[发明专利]等离子体处理装置和喷头

说明书

本发明提供一种能够对基板实施均匀的等离子体处理的等离子体处理装置和喷头。从喷头(13)分割出的24个分割喷头(13a～13x)被划分为：由位于角部的分割喷头(13o、13p、13r、13s、13u、13v、13x和13m)构成的第一分割喷头组；由位于外周的分割喷头(13n、13q、13t、13w)构成的第二分割喷头组；由存在于中央附近的分割喷头(13a～13d)构成的第三分割喷头组；和由第三分割喷头组与第一分割喷头组或者第二分割喷头组夹着的分割喷头13e～13l构成的第四分割喷头组，向各分割喷头组供给的处理气体的流量能被独立地控制。

技术领域

本发明涉及具有多个分割喷头的等离子体处理装置和喷头。

背景技术

在液晶显示装置(LCD)等的平板显示器(FPD)制造步骤中，在俯视时呈矩形的玻璃基板实施蚀刻、成膜处理等的等离子体处理。为了进行上述等离子体处理，使用等离子蚀刻装置、等离子CVD装置等的各种等离子体处理装置。作为等离子体处理装置，适合使用能够在高真空度中得到高密度的等离子体的电感耦合等离子体(Inductively CoupledPlasma:ICP)处理装置。

在现有的电感耦合等离子体处理装置中，在高频天线和处理室之间配置与玻璃基板对应的在俯视时呈矩形的电介质窗，使来自被供给高频电力的高频天线的磁场透过金属窗，在处理室的内部由处理气体生成电感耦合等离子体。然而，近年来，FPD一代代发展，玻璃基板大型化，例如，对大约2800mm×大约3000mm的玻璃基板实施等离子体处理。电介质窗随之也大型化，但是构成电介质窗的石英等电介质材料较脆，因此并不适合大型化。

因此，提供了一种电感耦合等离子体处理装置，其中代替电介质窗，使用由延展性材料的金属形成的在俯视时呈矩形的金属窗作为处理室的天井部，用作为间隔件的绝缘部件对金属窗进行分割，在分割后的金属窗的各部分中，引发环路电流而在处理室的内部形成感应电场，通过该感应电场产生等离子体(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-227427号公报

发明内容

发明想要解决的技术问题

但是，与玻璃基板的大型化对应地处理室也大型化时，根据各种主要因素，向玻璃基板实施均匀的等离子体处理变得困难。

本发明的目的在于提供一种能够对基板实施均匀的等离子体处理的等离子体处理装置和喷头。

用于解决技术问题的技术方案

为了实现上述目的，本发明的等离子体处理装置，其特征在于：所述等离子体处理装置构成为，包括收纳在俯视时呈矩形的基板的处理室、用于生成电感耦合等离子体的高频天线和作为所述处理室的金属窗进行工作的在俯视时呈矩形的喷头，以从所述喷头的中央向外周的方向为径向，并且以绕所述喷头的外周的方向为周向时，关于所述径向和所述周向，通过绝缘部件将所述喷头分割为多个分割喷头，各所述分割喷头能够独立地向所述处理室内部导入处理气体；所述等离子体处理装置中，所述多个分割喷头分为多个分割喷头组；所述多个分割喷头组，包括：包括位于所述喷头的角部的所述分割喷头的第一分割喷头组；包括所述分割喷头的第二分割喷头组，所述分割喷头位于所述喷头的外周且被所述第一分割喷头组的各所述分割喷头夹着；包括存在于所述喷头的中央的所述分割喷头的第三分割喷头组；和包括所述分割喷头的第四分割喷头组，所述分割喷头由所述第三分割喷头组与所述第一分割喷头组或所述第二分割喷头组夹着，独立地控制向所述多个分割喷头组的各个供给的所述处理气体的流量。