清洁方法装置电子设备存储介质

[发明专利]一种炉盖门及退火炉-CN202210569098.7在审
发明人：孙文彬;戴建波;刘二强 -专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-05-24 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： F27D1/18 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种炉盖门及退火炉，涉及半导体技术领域。该炉盖门及退火炉包括门板、把手组件和定位组件，门板可转动地设置于设备平台上，把手组件可转动地设置于门板上，门板和把手组件的转动平面位于同一平面；定位组件连接于门板和把手组件之间，定位组件用于在门板封闭退火炉的炉体的情况下对门板进行定位，其能够提升操作的便捷性，以解决炉盖门松动的问题。
一种炉盖门退火炉

[发明专利]一种射频电源驱动方法及相关设备-CN202210365167.2在审
发明人：阮正华;顾锐 -专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-04-07 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： H02M1/00 文献下载
摘要：发明公开了一种射频电源驱动方法及相关设备。该方法包括：基于当前的通讯方案，调用与射频电源的通用功能或者特定功能对应的驱动指令；基于所述驱动指令，驱动所述射频电源进行工作；所述通讯方案为射频电源与上位机的通信方案，该通讯方案为TCP/IP、RS232/485、PLC方案中的至少一种，所述通用功能为所有不同类型的射频电源均具有的相同功能，所述特定功能为单个射频电源具有的与其它所有射频电源均不相同的功能。本申请实施例为射频电源驱动提供一种统一的编程方法和模型，可以适配不同厂家及型号的射频电源。为上位机与不同型号的射频电源之间提供了一种更为灵活的驱动方案。
一种射频电源驱动方法相关设备

[发明专利]一种驱动机构及半导体设备-CN202210393906.9在审
发明人：孙文彬;朱磊;戴建波 -专利权人：江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-04-14 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种驱动机构及半导体设备，涉及半导体技术领域。该驱动机构包括气缸组件、气缸滑块、固定座、调整板及锁止件；气缸滑块设置于气缸组件上，用于在气缸组件的带动下运动；固定座设置于气缸滑块上，调整板可转动的设置于固定座上，调整板用于固定工件；锁止件用于在调整板相对固定座转动至任意角度位置时锁止调整板。本发明提供的驱动机构能够带动工件运动，并能够调整工件的角度。
一种驱动机构半导体设备

[实用新型]一种半导体设备密封结构及半导体设备-CN202220962357.8有效
发明人：孙文彬;戴建波 -专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： F16J15/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体设备密封结构及半导体设备，涉及半导体技术领域。该半导体设备密封结构包括设备主体、设备封盖及弹性密封件，设备主体设置有密封侧壁，密封侧壁上凹设有鸠尾槽，鸠尾槽的底壁凹设有加强槽，弹性密封件安装于鸠尾槽内，设备封盖罩设在设备主体上并挤压弹性密封件，以使弹性密封件嵌入加强槽。本实用新型提供的半导体设备具有密封性更好的特点。
一种半导体设备密封结构

[发明专利]一种进气机构以及半导体等离子去胶机-CN202210531983.6有效
发明人：孙文彬;杜马峰 -专利权人：江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种进气机构以及半导体等离子去胶机，涉及半导体技术领域。该进气机构包括底座、盖板、进气管和罐体。罐体固定安装于盖板，盖板与底座铰接，进气管的一端与盖板连接，另一端与罐体连接，底座开设有进气通道，进气通道用于在盖板转动至盖合于底座上时与进气管连通，以使气体能够依次通过进气通道和进气管进入罐体。与现有技术相比，本发明提供的进气机构由于采用了连接于盖板上的进气管以及开设于底座上的进气通道，所以无需拆装即可实现腔体的打开和闭合，节省时间成本和人力成本，维护效率高。
一种机构以及半导体等离子去胶机

[发明专利]防晶圆滑落的晶圆传输装置、半导体设备及其使用方法-CN202210532072.5有效
发明人：孙文彬;朱成好 -专利权人：江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种防晶圆滑落的晶圆传输装置、半导体设备及其使用方法，涉及半导体技术领域。该防晶圆滑落的晶圆传输装置包括传输手臂和防滑件，传输手臂的端部设置有手指，手指设置有安装面；防滑件包括嵌入部和防滑部，嵌入部和防滑部相连接，嵌入部至少部分嵌设于安装面内，防滑部至少部分凸出于安装面，以与晶圆接触从而阻止晶圆滑动；嵌入部的硬度大于防滑部的硬度，嵌入部和防滑部的硬度差为20‑40 ShoreA，使得防滑件嵌入的牢固程度较高的同时与晶圆之间也具有较大的静摩擦力。
圆滑传输装置半导体设备及其使用方法

[外观设计]配电柜外壳-CN202230222633.2有效
发明人：戴建波;孙文彬;严亮 -专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-04-20 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： 13-03 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：配电柜外壳。2.本外观设计产品的用途：用于为化学气相沉积设备供电的配电柜外壳。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
配电柜外壳

[发明专利]光刻胶去除方法和去胶机-CN202210305069.X在审
发明人：林政勋;张云飞;华义永 -专利权人： 无锡邑文电子科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本实施例提供了一种光刻胶去除方法和去胶机，涉及半导体技术领域。去胶机包括去胶机本体、进气管道和等离子体形成装置。等离子体形成装置设置于去胶机本体的反应腔，等离子体形成装置具有与反应腔连通的等离子体形成腔室，等离子体形成装置用于形成等离子体。进气管道与等离子体形成腔室连通，以向等离子形成腔室输送气体。方法包括将涂好胶的硅片送入反应腔；控制等离子体形成装置以第一预设射频功率运行，进气管道向等离子体形成腔室内通入第一预设量的氧气和第二预设量的氮气；使等离子体形成装置以第二预设射频功率运行，进气管道向等离子体形成腔室内通入第三预设量的氧气以使等离子体形成装置形成等离子体，以对涂好胶的硅片的胶进行去除。
光刻去除方法去胶机