[发明专利]一种24源连续有机材料蒸镀装备

说明书

本发明公开一种24源连续有机材料蒸镀装备，包括设备框架，所述设备框架的上端安装有真空舱与触控电脑，且触控电脑位于真空舱一侧边缘位置，所述设备框架的前端安装有分子泵控制器，所述真空舱两侧对称安装有分子泵，所述真空舱的内部底端安装有挡板与电极，所述电极位于挡板的底端两侧，所述挡板上开设有蒸镀源选择孔，所述挡板的底端中间位置连接有一号电机，且一号电机位于设备框架内，所述挡板的正上方安装有上基板；本发明一种24源连续有机材料蒸镀装备能够均匀接受来自不同蒸镀钼舟蒸发上来的分子或原子，并通过有机薄膜的厚度变化趋势以及均匀性来调整蒸镀钼舟的加热温度及加热时间，从而得到目标成分、厚度的有机镀膜。

技术领域

本发明属于多源有机材料蒸镀设备技术领域，更具体的是一种24源连续有机材料蒸镀装备。

背景技术

当前高校、科研院所及企业在进行薄膜新材料的科研与小批量制备时，采用真空镀膜系统来实现多类薄膜材料的生长，主要有金属蒸镀、有机蒸镀设备。有机蒸镀设备主要用于有机电致发光、照明器件、太阳能电池和半导体工艺研究的最佳设备，工作效率高，具有事半功倍的效果；但现有的有机材料蒸镀设备在使用的过程中存在以下不足：(1)在同一蒸发温度下，合金中各元素的蒸气压不同，因此蒸发速率也不同，会产生分馏现象，往往得不到所希望比例成分的合金或化合物膜；(2)当蒸镀两种或两种以上元素组成的合金或化合物原料时，未必能够获得与原料相同成分的薄膜；(3)当用蒸镀法制备预定成分的合金或化合物薄膜时，需对蒸发源进行改进，如采用瞬间蒸镀法和双蒸发源，有机小分子在蒸发后容易在真空舱体顶部基板上集聚产生局部不均匀现象。

发明内容

为了克服上述的技术问题，本发明的目的在于提供一种24源连续有机材料蒸镀装备，通过采用24个有机蒸镀源来实现对上基板材料合金镀膜，能够均匀接受来自不同蒸镀钼舟蒸发上来的分子或原子，并通过有机薄膜的厚度变化趋势以及均匀性来调整蒸镀钼舟的加热温度及加热时间，从而得到目标成分、厚度的有机镀膜。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种24源连续有机材料蒸镀装备，包括设备框架，所述设备框架的上端安装有真空舱与触控电脑，且触控电脑位于真空舱一侧边缘位置，所述设备框架的前端安装有分子泵控制器，所述真空舱两侧对称安装有分子泵，所述真空舱的内部底端安装有挡板与电极，所述电极位于挡板的底端两侧，所述挡板上开设有蒸镀源选择孔，所述挡板的底端中间位置连接有一号电机，且一号电机位于设备框架内，所述挡板的正上方安装有上基板，贯穿真空舱顶部左侧位置连接有膜厚仪探头，且膜厚仪探头伸入至上基板表面，贯穿所述真空舱顶部右侧位置安装有真空规，所述分子泵上安装有插板阀，两组所述插板阀关于真空舱对称设置；

所述真空舱后端上安装有活动后舱门，所述真空舱前端上活动安装有前舱门，所述真空舱内部中间位置分布有蒸镀源，所述真空舱一侧开设有备用接口。

作为本发明进一步的方案：所述真空舱的正上方安装有二号电机，所述二号电机自上而下依次连接有联轴器、磁流体并贯穿真空舱顶部中间位置连接有上加热板，所述上基板通过二号电机配合上加热板旋转。

作为本发明进一步的方案：所述真空舱的上端内壁上安装有O型圈及卡箍，且电极与真空规均通过O型圈及卡箍与真空舱顶部密封连接。

作为本发明进一步的方案：所设备框架的背部安装有膜厚仪控制器，且膜厚仪探头与膜厚仪控制器电性连接，所述触控电脑的输出端与膜厚仪控制器、真空规、分子泵控制器及真空舱电性连接。

作为本发明进一步的方案：所述挡板的正下方安装有下基板，下基板上设置有24组蒸镀钼舟，且24组蒸镀钼舟上放置有待蒸镀材料，所述挡板的底端安装有下加热板，且挡板及下加热板通过电极与真空舱的底部连接。

作为本发明进一步的方案：所述真空舱内安装有高真空机组，所述上基板的上端安装有上加热板。