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[发明专利]多炉体结构-CN202310028018.1在审
发明人：朱太荣;刘磊;肖阳;林佳继;刘群 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： F27B19/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种多炉体结构，该多炉体结构包括机架、加热装置、隔热材料件和支撑组件，机架设置有容纳腔，加热装置为多个，多个加热装置依次设置在容纳腔内，隔热材料件填充在容纳腔的内壁与加热装置之间，支撑组件设在容纳腔内以支撑加热装置。该多炉体结构能够较好地避免加热装置塌陷的现象发生，且维修及运输成本均较低。
多炉体结构

[发明专利]一种掩膜层及其生长方法和应用-CN202211412098.2在审
发明人：祁文杰;梁笑;毛文龙;范伟;卢佳;林佳继 -专利权人：拉普拉斯新能源科技股份有限公司
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜层及其生长方法和应用。所述生长方法包括：采用氧源和硅源在低压条件下进行外延生长，得到氧化硅掩膜层；所述低压的压力为15‑25Pa。本发明通过使用硅源和氧源在低压条件下进行外延生长，制得了高质量氧化硅掩膜层，其氧化硅掩膜层的生长速率快，可缩短工艺时间；并且采用外延生长来沉积氧化硅掩膜层，不会与底部的结构产生反应，对钝化结构的性能可起到保护作用。
一种掩膜层及其生长方法应用

[发明专利]一种PECVD镀膜机-CN202011264211.8有效
发明人： 林佳继;刘群;张武;朱太荣;庞爱锁;林依婷 -专利权人：拉普拉斯新能源科技股份有限公司
申请日： 2020-02-10 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明提供一种PECVD镀膜机，包括用于镀膜操作的真空炉腔，所述真空炉腔内设有至少两个与硅片相关的工位，硅片的烧制工位同时也是硅片的装载工位，硅片被通过平移机构装入镂空载板中，镂空载板包括多个，多个镂空载板在硅片的装载工位上下排列且等间距均布，形成硅片载具，单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位，镂空部位位于镂空载板的中部，所述安装部位位于所述镂空载板的一侧，多个镂空载板的安装部位位于镂空载板的同一侧。本发明采用竖向送片和水平插片的方式，硅片和电极片的交替对插在真空炉腔内完成，对于镀膜过程来说，从插片到镀膜的过程，都可以进行氛围控制，有利于调整镀膜环境，提升镀膜质量。
一种 pecvd 镀膜

[实用新型]一种软着陆的石英管-CN202222153973.1有效
发明人：朱太荣;刘磊;林佳继 -专利权人：拉普拉斯新能源科技股份有限公司
申请日： 2022-08-16 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C30B31/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种软着陆的石英管,包括石英管本体和软着陆底座，软着陆底座设置在石英管本体的内壁，软着陆底座承托石英舟托,本实用新型将软着陆底座设置在石英管本体的内壁，软着陆底座的长度与工艺腔室的长度相配，加大软着陆底座的承重能力，满足石英管的使用需求,本实用新型将石英舟托放置于凹槽，不仅限制石英舟托的左右移动，保证石英舟托的稳定性，同时使石英舟托准确落在并保持在石英管本体的中间位置，解决了石英舟托以及在炉管内部倾倒的问题，增加了成品率，同时解决了因位置偏移导致取舟时造成石英舟磕碰的问题。
一种软着陆石英管

[实用新型]镀膜设备-CN202223141395.6有效
发明人：戴佳;朱鹤囡;董雪迪;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀膜设备，该镀膜设备包括载具运输线、上下料系统、镀膜腔体系统和中转系统，载具运输线用于运输基体载具，上下料系统用于实现基体在基体载具上的装载与卸载，基体镀膜腔体系统用于实现基体的双面镀膜，中转系统与基体镀膜腔体系统连接，中转系统用于将基体载具在载具运输线和基体镀膜腔体系统之间转换。该镀膜设备在一条连贯的生产线内部实现基体的双面镀膜，产品良率较高，设备布局面积较小，厂房使用效率较高。
镀膜设备

