专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]图像传感器对角隔离结构-CN202310272425.7在审
  • 毛杜立;王勤;比尔·潘;孙世宇;臧辉 - 豪威科技股份有限公司
  • 2023-03-17 - 2023-09-26 - H01L27/146
  • 本公开涉及图像传感器对角隔离结构。提供图像传感器、隔离结构及制造技术。一种图像传感器包含安置在衬底上的电磁辐射源、安置在所述衬底上且与电磁辐射源热耦合的像素阵列,以及在所述电磁辐射源与所述像素阵列之间安置在所述衬底上的隔离结构。所述隔离结构能够界定相对于所述像素阵列的横向轴定向在第一偏置上的第一反射表面及相对于所述横向轴定向在第二偏置上的第二反射表面。所述隔离结构能够经配置以通过将所述第一反射表面及所述第二反射表面对所述电磁辐射的第一反射与第二反射配对来衰减到达所述像素阵列的近端区的残余电磁辐射。
  • 图像传感器对角隔离结构
  • [发明专利]多厚度栅极电介质-CN201910849715.7有效
  • 陈刚;郑源伟;王勤;杨存宇;陈冠男;毛杜立;戴森·戴;林赛·格朗 - 豪威科技股份有限公司
  • 2019-09-09 - 2023-09-05 - H01L27/146
  • 本申请案涉及多厚度栅极电介质。图像传感器包含:一或多个光电二极管,其安置在半导体材料中以接收图像光并产生图像电荷;及浮动扩散,其用以从所述一或多个光电二极管接收所述图像电荷。一或多个转移晶体管经耦合以将所述一或多个光电二极管中的图像电荷转移到所述浮动扩散,并且源极跟随器晶体管经耦合以放大所述浮动扩散中的所述图像电荷。所述源极跟随器包含栅电极(耦合到所述浮动扩散)、源电极及漏电极,以及在所述源电极与漏电极之间安置在所述半导体材料中的作用区。电介质材料安置在所述栅电极与所述作用区之间,并具有第一厚度及第二厚度。所述第二厚度大于所述第一厚度,且所述第二厚度比所述第一厚度更靠近所述漏电极安置。
  • 厚度栅极电介质
  • [发明专利]图像传感器中的垫和接地的自对准-CN201811396453.5有效
  • 王勤;陈刚;毛杜立 - 豪威科技股份有限公司
  • 2018-11-22 - 2023-08-11 - H01L27/146
  • 本申请案涉及图像传感器中的垫与接地的自对准。一种图像传感器包含:多个光电二极管,其安置于半导体材料中,以将图像光转换成图像电荷;以及金属网格,其包含与所述金属网格共面的金属护罩,安置成接近于所述半导体材料的后侧。所述金属网格与所述多个光电二极管光学对准,以将所述图像光引导到所述多个光电二极管中,且接触垫安置于所述半导体材料中的沟槽中。所述接触垫耦合到所述金属护罩,来使所述金属护罩接地。
  • 图像传感器中的接地对准
  • [发明专利]高动态范围、背照式、低串扰图像传感器-CN202211562189.4在审
  • 文成烈;毛杜立;比尔·潘 - 豪威科技股份有限公司
  • 2022-12-07 - 2023-07-07 - H01L27/146
  • 提供了一种背照式图像传感器及其制造方法。背照式图像传感器包括由隔离结构分隔的阵列式光电二极管,以及在第一层金属互连与衬底之间的层间介质。图像传感器在层间介质中在隔离结构与第一层互连之间具有阻挡金属壁,阻挡金属壁与隔离结构对准并且设置在隔离结构与第一层互连之间。通过以下步骤来形成背照式图像传感器:提供部分制成的半导体衬底,该部分制成的半导体衬底具有形成的光电二极管和源‑漏区域;在半导体衬底的前侧表面上形成栅电极,在栅电极之上沉积蚀刻停止层;在蚀刻停止层上沉积层间介质;形成穿过层间介质延伸到蚀刻停止层的沟槽,该沟槽位于光电二极管之间;以及用金属填充沟槽以形成阻挡金属壁。
  • 动态范围背照式低串扰图像传感器
  • [发明专利]背侧金属栅格及金属垫简化-CN202310339677.7在审
  • 王沁;陈刚;毛杜立 - 豪威科技股份有限公司
