专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统-CN202211370731.6在审
  • 林佳继;朱鹤囡;戴佳 - 拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司
  • 2022-11-03 - 2023-01-24 - C23C16/458
  • 本发明属于半导体制造和太阳能光伏电池制造技术领域,公开了一种硅片翻转装置,该装置包括硅片安置机构,硅片安置机构包括安置框和翻转架,翻转架可翻转地设在安置框内且用于固定硅片;该装置包括翻转机构,翻转机构的输出端与翻转架连接以对翻转架进行翻转;该装置包括限制机构,限制机构连接翻转架以及安置框以对翻转前后的翻转架限位。硅片镀膜处理系统包括上述硅片翻转装置,使安置在翻转架上的硅片经过翻转机构可实现翻转,翻转机构提供翻转动力,限制机构能够在翻转前后对翻转架进行限位,避免其在翻转前后偏位,共同作用即无需将安置框移出加工的工艺腔至转换腔中翻转硅片,减少了转换腔的设置,减少机构的设置,从而减少了成本。
  • 硅片翻转装置镀膜处理系统
  • [发明专利]炉体结构及半导体装置-CN202211285366.9在审
  • 林佳继;龙占勇;李洪;刘群 - 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
  • 2022-10-20 - 2023-01-20 - F27B17/00
  • 本发明公开了一种炉体结构及半导体装置,该炉体结构包括炉本体、加热组件和电极组件,炉本体具有容纳产品的容纳腔,加热组件设在容纳腔内,且为至少一个,每个加热组件包括多个并联设置的加热件,每个加热件为环形波浪结构,且每个加热件上具有缺口以使得加热组件沿周向具有间隔的两端,电极组件成对设置,成对设置的电极组件均穿设在炉本体上,且连接在加热组件的周向两端。该炉体结构在一个加热件烧断时能够稳定工作,确保了炉体结构的可靠性,且炉体结构的加热件能够较好地吸收其工作过程中产生的热变形,延长加热件的使用寿命。
  • 结构半导体装置
  • [实用新型]镀膜载板及镀膜设备-CN202222573990.0有效
  • 朱鹤囡;戴佳;刘群;张武;林佳继 - 拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司
  • 2022-09-27 - 2023-01-17 - C23C16/54
  • 本实用新型属于真空镀膜技术领域,公开了镀膜载板及镀膜设备。本实用新型公开的镀膜载板包括具有相对设置的第一承载面和第二承载面的载板本体,第一承载面设置多组第一承载部,第二承载面设置多组第二承载部,且多组第一承载部与多组第二承载部沿第一方向交错设置;任意一组第一承载部包括沿第二方向间隔布置的多个第一承载部,第一承载部用于固定硅片,第一承载部具有第一预留边,第一预留边用于将硅片放入第一承载部,或将硅片从第一承载部中取出。这种镀膜载板能够直接将硅片插入第一承载部,避免了固定件的拆卸导致的工作效率低,且交错设置的第一承载部和第二承载部解决了相邻的第一承载部之间无法将硅片放入、取出的问题,提升镀膜效率。
  • 镀膜设备
  • [实用新型]炉体结构及半导体装置-CN202222763862.2有效
  • 林佳继;龙占勇;李洪;刘群 - 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
  • 2022-10-20 - 2023-01-17 - F27B17/00
  • 本实用新型公开了一种炉体结构及半导体装置,该炉体结构包括炉本体、加热组件和电极组件,炉本体具有容纳产品的容纳腔,加热组件设在容纳腔内,且为至少一个,每个加热组件包括多个并联设置的加热件,每个加热件为环形波浪结构,且每个加热件上具有缺口以使得加热组件沿周向具有间隔的两端,电极组件成对设置,成对设置的电极组件均穿设在炉本体上,且连接在加热组件的周向两端。该炉体结构在一个加热件烧断时能够稳定工作,确保了炉体结构的可靠性,且炉体结构的加热件能够较好地吸收其工作过程中产生的热变形,延长加热件的使用寿命。
