[发明专利]一种等离子体处理设备及用于其上的高导电导磁复合材料

权利要求书

1.一种用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述复合材料用于制造等离子体处理设备的反应腔外壁，包括高磁导率基材和设置在所述高磁导率基材表面的高电导率层；所述高磁导率基材的材质为坡莫合金；所述高电导率层通过电镀、蒸镀、气相沉积、热喷涂或冷喷涂镀方式制得；所述高磁导率基材的厚度大于0.01mm；所述高电导率层的厚度为1μm～5mm。

2.如权利要求1所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述高磁导率基材的镍含量大于50％。

3.如权利要求1所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述高电导率层的材质为铝、铜、金或银中的一种或几种。

4.如权利要求1所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述高电导率层为不同材质高电导率子层堆叠组成。

5.如权利要求1所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述高磁导率基材和高电导率层之间还设置有过渡层。

6.如权利要求5所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述过渡层的材质为镍或铬。

7.如权利要求5所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述过渡层的厚度为1μm～1mm。

8.如权利要求5所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述过渡层通过电镀、蒸镀、气相沉积、热喷涂或冷喷涂镀在所述高磁导率基材上。

9.权利要求5所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料，其特征在于，所述高电导率层通过电镀、蒸镀、气相沉积或热喷涂镀在所述过渡层材料上。

10.一种等离子体处理设备，其包括：

反应腔，其由外壁围成且内部设置基座用于对待处理基片进行支撑；

气体供应装置，其与所述的反应腔连接，用于输送反应气体至所述的反应腔内，及，

射频功率源，其与所述的反应腔连接，用于施加射频功率至所述的反应腔，将反应腔内的反应气体电离产生等离子体；

其特征在于，所述的反应腔的外壁材料为权利要求1-9中任意一项所述的用于等离子体处理设备的高导电导磁复合材料。

11.如权利要求10所述的等离子体处理设备，其特征在于，该等离子体处理设备为电容耦合等离子体刻蚀机或电感耦合等离子体刻蚀机。