专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电池组管理系统-CN202280018117.5在审
  • 榊原努;羽谷尚久;小林仁;三宅二郎;丸山健;长泽俊伸;尾关俊明;森悟朗 - 新唐科技日本株式会社
  • 2022-03-04 - 2023-10-27 - H01M10/48
  • 电池组管理系统(1)具备:单元监视组件(10),测定多个蓄电单元(81)的输出电压;电池管理组件(20),对电池组(8)进行管理;以及第一通信网络(NW1),将单元监视组件(10)与电池管理组件(20)连接;电池管理组件(20)具有:第一通信电路(21),与第一通信网络(NW1)连接;第二通信电路(22),与用来与上位系统(2)连接的第二通信网络(NW2)连接;控制电路(23),对电池管理组件(20)进行控制;以及控制电路用电源(33);电池组管理系统(1)作为动作模式而具有通常模式和低耗电模式;第一通信电路(21),在从低耗电模式向通常模式转移时,使控制电路用电源(33)、控制电路(23)及第二通信电路(22)的至少一个起动。
  • 电池组管理系统
  • [发明专利]制造方法及半导体装置-CN202280010919.1在审
  • 堤田和三;上久胜义;村山启一 - 新唐科技日本株式会社
  • 2022-09-27 - 2023-10-27 - H01L29/78
  • 一种半导体装置(1)的制造方法,包括:对半导体层(40)形成深度H的第1槽(71)的工序;将第1槽(71)用氧化膜填充,在半导体层(40)的上表面形成厚度a的表面氧化膜(34)以使其高度与氧化膜一致的工序;形成距第3氧化膜(7)的最上表面为比a深的深度h的第2槽(72)的工序;对半导体层(40)形成比深度H深的栅极沟槽(17)的工序;堆积多晶硅直到多晶硅至少被填充到栅极沟槽(17)及第2槽(72)中的工序;向堆积在第2槽(72)中的多晶硅注入杂质而形成周边元件(51)的工序;以及将堆积在栅极沟槽(17)中的多晶硅与堆积在第2槽(72)中的多晶硅并行地除去以使其高度一致,使周边元件(51)的厚度与深度h一致的工序。
  • 制造方法半导体装置
  • [发明专利]电压测定装置-CN202280018111.8在审
  • 羽谷尚久;森悟朗 - 新唐科技日本株式会社
  • 2022-03-04 - 2023-10-24 - G01R19/00
  • 电压测定装置(12)具备第一测定电路(31)、第二测定电路(32)、单元平衡开关(360)和修正电路(33),第一测定电路(31)经由多个第一RC滤波器而与多个第一电池单元(211、212)、汇流条(23)及多个第二电池单元(221、222)连接,第二测定电路(32)经由多个第二RC滤波器而与多个第一电池单元(211、212)、汇流条(23)及多个第二电池单元(221、222)连接,单元平衡开关(360)经由与汇流条(23)连接的两个第二RC滤波器(511、521)而与汇流条(23)并联连接,修正电路(33)利用由第一测定电路(31)得到的汇流条(23)的两端间的电压的测定值而对第二测定电路(32)的测定值进行修正。
  • 电压测定装置
  • [发明专利]电压测定系统-CN202280018116.0在审
  • 小久江文昭;羽谷尚久;森悟朗 - 新唐科技日本株式会社
  • 2022-03-04 - 2023-10-20 - G01R31/382
  • 电压测定系统(10)具备:第一基准信号发送装置(通信装置30),具有生成第一主时钟信号的第一主振荡器(36)和基于第一主时钟信号生成第一基准信号的第一基准信号生成电路(33);以及第一电压测定装置(40),具有第一副振荡器(46)、基于第一基准信号来校正第一副振荡器(46)的振荡频率的第一校正电路(43)、和第一电压测定电路(48);电压测定系统(10)具有:通常模式,在第一基准信号发送装置(通信装置30)与第一电压测定装置(40)之间收发命令信号;以及校正模式,将第一基准信号从第一基准信号发送装置(通信装置30)向第一电压测定装置(40)发送,利用第一基准信号,使第一副振荡器(46)的振荡频率与第一主振荡器(36)的振荡频率同步。
  • 电压测定系统
  • [发明专利]高频功率放大器件-CN202280009631.2在审
  • 大桥一彦;上谷昌稔 - 新唐科技日本株式会社
  • 2022-02-17 - 2023-10-20 - H03F1/26
