“B24B53/017”专利分类搜索_专利查询_文献下载_出售_求购_买卖_交易_钻瓜专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果472个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]研磨面清洗装置、研磨装置及研磨面清洗装置的制造方法-CN201510801236.X有效
发明人：小菅隆一;外崎宏;小寺刚;长谷川亮 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-11-19 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明提供一种使浆料等研磨液难以附着于表面的研磨面清洗装置。研磨面清洗装置具有：臂(12)，具有流体流路(30)；喷嘴(15)，与流体流路(30)连通；以及焊接材料(35)，将喷嘴(15)固定于臂(12)。臂(12)的底面(12a)与喷嘴(15)的顶端面(15a)的缘部(15b)之间的间隙被焊接材料(35)填满。
研磨清洗装置制造方法

[实用新型]一种单晶硅片抛光机用清洗刷子-CN201922001707.5有效
发明人：祝斌;刘姣龙;武卫;刘建伟;刘园;孙晨光;由佰玲;谢艳;杨春雪;刘秒;常雪岩;裴坤羽;王彦君;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型提供一种单晶硅片抛光机用清洗刷子，包括刷体，在所述刷体端部至少设有一组毛刷组件和喷头组件，所述毛刷组件与所述喷头组件同侧设置，所述喷头组件被设置在所述毛刷组件内侧；在所述刷体侧部设有连接组件，所述刷体内部设有通道，所述通道一端与所述喷头组件连通，另一端与所述连接组件连通。本实用新型设计的刷子，结构配合简单，可在刷体单侧设置刷头，也可在刷体双侧设置刷头，适普性强，应用广且清洗效果好，清洗效率高。
一种单晶硅抛光机清洗刷子

[实用新型]一种自动刷洗研磨盘的刷洗装置-CN201922010385.0有效
发明人：詹楠;权立振;曹连连 -专利权人：蚌埠中光电科技有限公司
申请日： 2019-11-20 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型提供一种自动刷洗研磨盘的刷洗装置，包括控制组件、支架、旋转轴、限位气缸、摇臂、升降气缸、支撑平台、刷盘，支架一端固定于设备本体上，另一端连接旋转轴外壳体；旋转轴一端通过轴承连接限位气缸伸缩杆，旋转轴的另一端安装摇臂；摇臂的一端安装于旋转轴上，另一端连接升降气缸，升降气缸连接支撑平台，支撑平台上安装刷盘，旋转轴的旋转将刷盘旋转到所需位置，控制组件连接并控制限位气缸和升降气缸。本实用新型结构设计简单，安装位置不影响正常生产，控制组件根据指令自动对研磨盘进行刷洗，设置喷嘴在刷的过程中水流冲刷，可有效地刷洗研磨盘，去除杂质、研磨颗粒和碎玻璃，提高刷盘的洁净度，提升产品良率。
一种自动刷洗研磨装置

[发明专利]研磨方法、研磨垫修整系统-CN202010364469.9在审
发明人：杨一凡;高志强 -专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明提供了一种研磨方法、研磨垫修整系统。研磨方法，包括：厚度检测装置测量研磨垫实时形貌的同时，修整器从所述研磨垫中心沿径向向所述研磨垫边缘实时修整所述研磨垫；其中，将所述研磨垫的实时形貌与目标形貌做比较；根据比较的结果实时调整所述修整器的工作模式。将研磨垫修整变粗糙保证抛光效率的同时，测量研磨垫实时形貌并根据实时形貌与目标形貌的比较结果实时调整所述修整器的工作模式，修整研磨垫在不同区域的高度差异，以确保研磨垫的整体平整度，从而保证抛光均匀性。
研磨方法修整系统

[发明专利]一种在化学机械研磨中修整器压力调节的方法-CN202010290283.3在审
发明人：刘耀聪 -专利权人：长春长光圆辰微电子技术有限公司
申请日： 2020-04-14 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明公开了一种在化学机械研磨中修整器压力调节的方法，属于半导体芯片加工制造领域，在修整器运动的整个路径中，将压力控制分为两个部分，以修整器与研磨垫的接触面积做区分，①完全接触时，修整器对研磨垫施加的压力为F1，F1为预先设定的恒定压力；②非完全接触时，修整器对研磨垫施加的压力为F2，F2随着修整器与研磨垫接触面积的变化而变化，以使所述研磨垫所有区域受到相同的修整压强。通过本发明提出的在化学机械研磨中修整器压力调节的方法，能够实现消除研磨垫边缘消耗过快的边缘效应现象，改善研磨垫中间部分与边缘部分的厚度差异，增加研磨垫使用寿命。
一种化学机械研磨修整压力调节方法

