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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

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2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光刻胶喷嘴及利用该喷嘴确定光刻胶喷涂中心的方法-CN201210544221.6在审
发明人：周敏祺;陈群琦 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-12-14 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶喷嘴，该喷嘴的内部安装有光纤，外部带有镭射光源，喷嘴侧面开槽，光纤经由槽引出，与镭射光源连接。本发明还公开了利用上述光刻胶喷嘴确定光刻胶喷涂中心的方法，步骤包括：1）在晶圆的中心位置制作对准标记；2）将晶圆传送至涂布工艺单元；3）装上光刻胶喷嘴，移至晶圆上方；4）打开镭射光源，调整光刻胶喷嘴的位置，使镭射光斑位于晶圆对准标记的中心。本发明利用晶圆中心的对准标记和喷嘴射出的镭射光斑来确定光刻胶的喷涂中心位置，不仅精确，而且高效。
光刻喷嘴利用确定喷涂中心方法

[实用新型]用于光刻机曝光台的清洁装置-CN201320729766.4有效
发明人：潘敏炜;陈群琦 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2013-11-18 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于光刻机曝光台的清洁装置，包括一操作杆、与所述操作杆相连接的移动件，所述移动件靠近曝光台的底部具有一凹腔，所述凹腔通过一进气管与一氮气源或清洁干燥的空气源相连，通过一出气管与一抽真空装置相连。本实用新型采用一吹一吸的基本原理，通过氮气吹力把光刻机曝光台上的杂质颗粒吹起，然后通过另一端真空吸走颗粒，不但降低了操作者在狭小空间内的操作难度，降低了精密部件的损坏几率，而且提高了清洁效率，实现了高效安全的清洁目的。
用于光刻曝光清洁装置

[实用新型]用于晶圆生产设备的晶圆运载保护装置-CN201320638970.5有效
发明人：陈巍;陈群琦 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2013-10-16 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于晶圆生产设备的晶圆运载保护装置，包括垂直设置于承载支架上的支撑针，承载支架第一端部设置有一传感器支架，传感器支架上设置有第一传感器，在第一传感器下方承载支架上对应设置有第二传感器，第一传感器和第二传感器位于垂直于承载支架的一直线上；承载支架第二端部高于支撑针的位置设置有第三传感器，在承载支架的第一端部与第三传感器同一水平线的位置上对应设置有第四传感器。本实用新型在原有晶圆运载保护装置上加装一组水平方向的传感器，当晶圆偏斜/斜跨时，保护装置可以感知到晶圆的位置不正常，从而阻止晶圆交接，防止撞片的现象发生。
用于生产设备运载保护装置

[实用新型]涂布显影机传送单元的硅片定位结构-CN201220703867.X有效
发明人：单忠飞;陈群琦 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2012-12-18 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种涂布显影机传送单元的硅片定位结构，所述硅片定位结构为两个对称的弧形导轨，所述弧形导轨的内侧面为一凹形曲面，所述弧形导轨具有若干凸块，该凸块的内侧面包括所述凹形曲面，该凹形曲面上方连接一平面，所述平面由下至上向外倾斜。本实用新型的硅片定位导轨的内侧面为凹形曲面，距离长而且导轨延伸到工艺单元的托盘表面，这种设计增加了导轨和硅片的接触时间，提高了硅片的定位成功率。
显影传送单元硅片定位结构

[实用新型]减少光刻胶在更换时被浪费的装置-CN201120388741.3有效
发明人：周敏祺;陈群琦 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2011-10-13 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种减少光刻胶在更换时被浪费的装置，所述光刻胶装于光刻胶瓶中，所述光刻胶瓶的瓶口处设有氮气接口，光刻胶瓶通过管路与缓冲罐连通，所述缓冲罐为可变容积式缓冲罐。本实用新型使用可变容积的缓冲罐替换现有的固定容积缓冲罐，并省去了排液阀门，利用可变的体积容器先收集光刻胶瓶交换过程中管路的残胶，再排出管路中的空气，以避免光刻胶的浪费。
减少光刻更换浪费装置

[实用新型]半导体光刻显影槽的冲洗喷头-CN201020533301.8无效
发明人：单忠飞;陈群琦 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2010-09-17 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： B05B1/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体光刻显影槽的冲洗喷头，包括两个进水管、容置腔、多个喷嘴，容置腔的顶部分别通过活接头连接两个进水管，容置腔的底部设置多个喷嘴。本实用新型将显影槽的冲洗喷头由双管喷头改为带有多个喷嘴的喷头，能够使冲洗压力分流，减小中心区域水分子与栅氧之间的摩擦力，达到减少中心区域静电电荷积累的目的，最终能够消除电荷。
半导体光刻显影冲洗喷头

[发明专利]用于校准光刻工具的装置及方法-CN200910057967.2有效
发明人： 陈群琦;林世鸿;朱伟;陈钦裕 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-09-28 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种用于校准光刻工具的装置及方法。校准晶圆可载有一个或多个不同的标记类型，以利于光刻工艺的检查。第一标记类型可位于晶圆的外围部分上，以指示边缘球状物去除(EBR)区域的期望边界。第二标记类型可位于晶圆的外围部分上，以指示晶圆边缘暴露区域(WEE)的期望边界。第三标记类型可指示晶圆的期望载有晶圆标识标记的部分的边界。第四标记类型可位于晶圆的中心，可使得将液体抗蚀剂材料准确并均匀地施加于晶圆。在对光刻工艺的各个阶段的准确度进行快速简便的评估的方法中可采用校准晶圆。
用于校准光刻工具装置方法

[发明专利]配置成从顶部和底部接收流体的光刻胶工具的清洗制具-CN200810040279.0有效
发明人：陈枫;陈群琦;钟健民;朱伟 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2008-07-04 - 公布日： 2010-01-06 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：用于从旋涂处理装置清洗光刻胶的光刻胶槽清洗盘制具，其从顶部和底部接收清洗溶剂，提高了清洗效率。光刻胶槽清洗盘制具包括第一组通道，所述第一组通道允许了设置在光刻胶槽清洗盘制具的顶表面的孔与分布在制具边缘的多个口之间的流体连通。例如通过通常用来分配光刻胶材料的现有的光刻胶减量控制(RRC)喷嘴，溶剂被施加到制具的顶表面。溶剂流经这些通道并经所述口从盘侧喷射，从而促进从处理装置的光刻胶槽部分去除光刻胶残余物。溶剂也可被施加到制具底表面的开口，例如通过背部冲洗喷嘴，流经第二组通道并经制具边缘的不同口喷射。
配置顶部底部接收流体光刻工具清洗

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