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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种生物化学样本切片装置与切片方法-CN202310813651.1在审
发明人：孙喆;吕英;崔永镇 -专利权人：东北农业大学
申请日： 2023-07-05 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G01N1/06 文献下载
摘要：本发明涉及生物化学领域，更具体的说是一种生物化学样本切片装置与切片方法。切片装置，包括圆座，所述圆座的两侧均固定有中架，每个中架上均铰接有转杆，每个转杆的下部均固定有叉子。切片方法包括：S1：将生物样本夹持在两个叉子之间；S2：通过两个叉子将生物样本浸入蜡中；S3：驱动两个夹件夹在生物样本上，将两个叉子松开；S4：使两个叉子和两个夹件交替夹在生物样本上，将蜡一层一层包裹在生物样本上；S5：将包裹好蜡的生物样本放置在圆盘上，通过切刀左右移动切向包裹好蜡的生物样本，对生物样本进行一层一层的切片。可以将蜡一层一层包裹在生物样本上，然后对生物样本进行一层一层的切片。
一种生物化学样本切片装置方法

[发明专利]一种生物化学用电子实验装置与实验方法-CN202310813527.5在审
发明人：孙喆;李成;崔永镇 -专利权人：东北农业大学
申请日： 2023-07-05 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G01N21/64 文献下载
摘要：本发明涉及生物化学用电子实验领域，更具体的说是一种生物化学用电子实验装置与实验方法。电子实验装置，包括槽盒，所述槽盒的下侧从前至后固定有多个格栅柱，槽盒的两侧均设置有多个圆孔。方法包括以下步骤：S1：将生物样本切成多块后放置在槽盒内；S2：将压条盖在槽盒的上侧；S3：在多个槽盒内放置多个生物样本，将多个槽盒设置在两个横条之间；S4：驱动两个横条相互远离，将多个槽盒固定在两个横条之间；S5：将荧光染料放置在带有溶剂的容器中，将多个槽盒放置在容器中，晃动多个槽盒，使荧光染料对生物样品进行染色或标记；S6：通过荧光显微镜观察其荧光信号，观察生物样品的结构和功能。可以方便荧光染料对生物样品进行染色或标记。
一种生物化学用电实验装置方法

[发明专利]一种动物疫苗快速接种器-CN202110765465.6有效
发明人： 崔永镇 -专利权人： 崔永镇
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： A61D7/00 文献下载
摘要：本发明提出了一种动物疫苗快速接种器，涉及接种器技术领域。一种动物疫苗快速接种器，包括两端开口的外筒体，上述外筒体内滑动设有针筒，上述针筒的一端设有针头，上述针筒内滑动设有活塞，上述活塞设有活塞杆；上述外筒体内滑动设有用于对上述针筒进行限位的第一限位组件；上述外筒体内设有第一弹性件，上述第一弹性件的一端与上述外筒体连接，上述第一弹性件的另一端与上述针筒连接。采用本发明，能够调整针头移动的距离以调整针头插入动物的深度，便于对动物进行疫苗的接种，操作方便快捷。
一种动物疫苗快速接种

[发明专利]通过等离子体频谱在动态等离子体条件下的过程控制和监控方法-CN202080098883.8在审
发明人：陈威廷;张巧颖;杨晓玲;朴范洙;崔永镇;崔寿永 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开内容的某些方面提供了用于通过等离子体频谱在动态等离子体提升条件下进行过程控制和监控的技术、系统和方法。在一些情况下，在给定腔室的等离子体提升条件期间收集多轮改变的等离子体强度数据，并且求出代表该改变的等离子体强度数据的统计值。根据该数据，求出统计过程控制(SPC)轨迹。获取来自随后的等离子体提升条件的改变的等离子体强度数据，并将该数据与SPC轨迹比较，以确定何时出现异常(例如外部气体、颗粒物或其他污染物)。
通过等离子体频谱动态条件下过程控制监控方法

[发明专利]用于处理腔室清洁终点检测的方法和设备-CN201780058728.1有效
发明人： 崔永镇;周素镐;朴范洙;彭菲;崔寿永 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-09-14 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：实施方式提供用于检测在处理腔室内执行的清洁工艺的清洁终点的系统、方法和设备。实施方式包括光谱仪和透镜系统，光谱仪用于测量在清洁工艺期间处理腔室中的清洁反应的随时间变化的光谱响应，透镜系统与光谱仪耦接并且被设置以经由观察口聚焦于处理腔室中的选定区域，并放大在清洁工艺期间来自选定区域的辐射强度。选定区域是基于被预测为在处理腔室(例如是在长方形腔室中的角落)中的清洁工艺期间最后的清洁反应的位置而选择的。提供数种其他方面。
用于处理清洁终点检测方法设备

[发明专利]在等离子体增强化学气相沉积腔室清洁期间用于终点检测的温度传感器-CN201780050739.5在审
发明人：彭菲;朴范洙;崔寿永;桑杰伊·D·雅达夫;崔永镇;希曼殊·乔希 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本文所述的实施方式总体涉及一种基板处理腔室，并且更具体地涉及一种用于监测所述基板处理腔室的清洁处理的设备和方法。处理器从设置在基板处理腔室中的一个或多个传感器接收一个或多个温度读数。所述处理器从所述一个或多个温度读数确定每个温度读数的峰值，这指示放热膜清洁反应结束。在确定每个温度读数已经达到峰值时，所述工艺发出通知以停止所述清洁工艺。
温度读数基板处理腔室处理器等离子体增强化学气相沉积腔温度传感器清洁处理清洁工艺终点检测膜清洁传感器放热清洁监测