[发明专利]一种半片自动化上下料设备-CN202211626222.5在审
发明人：周欢;林佳继;刘群;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-12-15 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及上下料设备技术领域，公开了提供的一种半片自动化上下料设备，包括：花篮调节组件，能够带动花篮进行位置调整，进而调节花篮的上、下料位置；花篮上下料输送组件，用于将装载待加工硅片的花篮和空花篮输送至花篮调节组件，并将装载已加工硅片的花篮和空花篮从花篮调节组件内取出；硅片上下料输送组件，能够将花篮内的待加工的硅片取出，并将加工后的硅片输送至花篮内；本方案中，整片硅片和半片硅片能够使用同种规格的花篮进行输送，当输送半片硅片进行上下料时，能够通过花篮调节组件调节花篮的下料位置，使其与硅片上下料输送组件对应，无需更换花篮的规格，保证正常的输送作业，进而使上下料花篮的利用率更高，提升了输送效率。
一种自动化上下设备

[实用新型]膜带检测装置以及贴膜系统-CN202222781636.7有效
发明人：韩永祥;林佳继;董雪迪;刘群;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-10-21 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本实用新型属于太阳能电池技术领域，公开了一种膜带检测装置以及贴膜系统，膜带检测装置具有传送机构，传送机构用于传送电池片；该装置还具有检测机构，该检测机构包括多个分布设置于架体上的相机组件；该装置还具有光源机构，光源机构设置于所述架体上，用于照射传送机构传送的电池片组件。贴膜系统包括上述膜带检测装置，能够通过检测机构对膜带的透光和外观进行检测，其中光源机构在相机检测时提供光线以照射膜带，有效的识别出透光缺陷以及外观缺陷，同时也能提高检测效率。
检测装置以及系统

[实用新型]一种用于LPCVD的进气结构-CN202221667017.9有效
发明人：卢佳;林佳继;梁笑;范伟;毛文龙;祁文杰 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-06-29 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于LPCVD的进气结构,包括进气管，所述进气管从炉口处伸入炉内；所述炉口处设有炉口法兰，所述进气管的进气端安装在炉口法兰上。本实用新型在进气结构上将外围氧气沿设施管路接入炉口法兰，通过在炉口法兰内增加转接头的方式，从炉管底部把进气管延伸至炉尾位置，在做工艺时，氧气经过直通进气管，在炉内进行预热，再从尾部出气口位置通入炉内，参与工艺反应，减少外围气体直接经过进气管，从炉口或炉尾直接通入管内带来的温度波动，降低对工艺的干扰。
一种用于 lpcvd 结构

[实用新型]硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统-CN202222924697.4有效
发明人： 林佳继;朱鹤囡;戴佳 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体制造和太阳能光伏电池制造技术领域，公开了一种硅片翻转装置，该装置包括硅片安置机构,硅片安置机构包括安置框和翻转架，翻转架可翻转地设在安置框内且用于固定硅片；该装置包括翻转机构，翻转机构的输出端与翻转架连接以对翻转架进行翻转；该装置包括限制机构，限制机构连接翻转架以及安置框以对翻转前后的翻转架限位。硅片镀膜处理系统包括上述硅片翻转装置，使安置在翻转架上的硅片经过翻转机构可实现翻转，翻转机构提供翻转动力，限制机构能够在翻转前后对翻转架进行限位，避免其在翻转前后偏位，共同作用即无需将安置框移出加工的工艺腔至转换腔中翻转硅片，减少了转换腔的设置，减少机构的设置，从而减少了成本。
硅片翻转装置镀膜处理系统

[实用新型]真空腔内变距装置-CN202222925820.4有效
发明人：朱鹤囡;戴佳;林佳继;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本实用新型属于太阳能电池制造技术领域，公开了一种真空腔内变距装置，用于调整真空腔中相对设置的载板与处理机构之间的距离，真空腔内变距装置包括载板导向机构，载板导向机构包括相对设置的载板架，载板架上设有用于安装载板的载板夹持件；调距机构包括双向调节件，双向调节件的输出端与相对设置的载板架连接，用于同步调节载板架靠近或远离处理机构。通过调距机构可以调整载板架靠近或远离处理机构，通过设置双向调节件调整相对设置的载板上的硅片同步靠近或远离处理机构，实现多个调节部件协同驱动的功能，避免了真空腔的左上、左下控制一侧载板；右上、右下控制另一侧载板，减少了调节距离装置的设置数量，减少设备的成本。
空腔内变距装置