  • 2017-12-14 - 2023-06-06 - H01L27/146
  • 本申请案涉及一种背侧金属栅格及金属垫简化。图像传感器包含半导体材料,所述半导体材料包含安置在所述半导体材料中的多个光电二极管。所述图像传感器还包含:第一绝缘材料,其安置成靠近所述半导体材料的前侧;以及互连件,其安置在靠近所述半导体材料的所述前侧的所述第一绝缘材料中。金属垫从所述半导体材料的背侧延伸穿过所述第一绝缘材料并接触所述互连件。金属栅格安置成靠近所述半导体材料的所述背侧,且所述半导体材料安置在所述金属栅格与靠近所述前侧安置的所述第一绝缘材料之间。
  • 金属栅格简化
  • [发明专利]与垂直晶体管组合的垂直溢流漏极-CN201910402023.8有效
  • 郑源伟;陈刚;毛杜立;戴森·戴;林赛·格朗 - 豪威科技股份有限公司
  • 2019-05-15 - 2023-04-18 - H01L27/146
  • 本申请案涉及与垂直晶体管组合的垂直溢流漏极。图像传感器像素包含:光电二极管,其安置在半导体材料中以响应于入射在所述半导体材料的背侧上的光而产生图像电荷;以及钉扎层,其安置在所述半导体材料中并耦合到所述光电二极管。所述像素还包含垂直溢流漏极,其安置在所述半导体材料中并且耦合到所述钉扎层,使得所述钉扎层安置在所述垂直溢流漏极与所述光电二极管之间。浮动扩散部靠近所述光电二极管安置在所述半导体材料中,及垂直转移晶体管部分安置在所述半导体材料中并且耦合到所述光电二极管,以响应于施加到所述垂直转移晶体管的所述栅极端子的转移信号而将所述图像电荷从所述光电二极管转移到所述浮动扩散部。
  • 垂直晶体管组合溢流
  • [发明专利]源极跟随器接触件-CN201811067853.1有效
  • 王昕;杨大江;马四光;马渕圭司;比尔·潘;毛杜立;戴森·戴 - 豪威科技股份有限公司
  • 2018-09-13 - 2023-01-24 - H01L27/146
  • 本申请案涉及源极跟随器接触件。一种图像传感器包含安置在第一半导体材料中的光电二极管,以吸收入射在所述图像传感器上的光子并产生图像电荷。浮动扩散区安置在所述第一半导体材料中并且经定位以从所述光电二极管接收所述图像电荷,并且转移晶体管耦合在所述光电二极管与所述浮动扩散区之间,以响应于转移信号而将所述图像电荷从所述光电二极管转移到浮动扩散区中。具有栅极端子的源极跟随器晶体管耦合到所述浮动扩散区,以输出所述浮动扩散区中的所述图像电荷的放大信号。所述栅极端子包含与所述浮动扩散区接触的第二半导体材料,并且栅极氧化物部分地安置在所述第二半导体材料与所述第一半导体材料之间。所述第二半导体材料延伸超出所述浮动扩散区的横向边界。
  • 跟随接触
  • [发明专利]单曝光高动态范围传感器-CN201810636929.1有效
  • 杨大江;奥拉伊·奥尔昆·赛莱克;毛杜立;成先富;王昕;比尔·潘;戴森·H·戴 - 豪威科技股份有限公司
  • 2018-06-20 - 2022-10-28 - H01L27/146
  • 本发明涉及一种单曝光高动态范围传感器。所述单曝光高动态范围HDR图像传感器包含安置于半导体材料中的第一光电二极管及第二光电二极管,所述第二光电二极管具有小于所述第一光电二极管的满阱容量。所述图像传感器还包含:第一浮动扩散部,其安置于所述半导体材料中;及第一转移栅极,其耦合到所述第一光电二极管以将累积在所述第一光电二极管中的第一图像电荷转移到所述第一浮动扩散部中。第二浮动扩散部安置于所述半导体材料中,且第二转移栅极耦合到所述第二光电二极管以将累积在所述第二光电二极管中的第二图像电荷转移到所述第二浮动扩散部中。衰减层安置于所述第二光电二极管与朝向所述单曝光HDR图像传感器引导的图像光之间以阻挡所述图像光的一部分到达所述第二光电二极管。
  • 曝光动态范围传感器

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