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[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置-CN201710188823.5在审
发明人：宫奎;段献学;徐德智 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-03-27 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：一种阵列基板及其制作方法、显示装置。该阵列基板包括衬底基板、设置在衬底基板上的沿行和列方向排列的像素单元以及沿行方向延伸的第一信号线。像素单元包括公共电极，在列方向上相邻像素单元的公共电极之间通过第一连接部电连接；第一信号线设置在沿列方向相邻像素单元之间，第一连接部与第一信号线至少部分交叠。该阵列基板中的每两个像素单元的公共电极之间的第一连接部与第一信号线交叠的总面积为第一交叠面积，第一信号线的至少一端为第一信号输入端，沿行方向第一交叠面积随第一连接部距第一信号输入端的最小距离的增大而减小，补偿了金属信号线造成的信号延迟，从而改善了显示面板显示不均匀的现象。
阵列及其制作方法显示装置

[发明专利]一种光刻胶涂布装置-CN201710064277.4在审
发明人：宫奎;段献学;刘天真;陈程 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-02-04 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶涂布装置，包括喷嘴、光电探测器、光学元件，以及控制器；其中，光学元件，用于将光电探测器出射的光线分为第一光线和第二光线，将第一光线和第二光线分别入射至已涂覆光刻胶的基板表面和未涂覆光刻胶的基板表面，并将已涂覆光刻胶的基板表面的第一反射光以及未涂覆光刻胶的基板表面的第二反射光分别入射至光电探测器；光电探测器，用于接收第一反射光与第二反射光的干涉光，并将干涉信息发送至控制器；控制器，用于根据干涉信息确定光刻胶的厚度变化量；根据厚度变化量调节喷嘴涂布光刻胶的速度。本发明利用干涉原理，实现了根据光刻胶厚度的均匀性实时调整光刻胶的涂布状态，避免光刻胶的厚度出现大的波动。
一种光刻胶涂布装置

[发明专利]一种光纤透镜制作方法及光纤透镜-CN201610575005.6在审
发明人：李贺飞;白明基;段献学;宫奎 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-07-20 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： G02B6/26 文献下载
摘要：本发明提供一种光纤透镜制作方法及光纤透镜。所述方法包括：将光纤的一端浸泡在刻蚀溶液中进行刻蚀，在所述一端形成容纳槽，所述光纤包括包层和被所述包层包裹的纤芯，所述纤芯在所述刻蚀液中的刻蚀速度大于所述包层在所述刻蚀液中的刻蚀速度；将透明光学材料填充入所述容纳槽中，形成光纤透镜。所述光纤透镜，采用本发明任意一项实施例所提供的制作方法制作得到。本发明所提供的光纤透镜制作方法及光纤透镜，能够通过简单的工艺制作光纤透镜。
一种光纤透镜制作方法

[实用新型]一种等离子体刻蚀装置和干法刻蚀设备-CN201620672052.8有效
发明人：宫奎;白明基;段献学;李贺飞 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-06-28 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体刻蚀装置和干法刻蚀设备，用以通过所述等离子刻蚀装置实现对被刻蚀基板的均匀刻蚀，避免被刻蚀基板由于刻蚀不均匀而造成的不良，提高产品的质量。所述等离子体刻蚀装置，包括反应腔室、位于反应腔室内的相对而置的下部电极和上部电极，所述装置还包括：固定在所述下部电极底部的转轴、与所述转轴相连的电机，其中，所述电机位于所述反应腔室的外部，用于控制所述转轴带动所述下部电极进行转动。
一种等离子体刻蚀装置设备

[发明专利]一种基板及其制备方法、显示面板-CN201610666482.3在审
发明人： 段献学;宫奎;李贺飞;李纪龙;安晖;董必良;王铖铖 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-08-12 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明的实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板，涉及显示技术领域，可解决现有技术中栅绝缘层损伤的问题。该基板的制备方法包括在衬底上形成TFT，所述TFT包括依次形成在所述衬底上的栅极、栅绝缘层、非晶硅有源层、n⁺非晶硅欧姆接触层以及源极和漏极；在形成所述非晶硅有源层之后，形成所述n⁺非晶硅欧姆接触层之前，所述方法还包括形成保护绝缘层，所述保护绝缘层包括位于所述非晶硅有源层的沟道区域的第一图案，以及位于非TFT区域的第二图案；其中，所述第二图案在非TFT区域覆盖所述栅绝缘层。用于具有TFT的装置。
一种及其制备方法显示面板

