专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]交通噪声监测声呐-CN202023261622.X有效
  • 鲍明;陈志菲;李安;段立峰 - 南京中科声势智能科技有限公司
  • 2020-12-30 - 2021-11-26 - G01S15/88
  • 本实用新型公开了交通噪声监测声呐,包括太阳能电池板、显示器、全景摄像头和控制箱,所述太阳能电池板的底部中间设置有支撑架,通过设置太阳能电池板和蓄电池相配合,能够为设备提高持久的续航电源,不用外接电源,节约资源,通过设置全景摄像头、声呐和信号发射器相配合,工作人员可以远程监控,声音和图像相结合,监控更全面,通过设置显示器,能够在显示器上显示当前环境的分贝大小,也可输入“禁止鸣笛”等字样进行提醒,通过设置数据存储模块,可以对全景摄像头拍摄的画面进行存储,方便工作人员翻阅查看,通过设置信号稳定器和信号发射器,能够将监控的情况更加稳定的发送出去,防止出现信号干扰情况的发生,减少工作失误,提高工作效率。
  • 交通噪声监测声呐
  • [实用新型]户外噪声监测声呐-CN202023267111.9有效
  • 鲍明;陈志菲;李安;段立峰 - 南京中科声势智能科技有限公司
  • 2020-12-30 - 2021-07-30 - G01H17/00
  • 本实用新型公开了户外噪声监测声呐,包括底座、防护壳、箱体和光伏板,所述底座的顶部设置所述防护壳,所述防护壳的内腔底部设置有升降机,所述升降机的顶部中间输出端设置有升降杆,所述升降杆的顶端设置有顶板,通过在底座上设置有升降机,能够带动该噪声声呐检测检测装置进行升降,从而便于根据不同的使用环境进行高度的调节,提高了实用性;通过在数据盒内设置有信号增强器、稳压器和滤波器,分别能够对该装置对外界终端传输检测到的数据时的信号进行增强,对电流进行稳压,对外界干扰电波进行过滤,避免因为信号弱、电压不稳或者外界干扰电波等原因造成数据传输不够快速、精确的情况发生,进一步提高了实用性。
  • 户外噪声监测声呐
  • [发明专利]车辆源强监测方法、装置、电子设备及存储介质-CN202011374536.1在审
  • 陈志菲;段立峰 - 南京中科声势智能科技有限公司
  • 2020-11-30 - 2021-03-19 - H04N7/18
  • 本申请提供一种车辆源强监测方法、装置、电子设备及存储介质,涉及数据处理领域。其中,该车辆源强监测方法包括:通过视频采集设备获取车辆通过监测区域的起始时间以及结束时间;通过声呐设备获取所述起始时间以及所述结束时间范围内的音频信息,音频信息包括:多种类型的环境声音;通过滤波算法从所述音频信息中提取所述车辆的源强信息。本申请实施例中,通过时间上的关联性,将视频信息以及音频信息进行联合分析,获取车辆进入监控区域对应的音频信息,利用滤波算法从该音频信息中提取所述车辆的源强信息,并能够识别所述车辆行驶噪声的主要声纹特征,避免了现有技术中噪声监测数据类型单一的问题,提高了对于噪声数据的监测效果。
  • 车辆监测方法装置电子设备存储介质
  • [实用新型]一种电子商务教学用展示装置-CN201821645347.1有效
  • 段立峰 - 陕西工业职业技术学院
  • 2018-10-10 - 2020-12-01 - G09B5/02
  • 本实用新型公开了一种电子商务教学用展示装置,包括外箱,所述外箱的上端设置有手写展示板安装槽,所述手写展示板安装槽的一侧设置有电子显示板安装槽,本实用新型结构科学合理,使用安全方便,设置有手写展示板以及电子显示板,通过两者结合可以更为系统全面的对电子商务案例进行展示,便于教学时的使用,提高电子商务教学的效率以及质量,设置有集成主机,集成主机具有电脑的所有功能,通过与电子显示板连接,使装置成为一件可以独立使用的教学装置,在教学时无需额外携带教学资料以及案例,进一步方便的教学工作的开展,设置有旋转连接装置,通过该装置可以使手写展示板以及电子显示板以任意角度旋转,方便教学时使用。
  • 一种电子商务教学展示装置
  • [发明专利]偏振照明装置及偏振照明方法-CN201210525295.5有效
  • 马明英;段立峰 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-12-07 - 2014-06-18 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种偏振照明装置及照明方法,该装置包括沿光轴方向依次设置的光路传输单元、偏振控制单元以及光束整形单元,偏振控制单元能够将来自光路传输单元的光束中的两种偏振光变成所需的同种偏振光并将同种偏振光汇集后传输至光束整形单元,光束整形单元将来自偏振控制单元的光束宽度调整为与偏振控制单元的入射光束宽度一致,通过采用偏振控制单元能够将来自光路传输单元的光束中的两种偏振光变成所需的同种偏振光并将同种偏振光汇集后传输至光束整形单元,从而可利用来自光路传输单元的光束中的两种偏振光,有效防止光能的损失,光束整形单元将来自偏振控制单元的光束宽度调整为与偏振控制单元的入射光束宽度一致的光束,以便后续利用。
