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[发明专利]研磨组成物及其使用方法-CN202180077694.7在审
发明人：成庆民;胡斌;梁燕南;李孝相;温立清;张益彬;A·米什拉 -专利权人：富士胶片电子材料美国有限公司
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C09G1/04 文献下载
摘要：本公开涉及研磨组成物，包括：(1)至少一种磨料；(2)至少一种有机酸或其盐类；(3)至少一种第一胺化合物，该至少一种第一胺化合物包含具有6‑24个碳的烷基链的烷基胺；(4)至少一种第二胺化合物含有至少两个氮原子，该第二胺化合物不同于该第一胺化合物；以及(5)水性溶剂。
研磨组成及其使用方法

[发明专利]抛光组合物及其使用方法-CN202280005251.1在审
发明人：梁燕南;胡斌;A·米什拉;黄亭凯;张益彬;J·约翰斯顿;詹姆斯·麦克多诺 -专利权人：富士胶片电子材料美国有限公司
申请日： 2022-10-21 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23F3/04 文献下载
摘要：一种抛光组合物包括阴离子磨料、pH调节剂、低k移除速率抑制剂、钌移除速率增强剂及水。一种抛光基材的方法包括以下步骤：将本文所述的抛光组合物施加至基材的表面，其中该表面包含钌或硬掩膜材料；及使垫与该基材的该表面接触，并相对于该基材移动该垫。
抛光组合及其使用方法

[发明专利]一种反射式弯曲叉形面光栅的制备装置和方法-CN202211103662.2在审
发明人：晋云霞;吴昱博;孔钒宇;赵靖寅;张益彬 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种反射式弯曲叉形面光栅的制备方法，该方法制备出的光栅为纯相位光栅，可用于产生完美涡旋光(POV)。通过一束高阶贝塞尔高斯光束与高斯光干涉曝光，其中高阶贝塞尔高斯光束由反射式纯相位液晶空间光调制器(SLM)产生，将干涉条纹记录在基底上的光敏材料中，经显影、镀金属膜后，即可制备出反射式弯曲叉形面光栅。使用基模高斯光照射，可在1级衍射方向的远场或透镜焦平面上获得POV。这种利用反射式弯曲叉形面光栅获得POV的方法，相对于使用空间光调制器的传统方法，优势在于具有更高的损伤阈值、更宽的工作波长范围、以及更高的转换效率，且结构简单、成本低、可大批量生产，在产生高功率POV方面具有重要的前景，可用于光学操控、光学加工等领域。
一种反射弯曲叉形光栅制备装置方法

[发明专利]基于光束扫描匀光的全息光栅双光束干涉曝光系统及其曝光方法-CN202310116929.X在审
发明人：赵成强;张海冬;曹红超;晋云霞;张益彬;刘世杰;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基基于光束扫描匀光的全息光栅双光束干涉曝光系统及其曝光方法，该系统包括激光器、扫描光路、第四反光镜、半波片模块、第五反射镜、第二分光镜、第三半波片、第八反光镜、第六反光镜、第七反光镜、第一声光调制器、第二声光调制器、第一空间滤波器、第二空间滤波器、第一离轴反射镜、第二离轴反射镜、光栅基板和干涉条纹变化测量组件。本发明在实现光场均匀性指标的同时，可大幅提高系统的光能利用效率，从而缩短曝光时间，改善曝光系统的效率。
基于光束扫描全息光栅干涉曝光系统及其方法

[实用新型]一种中晚期垃圾渗滤液处理装置-CN202222558655.3有效
发明人：张立成;张益彬;钱俊;范茂军 -专利权人：沈阳建筑大学;常州润成环境科技有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C02F3/30 文献下载
摘要：一种中晚期垃圾渗滤液处理装置，属于垃圾渗滤液处理技术领域。包括进水池、生物脱氮池和膜分离装置，生物脱氮池分成4个区域，分别为缺氧池A1、好氧池O1、后置反硝化池A2、后置曝气池O2，并依次通过管道连接，进水池通过进水泵与缺氧池A1进水口连接，后置曝气池O2出水口通过膜分离装置进水泵与膜分离装置进液口连接、浓液排放口通过污泥回流泵连接至缺氧池A1，进液口与浓液排放口通过循环泵连接；好氧池O1底部出水口与缺氧池A1底部通过亚硝化液回流泵连接，后置曝气池O2底部出水口与后置反硝化池A2底部通过硝化液回流泵连接；垃圾渗滤液由进水池依次流经缺氧池A1、好氧池O1、后置反硝化池A2、后置曝气池O2，其出水经膜分离装置进行泥水分离后由清液出水口排出。
一种中晚期垃圾渗滤处理装置

