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[发明专利]基板处理装置、装置起动方法、半导体器件的制造方法及记录介质-CN202310282578.X在审
发明人： 水口靖裕;松田恭平;布村一朗;猪岛香织 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种基板处理装置、装置起动方法、半导体器件的制造方法及记录介质，能够防止基板处理装置的设置时的错误操作，进行高效率的设置。一种技术，构成为具备：处理室，其能够对基板进行处理；主控制部，其能够控制上述基板的处理；存储部，其能够存储在使上述主控制部起动时的起动条件的有无实施判断中使用的起动条件有无实施信息、对上述起动条件进行管理的起动条件管理信息和上述起动条件管理信息的状态；以及起动条件控制部，其能够在上述起动条件管理信息满足规定条件时将上述起动条件有无实施信息设为有效。
处理装置起动方法半导体器件制造记录介质

[发明专利]半导体器件的制造方法、衬底处理装置及记录介质-CN201710766302.3有效
发明人： 水口靖裕 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件的制造方法、衬底处理装置及记录介质。本发明的目的在于提供可容易掌握处理室的状态的技术。解决手段为下述技术，其具有下述工序：搬送工序，所述搬送工序向具有第一处理室和其他处理室的组件搬送衬底；制程读出工序，所述制程读出工序读出与所述衬底的种类及张数相应的制程程序；和衬底处理工序，所述衬底处理工序按照所述制程程序来处理所述衬底，其中，在所述衬底处理工序中，分别检测表示所述第一处理室的状态的第一数据、和表示其他处理室的状态的其他数据，并且，将所述第一数据与预先取得的第一基准数据的比较、及所述其他数据与预先取得的其他基准数据的比较在显示画面中显示。
半导体器件制造方法衬底处理装置记录介质

[发明专利]衬底处理装置以及半导体器件的制造方法-CN201610837078.8有效
发明人： 水口靖裕 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2016-09-21 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种衬底处理装置以及半导体器件的制造方法，能够不受工艺种类的限制地进行衬底处理。根据本发明的一个方式，提供一种技术，具有：模组，其对衬底进行处理；搬运室，其与多个上述模组相邻；搬运部，其将上述衬底搬运到上述模组；接收部，其接收上述衬底的工艺信息；检测部，其检测每一个上述模组的质量信息；将多个上述工艺信息与多个上述质量信息相对应的表格；存储部，其存储上述表格；以及控制器，其使用上述表格对由上述接收部接收到的上述工艺信息和由上述检测部检测出的上述质量信息进行比较，选择与上述工艺信息对应的上述模组，并且对上述搬运部进行指示以使该搬运部向所选择的上述模组搬运上述衬底。
衬底处理装置以及半导体器件制造方法

[发明专利]基板处理系统、半导体器件的制造方法及记录介质-CN202010600098.X在审
发明人： 水口靖裕;松井俊;高崎唯史;大桥直史 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2020-06-28 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理系统、半导体器件的制造方法及记录介质，提高每个基板的处理均匀性。所涉及的技术具有：对基板进行处理的多个基板处理装置；分别设于多个基板处理装置且控制基板处理装置的第1控制部；从第1控制部接收多种数据的中继部；和从中继部接收数据的第2控制部，中继部按数据的种类和第1控制部中的某一方或双方变更向第2控制部发送数据的发送间隔。
处理系统半导体器件制造方法记录介质

[发明专利]衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质-CN201910212028.4在审
发明人： 水口靖裕;松井俊 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2019-03-20 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质。其技术问题在于，提高每个衬底的处理均匀性。为此，所提供的技术具有：处理执行部，其基于程序处理衬底；第1控制部，其对程序进行处理；和第2控制部，其基于从第1控制部接收到的数据控制处理执行部，第1控制部进行设于其他衬底处理装置的第1控制部的运转数据的判定，当判定出在其他衬底处理装置的第1控制部中发生了不良情况时，能够执行设于其他衬底处理装置的第1控制部的替代控制。
衬底处理装置半导体器件制造方法记录介质

