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- [发明专利]扫描曝光装置以及扫描曝光方法-CN201810586865.9有效
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加藤正纪
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株式会社尼康
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2014-05-02
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2020-11-13
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G03F7/20
- 本发明提供一种扫描曝光装置，其使沿着以第一半径弯曲的圆周面保持有光罩图案的光罩保持筒以第一轴为中心旋转，并且使挠性的基板在沿着表面的扫描曝光方向上移动，来将光罩图案曝光在基板的表面上，并具有：朝向在光罩图案上在第一轴的方向上为细长的矩形状且在周向上具有规定宽度的照明区域照射照明光的照明光学系统；通过将来自光罩图案的光束投射至与照明区域对应的基板侧的投影区域使光罩图案的像以沿着在扫描曝光方向上弯曲的投影像面的方式成像的投影光学系统；和通过从与第一轴平行地配置的第二轴以第二半径弯曲成圆筒面状的外周面使基板弯曲来支承并以第二轴为中心进行旋转使基板沿着周向移动的基板支承筒。
- 扫描曝光装置以及方法
- [发明专利]曝光装置及曝光方法-CN201980009581.6在审
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加藤正纪
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株式会社尼康
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2019-01-15
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2020-09-11
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G03F7/20
- 曝光装置(EX)设置有：光源(2A、2B、2C)，其为了对光罩基板M进行照明而产生包含多个明线波长(g射线、h射线、i射线等)的光；第1照明光学系统，其具有：射入来自光源2A(2B、2C)的光且将包含多个明线波长中的至少1个特定明线波长(i射线)而限制为既定的波长宽度的照明光束抽出的波长选择部(6A、6B、6C)、及调整照明光束的发散角的数值孔径可变部(8A、8B、8C)；以及第2照明光学系统(ILn)，其包含用以伴随与发散角对应的数值孔径而以同样的照度对光罩基板上照射照明光束的光学积分器(复眼透镜系统FEn)；并且于波长选择部安装第1波长选择元件(干涉滤光器SWb)，其一面将特定明线波长(i射线)的旁边出现的长波长侧的明线及短波长侧的明线去除，一面将特定明线波长的光谱成分及分布于特定明线波长的底部附近的低亮度的光谱成分抽出。
- 曝光装置方法
- [发明专利]基板处理装置-CN201780048591.1有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和;木内徹
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株式会社尼康
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2017-08-07
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2020-08-21
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B65H26/00
- 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201680063524.2有效
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小宫山弘树;加藤正纪;铃木智也;奈良圭
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株式会社尼康
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2016-10-26
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2020-07-10
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G03F9/00
- 曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。
- 处理装置
- [发明专利]基底处理装置-CN201710321582.7有效
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加藤正纪
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株式会社尼康
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2012-10-11
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2020-05-29
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G02B13/22
- 本发明提供一种基底处理装置，该基底处理装置，将反射性光掩膜图案像投影曝光于感应基底，具备：光掩膜保持构件，保持光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于光掩膜图案上一部分照明区域产生的反射光束往感应基底投射；光学构件包含：为对照明区域落斜照明而配置于投影光学系统的光路内、使往照明区域的照明光与从照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，生成作为照明光的源的光源像，经由投影光学系统的一部分光路与光学构件使来自光源像的照明光往所述照明区域，且将与光源像在共轭面形成于光学构件的反射或通过部分的位置或近旁。本发明能忠实曝光较大光掩膜图案。
- 基底处理装置
- [发明专利]光束扫描装置、光束扫描方法、及描绘装置-CN201680017014.1有效
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铃木智也;加藤正纪;小宫山弘树
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株式会社尼康
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2016-03-18
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2020-05-29
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G02B26/12
- 本发明的光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
- 光束扫描装置方法描绘
- [发明专利]图案描绘装置-CN201880058830.6在审
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加藤正纪;中山修一;鬼头义昭;铃木智也;堀正和;林田洋祐
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株式会社尼康
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2018-09-11
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2020-04-24
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G03F7/20
- 本发明提供了一种图案描绘装置(EX)，具备将描绘光束(LBn)的点光(SP)于主扫描方向扫描以描绘图案的描绘单元(Un)、以及用以使基板(P)与描绘单元(Un)往副扫描方向相对移动的移动机构。图案描绘装置(EX)使用选择用光学元件(OSn)，将来自光源装置(LS)的光束(LB)，在因电气信号造成的光学特性变化而以既定偏向角度偏向以作为描绘光束(LBn)射入描绘单元(Un)的第1状态、与不射入描绘单元(Un)的第2状态之间择一切换，为了在第1状态时，使从描绘单元(Un)投射的点光(SP)往副扫描方向位移既定量，控制电气信号以使因选择用光学元件(OSn)产生的偏向角度变化，并将伴随因选择用光学元件(OSn)产生的偏向角度变化而产生的点光(SP)强度变化，根据选择用光学元件(OSn)的光学特性加以修正。
- 图案描绘装置
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