[实用新型]一种用于光学玻璃研磨盘的清洁装置-CN201922369413.8有效
发明人：汤志平 -专利权人：盐城晶鑫光学科技有限公司
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型属于光学玻璃研磨抛光加工技术领域，尤其一种用于光学玻璃研磨盘的清洁装置，包括第一支撑管，所述第一支撑管的内部安装有驱动装置，所述驱动装置的输出轴通过联轴器与转动扇叶固定连接，所述第一支撑管的内壁位于所述转动扇叶的上方固定设有滤网，所述第一支撑管的顶部固定设有第二支撑管，所述第二支撑管的外侧壁固定设有若干组出气管道，所述第二支撑管的内部安装有若干组第一过滤板；通过设置的第二过滤板、转动扇叶和第一过滤板的相互配合将对光学玻璃研磨盘的表面沟槽内的磨料颗粒进行去除，避免其沉淀在光学玻璃研磨盘的沟槽内影响光学玻璃加工中精磨作业的效果，且在对其彻底清理的同时，也节省了人力资源。
一种用于光学玻璃研磨清洁装置

[发明专利]筒状折皱罩-CN201610912550.X有效
发明人：松山敏文;诹访野纯;藤泽晋一 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2016-10-19 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：提供筒状折皱罩，防止因环的嵌套状态而导致的筒状折皱罩的破损。一种筒状折皱罩(91)，其追随加工构件的移动而变形，该筒状折皱罩(91)具有：多个环(96)；筒状的折皱布(97)，其将多个环平行地连结；多个突出部(98)，它们从折皱布的各峰部朝向外侧突出；以及线部件(101)，其穿过形成在各突出部中的孔(99)，该筒状折皱罩(91)构成为通过线部件来对各突出部的移动进行引导，由此，防止多个加强环变成嵌套状态。
折皱

[发明专利]研磨盘表面磨皮铲除装置-CN201710051353.8有效
发明人：李配灯;林佩珊;谭天兵 -专利权人：伯恩光学（惠州）有限公司
申请日： 2017-01-23 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种研磨盘表面磨皮铲除装置，包括支架，所述支架包括水平设置的横梁以及垂直设置的立柱，在所述支架横梁上安装有刮刀组件；所述刮刀组件包括分别安装在横梁上且均可在垂直方向上伸缩的刮刀以及压杆；在所述支架横梁的垂直下方处设置有用以在铲除磨皮时固定研磨盘的支撑组件，所述支撑组件包括基座以及转盘，所述刮刀与压杆分别对应跨设在转盘两侧且在垂直方向上可伸缩地与所述转盘的表面相抵靠或分离；该磨皮铲除装置可对研磨盘表面的磨皮进行自动铲除，铲除效率高且铲除效果好。
研磨表面铲除装置

[实用新型]研磨垫修整器-CN201921129312.7有效
发明人：徐剑波;辛君;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-17 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种研磨垫修整器，包括修整盘、第一管道以及抽真空装置；所述修整盘具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面具有至少一个第一开口，所述第一开口用于固定金刚石，所述第二表面具有至少一个第二开口，所述第一开口与至少一个第二开口在所述修整盘中相互连通；所述第一管道与所述第二开口连通；所述抽真空装置与所述第一管道连接，用于对所述第一管道执行抽真空操作，以使所述金刚石被固定吸附于所述第一开口。本实用新型提供的研磨垫修整器可以实时侦测出所述修整盘上金刚石的状态。
研磨修整