[发明专利]基板处理装置、半导体器件的制造方法及程序-CN201880052010.6在审
发明人：野村诚;水口靖裕;齐藤一人;余川孝士;白川真人;末吉雅子 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2018-03-12 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明提供一种构成。该构成具有：处理容器，其构成处理气体被进行等离子体激励的等离子体生成空间和与等离子体生成空间连通的基板处理空间；等离子体生成部，其具有以包围等离子体生成空间的方式配置并且以卷绕在处理容器的外周的方式设置的线圈和向该线圈供给高频电力的高频电源；气体供给部，其向该等离子体生成空间供给处理气体；温度传感器，其设置在处理容器的外侧，对该处理容器的温度进行检测；以及控制部，其以在执行用于对基板进行处理的处理制程之前，使由温度传感器检测到的处理容器的温度落在由预先设定的上限值及下限值规定的目标温度的范围内的方式进行控制。
处理装置半导体器件制造方法程序

[发明专利]半导体装置的制造方法、基板处理装置以及记录介质-CN201910886619.X在审
发明人： 水口靖裕;大桥直史;高崎唯史;松井俊 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供半导体装置的制造方法、基板处理装置以及记录介质。能提供用于实现进行维护处理的定时的合理化的技术。该技术具有：将基板从储存有多个基板的储存容器搬运到处理室并进行处理的工序；受理处理室的维护预约信息的工序；以及在受理维护预约信息后，在与维护预约信息相关的处理室中的基板处理完成之前继续进行基板处理，在完成基板处理后停止向处理室的基板搬运并使处理室成为可维护状态的工序。
预约信息基板处理维护基板处理装置半导体装置储存容器多个基板基板搬运完成基板维护状态受理基板合理化搬运储存制造

[发明专利]基板处理装置及系统、半导体装置的制作方法、记录介质-CN201910101203.2在审
发明人： 水口靖裕;大桥直史;高崎唯史;松井俊 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置。本发明的课题是用于对基板处理装置实现高效的管理的技术。具备：处理室，其对基板进行处理；位置信息取得部，其取得处理室的位置信息；存储部，其保存位置信息；信息控制部，其将位置信息取得部取得的位置信息保存在存储部中，并且根据需要输出存储部所保存的位置信息。
位置信息取得部基板处理装置存储部对基板保存位置信息位置信息保存半导体装置处理装置输出存储信息控制保存制作管理

[发明专利]衬底处理系统及装置、半导体器件的制造方法及记录介质-CN201810169199.9在审
发明人： 水口靖裕;菊池俊之;大桥直史;高崎唯史;松井俊 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理系统及装置、半导体器件的制造方法及记录介质。目的在于提供实现高效的生产管理的技术。衬底处理系统，具有衬底处理装置和共用移动终端，所述衬底处理装置具备：处理衬底的反应器；与所述反应器邻接的搬送室；检测部，其检测所述搬送室或所述反应器的状态作为装置监测器信息；共用移动终端认证部，其对来自所述共用移动终端的信息进行认证；和第一发送接收部，其将包含装置管理编号与所述装置监测器信息的装置信息发送至所述共用移动终端；所述共用移动终端具备：接收所述装置信息的第二发送接收部、和显示所述装置信息的显示部。
移动终端衬底处理系统装置信息反应器监测器衬底处理装置半导体器件发送接收部搬送室移动终端认证装置管理邻接生产管理检测衬底制造发送认证

[发明专利]半导体器件的制造方法、记录介质及衬底处理装置-CN201710764181.9在审
发明人： 水口靖裕 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件的制造方法、记录介质及衬底处理装置。要解决的问题为能够容易地掌握处理室的状态。为解决上述问题，提供一种具有下述工序的技术：预热工序，在处理室中不存在衬底的状态下，对设置于处理室的加热部、和控制处理室的气氛的气氛控制部进行控制，并且对表示处理室的状态的第一处理室数据进行检测；和衬底处理工序，在处理室中存在衬底的状态下，控制加热部和气氛控制部，对衬底进行处理，并且对表示处理室的状态的第二处理室数据进行检测；在衬底处理工序中，将第一处理室数据及第二处理室数据、与预先取得的预热工序中的第一基准数据及衬底处理工序中的第二基准数据一同在显示画面中显示。
衬底处理衬底衬底处理装置半导体器件第一处理室气氛控制部基准数据预热工序加热部控制处理显示画面检测制造

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