  • 高频功率放大器件(200)具备:第二高频信号线(2),向多层安装台基板(100)的第一主面(101)的载波放大器半导体器件(11)、峰值放大器半导体器件(12)、偏置电源半导体器件(13)及载波放大器半导体器件(11)或峰值放大器半导体器件(12)传输高频信号;以及载波放大器用偏置电源线(31),在第三布线层(105)上布线,并供给偏置电源电压。第二高频信号线(2)与载波放大器用偏置电源线(31)在平面图中交叉,具备:作为接地电位的屏蔽图案(121),在第一布线层(103)与第三布线层(105)之间的第二布线层(104)上;以及1个以上的连接导孔(131),沿着载波放大器用偏置电源线(31)的延伸方向设置,1个以上的连接导孔(131)与屏蔽图案(121)连接。
  • 高频功率放大器
  • [发明专利]氮化物系半导体发光元件-CN202280014555.4在审
  • 高山彻 - 新唐科技日本株式会社
  • 2022-01-31 - 2023-10-17 - H01S5/20
  • 氮化物系半导体发光元件(100)具备半导体层叠体(100S),半导体层叠体(100S)具有:N型第1包覆层(102)、N侧引导层(104)、活性层(105)、P侧第1引导层(106)、P侧第2引导层(107)、以及P型包覆层(110),P侧第2引导层(107)的带隙能量比N侧引导层(104)的带隙能量大,N侧引导层(104)的带隙能量为P侧第1引导层(106)的带隙能量以上,在将P侧第1引导层(106)的膜厚设为Tp1、将P侧第2引导层(107)的膜厚设为Tp2、将N侧引导层(104)的膜厚设为Tn1时,满足Tn1<Tp1+Tp2的关系。
  • 氮化物半导体发光元件
  • [发明专利]固体摄像装置以及摄像装置-CN201880026518.9有效
  • 清水祐介;小野泽和利 - 新唐科技日本株式会社
  • 2018-04-12 - 2023-10-13 - H01L27/146
  • 固体摄像装置(1)具备:第一半导体基板(10),具有多个像素呈矩阵状地配置的像素阵列部(12)、以及第一连接部(130);和第二半导体基板(20),具有由用于与外部电连接的多个焊盘电极(259)构成的焊盘部(250)、以及第二连接部(230),对上述像素阵列部(12)进行控制。上述第一半导体基板(10)与上述第二半导体基板(20)层叠并且接合,上述第一连接部(130)与上述第二连接部(230)电连接,上述第一半导体基板(10)是与上述第二半导体基板(20)实质上相同的尺寸,仅在上述第二半导体基板(20)具有上述焊盘电极(259)。
  • 固体摄像装置以及
  • [发明专利]半导体装置-CN202280007312.8有效
  • 田口晶英;安田英司 - 新唐科技日本株式会社
  • 2022-07-21 - 2023-09-29 - H01L29/78
  • 半导体装置(1),具有在平面视图中为矩形形状的半导体层(40)、形成在第1区域(A1)中的晶体管(10)和形成在第2区域(A2)中的漏极上拉区域(38);边界线(90)是与半导体层(40)的长边并行的一直线状;第1区域(A1)具有多个源极焊盘(116)及栅极焊盘(119);第2区域(A2)具有多个漏极焊盘(141);1个栅极焊盘(119)以在与一方的长边(91)及一方的短边(93)之间完全不夹着其他的源极焊盘(116)的方式配置;1个漏极焊盘(142)是与1个栅极焊盘(119)相同的形状,接近于第2顶点(99)而配置;在多个源极焊盘(116)中,包括长边方向与半导体层(40)的长边平行的长方形或长圆形的源极焊盘。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体激光器元件-CN202180091975.8在审
  • 久纳康光;山田笃志;永井洋希;中谷东吾;柳田直人;畑雅幸 - 新唐科技日本株式会社
  • 2021-12-22 - 2023-09-12 - H01S5/22
  • 半导体激光器元件(10)具备基板(21)和半导体层叠体(10S),半导体层叠体(10S)具有N侧半导体层(22)、活性层(23)、P侧半导体层(24)和P型接触层(25),半导体层叠体(10S)具有两个端面,激光在两个端面之间谐振,半导体层叠体(10S)具有在谐振方向上延伸的脊部(20r)、和在半导体层叠体(10S)的俯视图中将脊部(20r)的周围包围的底部(20b),脊部(20r)从底部(20b)朝向上方突出并从两个端面离开,并且包含P型接触层(25)的至少一部分,在半导体层叠体(10S)的上表面中,仅在脊部(20r)上形成作为被注入电流的区域的电流注入窗(25a),从活性层(23)的上表面到底部(20b)的距离是均匀的。
  • 半导体激光器元件
