[发明专利]一种基于短肽组装体的阻变存储器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201810366934.5 申请日: 2018-04-23
公开(公告)号: CN108630811B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 韩素婷;周晔;吕子玉;徐振庭 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: H01L51/30 分类号: H01L51/30;H01L51/05;H01L51/40
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 组装 存储器 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种阻变存储器,包括阻变层,其特征在于,采用短肽组装体作为所述阻变层;

其中,所述阻变存储器的开启电压为3V,开关比达100000;

将短肽分散于极性溶剂中,得到短肽溶液,所述溶剂为水、六氟异丙醇或DMF;

短肽溶液的浓度和旋涂速度用于调控短肽组装体的厚度,其中,所述旋涂速度为900-5000rpm,短肽的水溶液的浓度为0.3-5.5mg/ml,短肽的六氟异丙醇溶液和短肽的DMF溶液的浓度均为4-50mg/ml,所述短肽组装体的厚度为20-150nm。

2.根据权利要求1所述的阻变存储器,其特征在于,所述短肽组装体由短肽制备而成,所述短肽选自苯丙氨酸二肽、阿斯巴甜、丙谷二肽、苯丙氨酸-苯丙氨酸-苯丙氨酸和精氨酸-甘氨酸-天冬氨酸中的一种或多种。

3.根据权利要求2所述的阻变存储器,其特征在于,所述短肽为纤维状或球状。

4.一种如权利要求1所述的阻变存储器的制备方法,其特征在于,包括:

步骤A、将含底电极的基底做亲水处理;

步骤B、在所述底电极上制作短肽组装体,所述短肽组装体的厚度为20-150nm;

步骤C、在所述短肽组装体上制作顶电极,阻变存储器制作完成。

5.根据权利要求4所述的阻变存储器的制备方法,其特征在于,采用旋涂或蒸镀的方法制作所述短肽组装体。

6.根据权利要求5所述的阻变存储器的制备方法,其特征在于,采用旋涂的方法制作所述短肽组装体,包括:

步骤B1、将短肽分散于极性溶剂中,得到短肽溶液;

步骤B2、将所述短肽溶液以900-5000rpm的速度旋涂在所述底电极上,并进行退火,得到所述短肽组装体。

7.根据权利要求6所述的阻变存储器的制备方法,其特征在于,所述步骤B1中,所述极性溶剂为水、六氟异丙醇或DMF。

8.根据权利要求7所述的阻变存储器的制备方法,其特征在于,所述步骤B1中,所述极性溶剂为DMF,短肽的DMF溶液的浓度为4-50mg/ml。

9.根据权利要求6所述的阻变存储器的制备方法,其特征在于,所述步骤B2中,退火的温度为60-120℃。

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