[实用新型]一种真空蒸发镀膜设备-CN201620051276.7有效
发明人：安晖;董必良;段献学 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-01-18 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种真空蒸发镀膜设备，包括蒸发源和用于安装待镀膜基板的载体，其中，所述真空蒸发镀膜设备还包括：相互连接的多个挡板，设置于所述蒸发源和所述载体之间；多个所述挡板相组合构成至少两组修正挡板；用于驱动其中一组所述修正挡板位于所述蒸发源的材料蒸发行程内的驱动机构，所述驱动机构与每组所述修正挡板相连接。相较于现有技术，本实用新型通过增加修正挡板的数量，使不同蒸镀膜层过程时，不同组修正挡板位于蒸发源的材料蒸发行程内，从而保证不同膜层的均一性。
一种真空蒸发镀膜设备

[发明专利]一种OLED封装结构及其制作方法、显示器件-CN201610003612.5在审
发明人：李瑞;段献学 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-01-04 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：本发明涉及封装技术领域，公开了一种OLED封装结构及其制作方法、显示器件。所述OLED封装结构包括覆盖OLED的封装层，所述封装层包括散热层，用于对OLED进行散热，防止温度过高损伤OLED，提高显示器件的品质。
一种 oled 封装结构及其制作方法显示器件

[发明专利]多晶硅薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及其制作方法-CN201510297435.1在审
发明人：刘天真;王铖铖;段献学 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-06-01 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本发明提供了一种多晶硅薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及其制作方法，属于显示技术领域。其中，多晶硅薄膜晶体管的制作方法中，在形成薄膜晶体管的非晶硅有源层和源电极后，向所述源电极施加电信号，使所述源电极在预设温度下保持预设时间，通过源电极与非晶硅有源层之间的热传导使所述非晶硅有源层在所述源电极产生的热量下晶化为多晶硅有源层。本发明的技术方案利用电信号产生的热量使非晶硅晶化为多晶硅，制备工艺简单，制备成本低廉。
多晶薄膜晶体管及其制作方法阵列

[发明专利]检测显示面板表面平坦度的装置及方法-CN201510093122.4在审
发明人：徐德智;段献学;陈程 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-03-02 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明涉及检测显示面板表面平坦度的装置及方法。所述检测显示面板表面平坦度的装置包括：承载基台，用于承载显示面板；图像采集单元，用于在检测平面中的与显示面板面向图像采集单元的表面中预设的各检测点对应的位置对检测点对焦，并将对焦完成时的焦距发送给数据处理单元；所述检测平面为一与承载基台的承载面平行的平面；数据处理单元，用于根据图像采集单元发送来的焦距数据，计算各所述检测点相对于所述图像采集单元所在平面的距离，并据此确定所述显示面板面向图像采集单元的表面的平坦度。上述检测显示面板表面平坦度的装置在检测显示面板表面的平坦度时无需与显示面板接触，从而可以避免显示面板的损坏及污染显示面板。
检测显示面板表面平坦装置方法

[发明专利]一种阵列基板的制作方法-CN201310727274.6在审
发明人： 段献学 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板的制作方法，用以简化阵列基板的制作工艺流程。所述阵列基板的制作方法包括：在衬底基板上制作薄膜晶体管的栅极、有源层、源极和漏极以及第一绝缘层的过程，制作第一绝缘层上的一个或多个接触孔的过程，以及制作栅线和/或数据线的过程；所述第一绝缘层位于所述栅极与所述有源层之间，且覆盖所述栅线和数据线；其中，所述栅极与所述接触孔采用同一次掩膜、同一次曝光工艺形成；或者所述有源层与与所述接触孔采用同一次掩膜、同一次曝光工艺形成。
一种阵列制作方法