  • 偏振照明装置方法
  • [发明专利]一种高度测量装置及其测量方法-CN201210222725.6有效
  • 李术新;孙刚;段立峰 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-07-02 - 2014-01-22 - G03F7/20
  • 一种高度测量装置及其测量方法,光源产生线偏振光,经过偏振分光器分为第一偏振光和第二偏振光;第二偏振光倾斜入射到被测物体表面形成偏振反射光,第一偏振光、偏振反射光分别通过第一、二四分之一波片入射到第一、二反射镜并沿原路返回,经过偏振分光器分别形成第一偏振出射光、第二偏振出射光;偏振反射光先后通过第一分束器和第二分束器分别形成第一光斑和第二光斑,根据第一光斑和第二光斑的位置信息计算被测物体表面的倾斜量;光束接收器接收第一偏振出射光和第二偏振出射光,获得被测物体运动产生的光程差;根据光程差计算出被测物体高度。本发明测量精度高,对硅片工艺衬底适应性强可用于表面形貌高低起伏变化的表面高度测量。
  • 一种高度测量装置及其测量方法
  • [发明专利]一种波像差测量标记及波像差测量方法-CN201210183465.6有效
  • 马明英;段立峰 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-06-06 - 2013-12-25 - G03F7/20
  • 本发明提出一种波像差测量物面标记,形成在光刻机系统的掩模上,其特征在于该物面标记包括光栅标记和小孔标记,光栅标记和小孔标记分别在标记面上排成列,每个光栅标记和每个小孔标记构成一组标记并且排成一行。同时还提出了使用该物面标记测量波像差的方法。由于本发明的波像差测量物面标记既包括光栅标记,又包括小孔标记,在通过剪切干涉条纹测量波像差的同时,通过小孔标记测量剂量,从而提高了波像差测量精度,减小了光强不均匀性对波像差检测精度的影响。
  • 一种波像差测量标记测量方法
  • [发明专利]一种硅片吸附装置及其吸附方法-CN201210103995.5有效
  • 段立峰;马明英;蔡良斌;李术新;王献英 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-04-11 - 2013-10-23 - H01L21/683
  • 一种硅片曝光装置及其曝光方法,该装置包括吸盘,固定于工件台上,所述吸盘上分布有多个吸孔;多个分管道,与所述吸孔分别对应且连接;总管道,与所述多个分管道连通,将所述分管道和吸孔的气体抽出,使硅片和所述吸盘之间形成真空并相互紧贴;与所述多个分管道分别对应的多个控制器,控制各个分管道对吸孔抽取真空的时刻和真空度。该方法包括根据硅片的翘曲程度规划各个所述吸孔抽取真空的时刻;根据硅片的翘曲大小规划各个所述吸孔抽取真空的真空度;根据规划的时刻和真空度,由所述控制器控制所述分管道对所述吸孔抽取真空。本装置及方法通过分时控制吸孔的真空度,保证硅片安全固定,降低拒片情况,保证硅片曝光质量,提高硅片的良率和产率。
  • 一种硅片吸附装置及其方法
  • [发明专利]一种工艺基底边缘场的调平方法-CN201210104002.6有效
  • 王献英;李术新;段立峰 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-04-11 - 2013-10-23 - G03F9/00
  • 本发明公开一种工艺基底边缘场的调平方法,本发明首先将工艺图像的形状测量出来,在曝光时首先将特征图像的测量值补偿掉,然后再利用前馈调平法进行边缘场曝光本发明中使用的前馈调平不要求参考场或参考区域必须都在基底上,参考场也可以部分在基底上部分在基底外。通过本发明的技术方案,当对具有特殊工艺的基底的边缘场进行调平时,即使调焦调平光斑的测量值与工艺图形形状相关,也能获得很好的调平效果,从而使得边缘场获得很好的曝光效果。
  • 一种工艺基底边缘平方
  • [发明专利]一种硅片曝光方法及装置-CN201210103994.0有效
  • 段立峰;马明英;蔡良斌;李术新;王献英 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-04-11 - 2013-10-23 - G03F7/20
  • 本发明提出了一种光刻装置硅片曝光方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)按照一定规则选取位于工件台上的硅片上的测量点;(2)使用测量系统测量选取好的测量点的位置数据;(3)对位置数据进行拟合,得到硅片面形;(4)计算硅片上每个曝光场的调焦调平参数;(5)根据曝光场的调焦调平参数对硅片进行调焦调平;(6)对硅片进行曝光。本发明提出的一种硅片曝光的方法以曝光场为单位进行调焦调平,保证每个曝光场在焦深范围内进行曝光,从而保证每个曝光场的成像质量;因对硅片所有曝光场都进行调焦调平,大大提高了曝光场的曝光质量,从而提高了硅片的良率与产率。
  • 一种硅片曝光方法装置

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