  • 结构半导体装置
  • [实用新型]绝缘支撑结构、镀膜装置和沉积装置-CN202222766200.0有效
  • 林佳继;张武;刘群 - 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
  • 2022-10-20 - 2023-01-17 - C23C16/458
  • 本实用新型提供了一种绝缘支撑结构、镀膜装置和沉积装置,所述绝缘支撑结构包括支撑主体和套体,所述支撑主体的一侧支撑侧开设有嵌合凹槽,另一侧支撑侧设置有嵌合凸起;所述套体套设所述支撑主体,所述套体和所述支撑主体之间设置有间隔件,所述间隔件用于连接所述套体与所述支撑主体,并且所述套体与所述支撑主体之间形成具有连通间隙的夹层空间,所述连通间隙用于连通所述夹层空间与所述套体的外部空间。本实用新型采用嵌合凸起以及嵌合凹槽进行配合,实现多级电极板之间的绝缘支撑,取消绝缘杆结构,通过设置夹层空间,避免沉积连续膜结构造成的短路问题。
  • 绝缘支撑结构镀膜装置沉积
  • [实用新型]一种绕丝机-CN202222673768.8有效
  • 庞爱锁;郭永胜;林佳继 - 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
  • 2022-10-11 - 2023-01-17 - B21F3/04
  • 本实用新型属于炉丝加工设备技术领域,具体公开了一种绕丝机,该绕丝机包括机架、绕丝装置、调节装置和送丝装置,绕丝装置包括绕丝驱动模组和绕丝杆,绕丝杆的一端与绕丝驱动模组驱动连接,绕丝杆的另一端架设在调节装置上,通过绕丝驱动模组能够驱动绕丝杆转动,送丝模组设置在机架旁边,调节装置设置在机架的工作平台上,调节装置能够沿绕丝杆的长度方向移动,炉丝绕设在送丝模组上,绕丝杆转动时,送丝模组能够为绕丝杆送料,从而将炉丝缠绕在绕丝杆上,使炉丝卷绕成型,本实施例中卷绕成型的炉丝节距均匀,良品率较高。
  • 一种绕丝机
  • [实用新型]绕丝机-CN202222673912.8有效
  • 庞爱锁;郭永胜;刘群;林佳继;张武 - 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
  • 2022-10-11 - 2023-01-17 - B21F3/04
  • 本实用新型公开了一种绕丝机,该绕丝机包括绕丝杆、送丝模组、驱动模组和夹紧器,送丝模组用于朝向绕丝杆输送炉丝,驱动模组包括平移驱动组件和转动驱动组件,转动驱动组件与绕丝杆相连以驱动绕丝杆转动,平移驱动组件与送丝模组配合,以驱动送丝模组沿绕丝杆的轴向运动,夹紧器套设在绕丝杆上,夹紧器为间隔设置的两个,夹紧器用于将炉丝锁紧在绕丝杆上。该绕丝机在绕制炉丝的过程中可以直接生成用于折叠的折叠间隙,在后续加工步骤中无需对炉丝进行拆解,既能够提升生产效率,又能够提升折叠精度,降低次品率。
  • 绕丝机
  • [实用新型]真空过渡室及真空镀膜设备-CN202222404068.9有效
  • 朱鹤囡;戴佳;林佳继;张武 - 拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司
  • 2022-09-09 - 2023-01-17 - C23C14/22
  • 本实用新型属于太阳能电池制造技术领域,具体公开了一种真空过渡室,该真空过渡室包括过渡腔体、阀门组件和传送导向机构,传送导向机构可活动地设置在过渡腔体上,传送导向机构能够运输载板,且传送导向机构可以运动至避让阀门组件的位置,以方便阀门组件开合,提高了过渡腔体的空间利用率,缩短了过渡腔体的设置长度,进而缩短了输送装置的传送路径,保证了传动效果良好,传送导向机构能够对载板进行导向和支撑,载板的运输过程平稳,加工效率高。本实用新型还提供一种真空镀膜设备,包括上述的真空过渡室,载板的整个运动过程平稳,镀膜工艺处理效果良好。
  • 真空过渡真空镀膜设备
  • [实用新型]沉积处理装置-CN202222415549.X有效