[发明专利]等离子体处理设备与方法-CN201610018038.0有效
发明人：古田学;崔永镇;崔寿永;朴范洙;约翰·M·怀特;苏希尔·安瓦尔;罗宾·L·泰内 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2009-04-09 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明大致包括等离子体增强化学汽相沉积处理腔室，其具有在与气源分隔位置处耦接至背板的RF功率源。通过在与RF功率分隔位置处供给气体进入处理腔室，可减少通到处理腔室的气体管中形成寄生等离子体。可在复数个位置供给气体至腔室。各个位置上，气源经过远端等离子体源以及RF扼流器或RF电阻器而供给气体至处理腔室。
等离子体处理设备方法

[发明专利]用于提高氮化硅批间均匀度的非晶硅陈化作用-CN201610179357.X有效
发明人：古田学;崔寿永;朴范洙;崔永镇;大森健次 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-08-16 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： H01L21/318 文献下载
摘要：本发明实施方式提供用于在设置在处理腔室中的大尺寸基板上沉积含氮材料的方法。在一个实施方式中，所述方法包括：在处理腔室中处理一批基板，以在出自所述一批基板的基板上沉积含氮材料；以及在处理所述一批基板期间以预定间隔执行陈化处理，以在设置在所述处理腔室中的腔室组件的表面上沉积导电陈化层。所述腔室组件可包括气体分配板，所述气体分配板由未经阳极化处理的裸铝制成。在一个实例中，所述导电陈化层可包括非晶硅、掺杂非晶硅、掺杂硅、掺杂多晶硅、掺杂碳化硅或其他同类物。
用于提高氮化硅批间均匀非晶硅陈化作用

[发明专利]等离子体处理设备与方法-CN200980112599.5无效
发明人：古田学;崔永镇;崔寿永;朴范洙;约翰·M·怀特;苏希尔·安瓦尔;罗宾·L·泰内 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2009-04-09 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明大致包括等离子体增强化学汽相沉积处理腔室，其具有在与气源分隔位置处耦接至背板的RF功率源。通过在与RF功率分隔位置处供给气体进入处理腔室，可减少通到处理腔室的气体管中形成寄生等离子体。可在复数个位置供给气体至腔室。各个位置上，气源经过远端等离子体源以及RF扼流器或RF电阻器而供给气体至处理腔室。
等离子体处理设备方法

[发明专利]矩形基座的不对称接地-CN201010251438.9有效
发明人：古田学;崔寿永;崔永镇 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-04-30 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本发明提供了在等离子体处理腔室(40)使用的接地基座(72)，其用于在支撑在该基座上并通过该基座接地的大矩形面板(74)上进行化学气相沉积。多个接地片(86)连接在基座的外围和接地真空腔室之间以缩短RF电子的接地路径。柔性片允许基座垂直移动。所述片提供围绕所述外围不对称的接地电导。所述片可均匀隔开但具有不同厚度或不同形状或从可用的接地点移除，由此提供不同RF电导。选择该不对称以改善沉积均匀性和PECVD所沉积膜的其他质量。
矩形基座不对称接地

[发明专利]用于腔室抽气的偏置衬垫-CN200880113201.5有效
发明人：罗宾·L·泰内;苏希尔·安瓦尔;古田学;崔永镇;朴范秀;崔寿永;约翰·M·怀特 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-10-07 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：本发明一般包括一腔室衬垫，其与腔室壁分隔开，以允许在抽吸工艺腔室中的气体时，可以在腔室衬垫及腔室壁之间抽吸工艺气体。当真空泵位于承座下方，工艺气体则会抽吸至承座下方，并可能导致工艺腔室部件出现不期望的沉积现象。另外，工艺气体会被抽吸通过狭缝阀开口，因而可能会沉积在狭缝阀开口中。当物质沉积在狭缝阀开口中，可能会发生剥落现象并污染基板。通过沿着侧壁(非具有狭缝阀开口的侧壁)而抽吸工艺气体，则可减少在狭缝阀开口上的不期望的沉积现象。
用于腔室抽气偏置衬垫

[发明专利]一种用于控制在处理腔室内处理气体的流动的装置-CN200810146690.6有效
发明人：朴范洙;崔永镇;罗宾·L·泰内;金亨山;崔寿永;约翰·M·怀特;任东吉 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-09-04 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于控制在处理腔室内处理气体的流动的装置。本发明一般包括用于引导处理气体的流动远离室壁和缝隙阀门开口的方法和装置。通过控制在处理腔室内处理气体的流动路径，可以减少在腔室壁上和缝隙阀门开口内的非预期沉积。通过减少在缝隙阀门开口内的沉积，可以减少剥落。通过减少在腔室壁上的沉积，可以增加在腔室清洗之间的时间。因此，引导在处理腔室内处理气体的流动可以提高衬底生产能力。
一种用于控制处理室内气体流动装置

[发明专利]矩形基座的不对称接地-CN200810094494.9有效
发明人：古田学;崔寿永;崔永镇 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-04-30 - 公布日： 2008-11-05 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本发明提供了在等离子体处理腔室(40)使用的接地基座(72)，其用于在支撑在该基座上并通过该基座接地的大矩形面板(74)上进行化学气相沉积。多个接地片(86)连接在基座的外围和接地真空腔室之间以缩短RF电子的接地路径。柔性片允许基座垂直移动。所述片提供围绕所述外围不对称的接地电导。所述片可均匀隔开但具有不同厚度或不同形状或从可用的接地点移除，由此提供不同RF电导。选择该不对称以改善沉积均匀性和PECVD所沉积膜的其他质量。
矩形基座不对称接地

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