  • [发明专利]半导体装置-CN202180050391.6有效
  • 太田朋成;田口晶英;中山佑介;中村浩尚 - 新唐科技日本株式会社
  • 2021-10-21 - 2023-09-08 - H01L29/78
  • 在第1沟槽(17)延伸的第1方向(Y方向)上交替地且周期性地设置有第1源极区域(14)、和第1体区域(18)与第1源极电极(11)连接的第1连接部(18A)的第1纵型场效应晶体管(10)中,设第1方向上的第1源极区域(14)的长度为LS[μm],设第1方向上的第1连接部(18A)的长度为LB[μm],则LS相对于LB的比是1/7以上且1/3以下,对于以第1源极电极(11)的电位为基准向第1栅极导体(15)施加的半导体装置(1)的规格值的电压VGS[V],LB≤-0.024×(VGS)2+0.633×VGS-0.721成立。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置、电池保护电路及电源管理电路-CN202310630382.5在审
  • 山本兴辉;高田晴久 - 新唐科技日本株式会社
  • 2022-03-25 - 2023-08-25 - H01L27/02
  • 一种能够面朝下安装的芯片尺寸封装型的半导体装置(1),具备半导体层(40)和形成在半导体层(40)内的N(N是3以上的整数)个纵型MOS晶体管;N个纵型MOS晶体管分别在半导体层(40)的上表面具备与该纵型MOS晶体管的栅极电极电连接的栅极焊盘以及与该纵型MOS晶体管的源极电极电连接的1个以上的源极焊盘;半导体层(40)具有半导体衬底(32);半导体衬底(32)作为N个纵型MOS晶体管的共通漏极区域发挥功能;半导体层(40)的平面图中的N个纵型MOS晶体管各自的面积与N个纵型MOS晶体管各自的最大规格电流对应,最大规格电流越大则越大。
  • 半导体装置电池保护电路电源管理
  • [发明专利]半导体装置-CN201880002960.8有效
  • 生田晃久;樱井浩司;金井悟 - 新唐科技日本株式会社
  • 2018-05-24 - 2023-08-25 - H01L21/336
  • 在具备SOI结构的半导体装置中,源极区域(9)和漏极区域(7)沿着相对置的长度最长的方向即长边方向伸长,且在与长边方向正交的方向即短边方向上排列配置。体区域(4)配置为,在平面视图下,在长边方向上伸长,且被漂移区域(5)及绝缘体区域(11)包围。在此,随着从体区域(4)的长边方向的中央部朝向末端部,绝缘体区域(11)与体区域(4)的短边方向的间隔变窄。由此实现高耐压化。
  • 半导体装置
  • [发明专利]摄像装置、以及在其中使用的固体摄像装置-CN201880022679.0有效
  • 浅野拓也;野原拓也 - 新唐科技日本株式会社
  • 2018-04-02 - 2023-08-08 - H01L27/146
  • 摄像装置,具备向被摄体照射红外光的红外光源以及具有像素被配置在矩阵上的像素阵列部的固体摄像装置,所述固体摄像装置具备:受光部,将来自被摄体的入射光转换为信号电荷;信号蓄积部,蓄积信号电荷;信号释放部,释放信号电荷;微透镜,配置在该受光部的上方;以及开口部,用于入射光入射,固体摄像装置,通过信号释放电压的导通以及截止,对信号电荷进行读出与释放,多个微透镜的每一个被配置为,越是位于像素阵列部的周边侧,与受光部的中心相比,该微透镜更靠近像素阵列部的中心侧,开口部按照在像素阵列部中的位置,形状不同。
  • 摄像装置以及其中使用固体
  • [发明专利]发光装置-CN202011048773.9有效
  • 小原正美;林茂生 - 新唐科技日本株式会社
  • 2020-09-29 - 2023-08-04 - H01L33/54
  • 发光装置(10)具备:安装面(170)的安装基板(110);被配置在安装面(170)的发光元件(120);被配置在发光元件(120)上的光透射部件(130);以及覆盖发光元件(120)的侧面(180)以及光透射部件(130)的侧面(181)的树脂部件(160)。树脂部件(160)具有,覆盖光透射部件(130)的最上面(190)的外缘部的覆盖部(250)。从安装面(170)到覆盖部(250)的最上部的高度(A1),比从安装面(170)到光透射部件(130)的最上面(190)的高度(A2)大。光透射部件(130)的最上面(190)具有,从树脂部件(160)露出的露出区域(260)。
  • 发光装置

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