  • 林佳继;张武;刘群 - 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
  • 2022-09-13 - 2023-01-17 - C23C16/50
  • 本实用新型属于膜层沉积技术领域,公开了一种沉积处理装置,沉积处理装置包括炉体,炉体内设有进气板和抽气板,抽气板与进气板相对设置,以能够使基体设置于二者之间;进气板和抽气板上具有均匀分布的第一气孔,进气板和抽气板上还具有第二气孔,第二气孔与第一气孔通过布气通道连通以能够使气体流通于第一气孔和第二气孔之间。通过在抽气板与进气板上均匀设置第一气孔,并将基体置在抽气板与进气板之间,使基体的反应区域被气体均匀覆盖,提高沉积膜层的均匀性。
  • 沉积处理装置
  • [实用新型]气路传输系统-CN202222417645.8有效
  • 林佳继;朱鹤囡;戴佳 - 拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司
  • 2022-09-13 - 2023-01-17 - C23C16/455
  • 本实用新型属于太阳能电池制造技术领域,公开了气路传输系统。该气路传输系统包括依次连接的特气气路、混气罐、反应装置和真空装置,特气气路包括多条工艺气路和清洗气路,工艺气路输入工艺气体,清洗气路能够对气路、混气罐和反应装置进行清洗;混气罐的入口与特气气路的出口、清洗气路的出口均连接,反应装置的入口与混气罐的出口连接;真空装置的入口与反应装置的出口连通,且真空装置的出口用于连接尾气处理装置。各种工艺气体能够在混合罐内进行充分混合,提升镀膜质量,真空装置能够通过清洗气路输入清洗气体对特气气路的管路、混气罐和反应装置进行抽真空并清洗,能够避免杂质气体对真空镀膜的影响,确保镀膜效果。
  • 传输系统
  • [实用新型]管式炉-CN202222383863.4有效
  • 庞爱锁;郭永胜;林佳继;张武 - 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
  • 2022-09-08 - 2023-01-17 - F27B17/00
  • 本实用新型公开了一种管式炉。该管式炉包括外管和炉管,外管包括加热装置,外管的管壁上设置有连通结构,炉管置于外管内,炉管内具有工作腔,工作腔用于容纳待处理的产品,炉管的管壁向工作腔内突出形成凹陷结构,凹陷结构的内部具有测温腔,测温腔与工作腔气隔离,用于测温的热电偶能够穿设于连通结构并伸入测温腔。通过在炉管设置凹陷结构,在外管设置连通结构,热电偶能够穿过外管上的连通结构伸入测温腔中,量取测温腔的温度以间接测量炉管内的产品温度,方便实现对管式炉加热温度的调控,且热电偶没有穿过炉管,能够满足密封需求,且通过合理设置凹陷结构和连通结构的位置,还能够减少所使用的热电偶的长度,减少生产成本和生产风险。
  • 管式炉
  • [实用新型]真空炉体及真空设备-CN202222750926.5有效
  • 龙占勇;林佳继;刘群 - 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
  • 2022-10-19 - 2023-01-13 - F27B5/05
  • 本实用新型公开了一种真空炉体及真空设备,真空炉体包括炉体外壳、炉体内壳、炉壳联结环、炉尾法兰、炉门法兰和真空抽取管,炉体外壳的两端敞开设置,炉体内壳的外侧壁与炉体外壳的内侧壁间隔设置以限定出两端敞开设置的冷却流道,冷却流道具有冷却出口和冷却入口,炉壳联结环与炉体外壳以及炉体内壳的一端焊接连接,炉壳联结环用于封闭冷却流道的一端,炉尾法兰与炉壳联结环焊接连接,且位于炉壳联结环背离炉体外壳的一侧,炉门法兰与炉体外壳以及炉体内壳的另一端焊接连接,炉门法兰用于封闭冷却流道的另一端,真空抽取管的一端穿设且焊接在炉体外壳和炉体内壳上。该真空炉体在检修过程中能够非常方便地检测漏点,且制造良率高。
  • 真空炉真空设备

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