[发明专利]热炉炉体-CN202211449769.2在审
发明人：郭永胜;庞爱锁;刘群;林佳继 -专利权人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： F27D1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种热炉炉体，该热炉炉体包括保温体、支撑装置和加热装置，支撑装置沿保温体的轴向方向延伸且与保温体连接，加热装置与保温体可拆卸连接。该热炉炉体的加热装置与保温体可拆卸连接，加热装置损坏时不需要更换整段保温体，只需要将加热装置从保温体上拆下更换即可，提升了更换效率和维修效率。
热炉炉体

[实用新型]真空密封门及真空炉-CN202223031882.7有效
发明人：龙占勇;林佳继;刘群 -专利权人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： F27D1/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空密封门及真空炉，该真空密封门包括密封门板、压紧板、压紧模组和驱动模组，所述压紧板可滑动地设在真空炉的炉体上，压紧模组设在压紧板上且与密封门板相连，以驱动密封门板贴合或者脱离真空炉的外侧壁，驱动模组与压紧板相连，驱动模组用于驱动压紧板滑动，以使密封门板封闭或者远离炉体的炉门口。该真空密封门在打开和关闭过程中真空密封圈的磨损较小，保证了真空密封门的密封效果，延长了真空密封门的使用寿命。
真空密封真空炉

[发明专利]桨的安装结构及半导体加工炉-CN202211357180.X在审
发明人：朱太荣;肖阳;林佳继;张武 -专利权人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请日： 2022-11-01 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： F27D1/18 文献下载
摘要：本发明属于炉体密封技术领域，公开了一种桨的安装结构及半导体加工炉。该桨的安装结构包括移动模组、桨套机构以及桨。移动模组包括导轨和至少两个紧固机构，两个该紧固机构滑动连接于该导轨；桨套机构包括桨套本体和多个桨角度调节组件，两个该紧固机构沿该桨套本体的轴向间隔一定距离连接于该桨套本体；桨沿轴向穿入桨套本体，多个桨角度调节组件径向穿过该桨套本体后抵接桨以限制该桨的位移，改变多个该桨角度调节组件的径向穿入深度以调节该桨的方向。该桨的安装结构能够提高桨在炉体上的安装稳定性，并保证炉体的密封效果，且便于拆装，易于维护。
安装结构半导体加工

[实用新型]真空镀膜腔体及真空镀膜设备-CN202222415515.0有效
发明人：朱鹤囡;戴佳;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-09-13 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型属于太阳能电池制造技术领域，公开了真空镀膜腔体及真空镀膜设备。公开的真空镀膜腔体包括腔体本体、侧门和两组热丝，腔体本体沿其长度方向的两端设有入口和出口，入口与出口用于进出载板，腔体本体沿其宽度方向的两端均设有开口；侧门配合在腔体本体上且用于封闭开口；两组热丝均设在腔体本体，且分别靠近两个侧门且与侧门间隔设置。这种真空镀膜腔体设置两组热丝，能够提升温度升高的效率，进而提升镀膜效率，且两组热丝均靠近侧门设置，不仅能够加快升温速度，提升真空镀膜效率，还使得人员能够通过侧门对热丝进行状态检查和更换，避免由于热丝问题导致的镀膜效率下降，保证了真空镀膜的正常进行。
真空镀膜设备

[实用新型]真空炉-CN202223031924.7有效
发明人：龙占勇;林佳继;刘群 -专利权人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： F27B5/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空炉，该真空炉包括真空炉体和供气系统，真空炉体上设有压力检测器、进气口、抽真空口、排气口和自动安全阀组，抽真空口通过抽真空控制阀与抽真空设备相连，排气口设置有自动排气阀，进气口连接进气自动控制阀；供气系统包括储气罐和供气阀组，储气罐的出口通过供气阀组与进气自动控制阀相连。该真空炉能够及时控制真空炉体内的压力，减小真空炉体内的压力波动范围，且能够较好地满足不同制品对真空炉体内的压力的需求。
真空炉