专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于确定导电型碳化硅晶片的硅面和碳面的方法-CN202210936141.9在审
  • 李辉;陈小龙;王国宾;盛达;王文军 - 中国科学院物理研究所
  • 2022-08-05 - 2022-12-06 - G01Q60/30
  • 本发明提供一种用于确定导电型碳化硅晶片的硅面和碳面的方法,其包括如下步骤:(1)通过SKPFM测定导电型碳化硅晶片的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面分别与导电针尖的接触电势差,获得第一表面的接触电势差和第二表面的接触电势差;(2)将所述第一表面的接触电势差和第二表面的接触电势差进行比较;其中,如果所述第一表面的接触电势差大于第二表面的接触电势差,则所述第一表面为碳面,所述第二表面为硅面;如果所述第一表面的接触电势差小于第二表面的接触电势差,则所述第一表面为硅面,所述第二表面为碳面。本发明的方法是一种高效、无损、高可靠性的用于确定SiC晶片的Si面和C面的方法。
  • 用于确定导电碳化硅晶片方法
  • [发明专利]制备异晶面同质结薄膜的方法-CN202210939400.3在审
  • 荣东珂;金桥;林珊;陈盛如;金奎娟;郭尔佳 - 中国科学院物理研究所
  • 2022-08-05 - 2022-12-06 - H01L21/04
  • 一种制备异晶面同质结薄膜的方法,包括:(1)在初始衬底上形成牺牲层,获得牺牲层/初始衬底结构;(2)在牺牲层上形成自支撑薄膜,获得自支撑薄膜/牺牲层/初始衬底结构;(3)将自支撑薄膜/牺牲层/初始衬底结构置于能够溶解牺牲层的溶液中直至牺牲层溶解,使得自支撑薄膜与初始衬底脱离接触,获得自支撑薄膜;(4)将自支撑薄膜以不完全覆盖目标衬底的方式转移至目标衬底上,以获得自支撑薄膜不完全覆盖目标衬底的自支撑薄膜/目标衬底结构;(5)在自支撑薄膜/目标衬底上形成目标薄膜,即获得异晶面同质结薄膜;其中,自支撑薄膜与目标衬底为同种材料且具有不同的晶面。本发明的方法灵活、简易且能够普适性地制得异晶面同质结薄膜。
  • 制备异晶面同质薄膜方法
  • [发明专利]一种碳纳米管薄膜的制备方法-CN201811493082.2有效
  • 苏威;刘华平;魏小均;周维亚;解思深 - 中国科学院物理研究所
  • 2018-12-07 - 2022-12-06 - H01L21/02
  • 本发明提供一种碳纳米管薄膜的制备方法,所述方法包括以下步骤:1)制备碳纳米管分散液,并调节至pH值大于7;2)在衬底表面自组装多聚赖氨酸分子层或3‑氨丙基三乙氧基硅烷分子层;3)将步骤1)得到的碳纳米管分散液滴涂到步骤2)得到的衬底上,碳纳米管分散液均匀覆盖整个衬底,静置沉积,回收未沉积的碳纳米管分散液;4)清洗步骤3)得到的衬底以去除表面活性剂,用惰性气体或氮气吹干,即得。基于以上,本发明提供的方法制备的碳纳米管薄膜在大规模集成电路以及大面积透明导电薄膜具上有很好的应用前景。
  • 一种纳米薄膜制备方法
  • [发明专利]用于电子枪的激光引入装置及包括其的超快扫描电镜-CN202111570847.X在审
  • 田源;杨冬;李中文;李俊;田焕芳;杨槐馨;李建奇 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-12-21 - 2022-11-29 - H01J37/075
  • 本发明提供了一种用于将脉冲激光引入电子枪的激光引入装置,其中电子枪包括具有空腔的主体、阳极帽、布置在所述主体顶壁上的电子枪灯丝,以及包围所述电子枪灯丝并具有栅极帽孔的栅极帽;主体的侧壁上具有第一窗口,底壁上具有与栅极帽孔相对布置的第一出射孔或通道,阳极帽布置在第一出射孔上;激光引入装置包括:布置在主体内的反射组件;反光装置,反光装置布置在阳极帽顶面以朝向栅极帽,反射组件被设置为从第一窗口入射并经过所述反射组件引导的脉冲激光能够被反光装置反射以穿过栅极帽孔照射电子枪灯丝。根据本声明的激光引入装置能够将超快光源以更佳入射角度引入现有扫描电镜并消除电场畸变,具有更低的成本和更高的探测性能和适用范围。
  • 用于电子枪激光引入装置包括扫描电镜
  • [发明专利]制备附着式冷冻样品的装置及方法-CN202110504982.8在审
  • 丁玮 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-05-10 - 2022-11-29 - G01N23/04
  • 本发明涉及一种制备附着式冷冻样品的装置,包括:冻样单元,用于提供样品冷冻操作的环境;冷却单元,用于存储冷却液,并为所述冻样单元提供冷却液;样品处理单元,设置在所述冻样单元内,用于对样品进行雾化处理;样品承载单元,设置在所述冻样单元内,并与所述样品处理单元对应设置,包括用于盛放金属载网的金属基底,以及管道单元,连接所述冻样单元和实施冷却单元,用于将冷却液从所述冷却单元引导至所述冻样单元。该装置以样品溶液雾化后的附着式快速冷冻技术方案代替传统的投入式冷冻技术方案,大幅度提高冷冻样品的质量和整个冻样过程的效率。
  • 制备附着冷冻样品装置方法

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