[发明专利]一种高精密研磨棒的修复方法-CN202010258095.2在审
发明人：唐文林;刘连东;姚敏;胡晨毅 -专利权人：嘉兴沃尔德金刚石工具有限公司
申请日： 2020-04-03 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本申请公开了一种高精密研磨棒的修复方法，包括：检测研磨棒的最大磨损深度；根据最大磨损深度判断是否对研磨棒进行修复过程；计算修复过程中对研磨棒的修复量；根据计算得到的修复量对研磨棒进行机加工；本申请通过对研磨棒的受损程度进行检测、分析，根据检测分析结果在原有研磨棒的基础上进行新研磨棒的修复再加工，既可以显著提升金刚石的利用率，降低生产成本；同时经此修复方法修复的研磨棒锋利度、研磨精度均可与原始研磨棒一致，并且仍然具有较高的使用寿命，更加能满足市场需求。
一种精密研磨修复方法

[实用新型]一种气缸加压式环刀型修盘器-CN201921570597.8有效
发明人：卓俊辉;孔令沂;邓菁;韩景瑞;孙国胜;李锡光 -专利权人：东莞市天域半导体科技有限公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光设备技术领域，尤其涉及一种气缸加压式环刀型修盘器，包括：被吸附平台，开设在所述被吸附平台底部外围的环形刀口，及开设在所述被吸附平台底部的导流槽，所述环形刀口的高度为3mm～20mm、宽度为2mm～5mm，且所述环形刀口有0.5*45°～1*45°的倒角。应用于抛光设备、解决阻尼布抛光垫难以清洗内部、清洗不完全干净等问题，还具有结构设置简单及结构设置合理等特点。
一种气缸加压式环刀型修盘器

[实用新型]一种抛光设备用的配重加压式环刀型修盘器-CN201921570583.6有效
发明人：卓俊辉;谢绍棕;孔令沂;邓菁;韩景瑞;孙国胜;李锡光 -专利权人：东莞市天域半导体科技有限公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光设备技术领域，尤其涉及一种抛光设备用的配重加压式环刀型修盘器，由上往下依次包括：连接环，与所述连接环连接的底座结构，所述底座结构的底部外侧设置有环形刀口，所述环形刀口的高度为2～10mm，宽度为2～5mm，且所述环形刀口有0.5*45°～1*45°的倒角。本实用新型解决了阻尼布抛光垫难以清洗内部、清洗不完全干净等问题，有效提高了抛光垫的使用寿命。
一种抛光备用配重加压式环刀型修盘器

[实用新型]一种抛光垫用结晶清洗刷-CN201920920255.8有效
发明人：祖白玉;朱晨 -专利权人：南京乔邦新材料科技有限公司
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光垫用结晶清洗刷，包括吊设在研磨机顶部的研磨盘，所述研磨盘包括旋转盘和种植于旋转盘下表面上的结晶刷毛，所述旋转盘上设置有通孔，通孔内活动设置研磨刷，通过利用旋转磨盘式的清洗刷，在磨盘刷上结合结晶去除铁刷和抛光垫起毛的柔性刷，将除杂和起毛工序结合在同一设备上，减少原有处理工序的复杂度，抛光垫表层结晶去除更加安全，减少抛光垫表层划伤，起毛刷能够有效对抛光垫表层进行均匀的起毛处理，延迟抛光垫的使用次数和寿命。
一种抛光结晶洗刷

[发明专利]调节装置及调节用于化学机械研磨的研磨垫的方法-CN201911051685.1在审
发明人：黄君席 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种用于调节在化学机械研磨中使用的研磨垫的调节装置，包括具有开口的基座及可移除地附接至基座的调节盘。调节盘包括：调节部分，安置在基座的第一表面上；以及配合部分，可移除地配合至基座的开口中或穿过基座的开口。配合部分穿过开口配合至基座或在开口中配合至基座，以防止调节盘在调节用于化学机械研磨制程的研磨垫的制程期间自基座脱落。
调节装置用于化学机械研磨方法

[发明专利]用于清洁研磨垫的方法-CN201911054011.7在审
发明人：张智桀;陈彦廷;黄惠琪;陈科维 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本文提供用于清洁研磨垫的方法。本文提供减少修整盘及研磨垫上的金属颗粒污染的化学机械平坦化系统及方法。所述方法可包括将修整盘及至少一导电元件接触电解液接触，并施加直流功率到修整盘及所述至少一导电元件。
用于清洁研磨方法

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top