[实用新型]一种光触控屏以及显示装置-CN201320616695.7有效
发明人：周伯柱;白明基;段献学;陈程;杨成绍;操彬彬 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-09-30 - 公布日： 2014-02-26 - 主分类号： G06F3/042 文献下载
摘要：本实用新型公开一种光触控屏以及显示装置，涉及光电技术领域，为能够提高触控位置的定位精确度而实用新型。所述光触控屏，包括光触控面板，所述光触控面板内设有多条第一光传输通道和多条第二光传输通道，所述第一光传输通道和所述第二光传输通道相互正交；所述光触控面板的外部设有第一传感器和第二传感器，所述第一传感器设置在所述第一光传输通道的一端，用于接收由所述第一光传输通道发出的光；所述第二传感器设置在所述第二光传输通道的一端，用于接收由所述第二光传输通道发出的光。本实用新型主要用于远距离控制显示屏。
一种光触控屏以及显示装置

[发明专利]一种光触控屏以及显示装置-CN201310463669.X有效
发明人：周伯柱;白明基;段献学;陈程;杨成绍;操彬彬 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-09-30 - 公布日： 2014-01-08 - 主分类号： G06F3/042 文献下载
摘要：本发明公开一种光触控屏以及显示装置，涉及光电技术领域，为能够提高触控位置的定位精确度而发明。所述光触控屏，包括光触控面板，所述光触控面板内设有多条第一光传输通道和多条第二光传输通道，所述第一光传输通道和所述第二光传输通道相互正交；所述光触控面板的外部设有第一传感器和第二传感器，所述第一传感器设置在所述第一光传输通道的一端，用于接收由所述第一光传输通道发出的光；所述第二传感器设置在所述第二光传输通道的一端，用于接收由所述第二光传输通道发出的光。本发明主要用于远距离控制显示屏。
一种光触控屏以及显示装置

[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置-CN201310370380.3有效
发明人： 段献学;白明基;徐德智;邹志翔 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-08-22 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，涉及显示技术领域。方法包括在基板上形成刻蚀阻挡层图形和第一电极图形的步骤，形成所述刻蚀阻挡层图形和第一电极图形的步骤包括：依次形成刻蚀阻挡层薄膜和第一电极薄膜，通过一次构图工艺形成刻蚀阻挡层图形和第一电极图形。本发明省去了刻蚀阻挡层图形单独形成的构图工艺，简化了工艺流程，节省了制作成本。本发明实施例用于制造显示装置。
显示及其制造方法显示装置

[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置-CN201210475875.8有效
发明人：范昭奇;刘同军;段献学;杨成绍;邓立赟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2012-11-21 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种阵列基板及制作方法、显示装置，通过在GOA区域中，刻蚀掉的薄膜晶体管连接区域的栅极绝缘层、有源半导体层，而使薄膜晶体管连接区域中的透明导电层直接与薄膜晶体管的栅极引线、欧姆接触层、源漏极引出线以及基板直接接触，从而可减少的薄膜晶体管连接区域的透明导电层发生开裂的情况，而在GOA区域中薄膜晶体管所在区域，通过在欧姆接触层与有源半导体层之间增设绝缘阻挡层，从而避免薄膜晶体管发生沟道断开的现象。
阵列及其制作方法显示装置

[发明专利]溅射靶材及溅射装置-CN201210535884.1有效
发明人：王文龙;段献学;白明基 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2012-12-12 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种溅射靶材，包括多个第一分块和多个第二分块，所述多个第一分块和第二分块成多行多列分布，其中每行中所述第一分块与所述第二分块交错分布，每列中所述第一分块与所述第二分块也交错分布。本发明还公开了一种包括上述溅射靶材的溅射装置，其还包含交流电源，所述交流电源包括极性相反的第一电极和第二电极，所述溅射靶材的每个第一分块与所述交流电源的第一电极对应连接，所述溅射靶材的每个第二分块与所述交流电源的第二电极对应连接。本发明将溅射靶材设计成块状，使靶材得到充分利用，并且产品膜质更具均一性。
溅射装置