[发明专利]大底宽小尖角脉冲压缩金属光栅及其制备方法与应用-CN202210388807.1有效
发明人：晋云霞;韩昱行;张益彬;曹红超;孔钒宇;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-04-12 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：兼容大方位角、超400nm带宽大底宽小尖角金属脉冲压缩光栅，包括光栅参数优化设计和制备工艺。所述的光栅其底宽占比需大于0.6，形状因子为0.5～2.5，槽深为160～250nm，线密度为1300～1650g/mm。所述的制备工艺包括基底清洗、涂胶、烘烤、曝光、显影和金属膜镀制。本发明的宽带高效率光栅具有大底宽小尖角结构，在正负15或20°的大方位角内，TM偏振光以‑1级Littrow角入射时，光栅在超400nm带宽内效率超过90％。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑数百拍瓦单周期脉冲压缩光栅储备。
大底宽小尖角脉冲压缩金属光栅及其制备方法应用

[发明专利]一种曲面投影的方法-CN202111181959.6有效
发明人：汪瑞;晋云霞;曹红超;孔钒宇;张益彬;王勇禄 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2021-10-11 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种曲面投影的方法，所需投影图像、所需投影曲面和初始源平面光场关联结构存在的对应关系式，通过所需投影图像灰度信息、所需投影曲面位置信息可推导初始源平面光场的关联结构信息，携带该关联结构初始源平面光场经过自由空间衍射可在所需投影曲面上投影所需投影图像。
一种曲面投影方法

[发明专利]识别高反射率物体的方法及系统-CN202111250804.3在审
发明人：苏芃;王珂;唐成;段飞;钟亮;请求不公布姓名;李炬;张益彬;李涛 -专利权人：北京顺造科技有限公司
申请日： 2021-10-26 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G01S17/93 文献下载
摘要：本公开提供一种识别高反射率物体的方法，其包括：通过信号产生部向预设物体发射初始信号，并获得该初始信号的反射信号；以及在所述信号产生部的周边设置有至少一个反射部，并使得所述反射部能够通过所述高反射率物体的反射形成虚像部；其中，所述信号产生部与所述反射部之间的位置相对固定，并间隔第一距离设置；其中，当所述反射信号为所述虚像部所形成的反射信号时，判断为所述预设物体为高反射率物体。本公开还提供一种识别高反射率物体的系统。
识别反射率物体方法系统

[发明专利]透光物体探测方法、清洁机器人装置及地图构建方法-CN202111404655.1有效
发明人：苏芃;请求不公布姓名;唐成;段飞;钟亮;王珂;李炬;张益彬;李涛 -专利权人：北京顺造科技有限公司
申请日： 2021-11-24 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： A47L11/24 文献下载
摘要：本公开提供一种透光物体探测方法，包括：向目标区域发出探测光波信号以探测目标物体；实时接收来自所述目标区域的所述探测光波信号的反射光波信号；判断在所述探测光波信号发出之后的第一预设时间长度之内是否接收到两次以上的反射光波信号；如果是，则至少初步判定所述两次以上的反射光波信号中的最先反射光波信号探测到的目标物体为透光物体。本公开还提供一种能够识别透光物体的清洁机器人装置及地图构建方法。
透光物体探测方法清洁机器人装置地图构建

[发明专利]一种中晚期垃圾渗滤液处理装置-CN202211180791.1在审
发明人：张立成;张益彬;钱俊;范茂军 -专利权人：沈阳建筑大学;常州润成环境科技有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：一种中晚期垃圾渗滤液处理装置，属于垃圾渗滤液处理技术领域。包括进水池、生物脱氮池和膜分离装置，生物脱氮池分成4个区域，分别为缺氧池A1、好氧池O1、后置反硝化池A2、后置曝气池O2，并依次通过管道连接，进水池通过进水泵与缺氧池A1进水口连接，后置曝气池O2出水口通过膜分离装置进水泵与膜分离装置进液口连接、浓液排放口通过污泥回流泵连接至缺氧池A1，进液口与浓液排放口通过循环泵连接；好氧池O1底部出水口与缺氧池A1底部通过亚硝化液回流泵连接，后置曝气池O2底部出水口与后置反硝化池A2底部通过硝化液回流泵连接；垃圾渗滤液由进水池依次流经缺氧池A1、好氧池O1、后置反硝化池A2、后置曝气池O2，其出水经膜分离装置进行泥水分离后由清液出水口排出。
一种中晚期垃圾渗滤处理装置

[发明专利]脉冲压缩的琥珀金光栅及其制备方法-CN202211198640.9在审
发明人：晋云霞;韩昱行;孔钒宇;曹红超;张益彬;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种脉冲压缩琥珀金光栅及其制备方法，所述的琥珀金光栅金属层选用合适配比的金基含银、铂系元素的二元或多元混合物，或者金顶银底薄膜。所述的制备工艺包括琥珀金光栅特征轮廓参数和琥珀金膜材料配比优选。本发明的琥珀金光栅在不退化传统金光栅光学性能的前提下，拓宽光栅高衍射效率波段，改善或解决纯银光栅的易氧化问题，进一步提升金光栅抗激光损伤阈值，工艺参数可以支持米级口径的光栅制备。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑从光谱仪、商用超快激光器到大型高峰值功率激光器的建设，对脉冲压缩光栅发展有重大意义。
脉冲压缩琥珀金光及其制备方法

[发明专利]大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备-CN202210949541.3在审
发明人：晋云霞;张辉;王云坤;彭亚;曹红超;张益彬;汪瑞 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所;清华大学
申请日： 2022-08-09 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：一种大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，该设备主要包括烘烤系统、基板上下样系统及控制系统。所述的烘烤系统主要由循环风机、加热元件、高效过滤器、烘烤腔室、腔室密封圈、风向导流片、进风端口、回风端口和循环风道、气体输入端口及排气端口构成，具有百级洁净度、温度控制范围20℃～200℃，腔室温度均匀性优于±3℃，温度精度±0.5℃。所述的基板上下样系统包含转运小车和基板升降装置，所述的转运小车具有小角度调节基板倾斜功能，且紧邻基板靠近进风端一侧设有导流板，既能确保大口径样片安全地上下烘烤腔室工位，又能优化膜层烘烤工艺。本发明设备能够实现双向米量级尺寸、超厚基板的光刻胶膜烘烤工艺，在涂胶后光刻胶膜厚均匀性基础上进一步提升其膜厚均匀性。
口径表面光刻胶膜均匀烘烤设备

[发明专利]一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构-CN202210975142.4在审
发明人：曹红超;晋云霞;汪瑞;孔钒宇;张益彬;王云坤;杨晓东;孙静 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01S3/08 文献下载
摘要：一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构，其特征在于整个结构由上而下依次是光栅层、嵌入式非均匀微通道层、带有冷却液进出口的密封层。其中，非均匀微通道冷却层直接嵌入在光栅层下方的光栅基板上，其结构是依据入射在光栅表面的激光强度空间分布、光栅基板材料/几何尺寸等参数设计，微通道的空间间隔、通道宽度均成线性分布，而刻蚀深度为线性或高斯分布。本发明面向高能激光光谱合束、超强超短激光脉冲压缩等领域中使用的反射式光栅均匀热控制需求，提出了一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构，解决了因入射激光强度空间分布不均匀、光栅基板表面热传导不均等因素引起的光栅表面局部温升过高，进而导致光栅衍射波前畸变大的难题，为强激光作用下光栅表面温升及由此引起的波前畸变调控提供了一种新思路。
一种集成嵌入式均匀通道反射光栅结构

[发明专利]动态区域划分与区域通道识别方法及清洁机器人-CN201911327603.1有效
发明人：宋庆祥;许开立;朱永康;刘达;张益彬;单俊杰;汤进举 -专利权人：科沃斯机器人股份有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G05D1/02 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种动态区域划分与区域通道识别方法及清洁机器人。其中，所述动态区域划分方法包括如下的步骤：获取机器人在第一区域工作时采集的环境信息；基于所述环境信息确定存在有进入第二区域的通道时，判断所述机器人是否已完成在所述第一区域内的工作任务；所述工作任务未完成时，在所述通道处补充边界以封堵所述通道。本申请实施例提供的技术方案，降低了重复扫、漏扫现象的出现几率，且清洁效率高；另外，本实施例提供的技术方案，依赖工作中采集的环境信息，而无需借助历史地图数据，环境适应性高。
动态区域划分通道识别方法清洁机器人

[发明专利]一种大占宽比亚波长周期光栅的制备方法-CN202210596749.1在审
发明人：曹红超;晋云霞;孔钒宇;张益彬;汪瑞;王云坤 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种大占宽比亚波长周期光栅结构制备方法，采用Bosch刻蚀技术在硅衬底上制备出侧壁带有锯齿状结构的光栅母版，使用纳米压印技术将光栅母版结构转移到压印胶中，然后采用镀膜技术沉积一层薄膜材料作为掩膜，最后通过lift‑off工艺将压印胶图形剥离并形成大占宽比光栅结构。本发明利用Bosch刻蚀技术形成的光栅侧面锯齿状结构替代传统负性光刻胶的倒梯形结构，避免了因镀膜过程中薄膜材料对光栅结构的包裹导致的lift‑off剥离困难问题，并解决了因负性光刻胶光刻胶分辨率不足导致的大占宽比、亚波长周期光栅结构制备难题，为大占宽比、亚波长周期光栅结构的制备提供了一种新的思路。
一种大占宽波长周期光栅制备方法

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