[发明专利]等离子体处理装置和喷头

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

收纳俯视时呈矩形的基板的处理室；

用于生成电感耦合等离子体的高频天线；和

作为所述处理室的金属窗发挥作用的俯视时呈矩形的喷头，

在以从所述喷头的中央向外周的方向为径向且以绕所述喷头的外周的方向为周向时，所述喷头在所述径向和所述周向上通过绝缘部件被分割为多个分割喷头，各所述分割喷头能够独立地向所述处理室的内部导入处理气体，

所述多个分割喷头被划分为多个分割喷头组，

所述多个分割喷头组包括：

第一分割喷头组，其包括位于所述喷头的角部的多个所述分割喷头；

第二分割喷头组，其包括位于所述喷头的外周且被所述第一分割喷头组的各所述分割喷头夹着的多个所述分割喷头；

第三分割喷头组，其包括存在于所述喷头的中央且在周向上被分割的多个所述分割喷头；和

第四分割喷头组，其包括由所述第三分割喷头组与所述第一分割喷头组或所述第二分割喷头组夹着且在周向上被分割的多个所述分割喷头，

向所述多个分割喷头组各自供给的所述处理气体的流量能够按每个分割喷头组被独立地控制。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第二分割喷头组的各所述分割喷头被划分为：

包括沿所述喷头的长边的所述分割喷头的第五分割喷头组；和

包括沿所述喷头的短边的所述分割喷头的第六分割喷头组，

向所述第五分割喷头组和所述第六分割喷头组各自供给的所述处理气体的流量能被独立地控制。

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

构成所述多个分割喷头组的各个分割喷头组的各所述分割喷头与从与各所述分割喷头组对应的各流量比例控制器分支的气体流路连接，

在所述多个分割喷头组的各个中，从所述流量比例控制器到各所述分割喷头位置的所述气体流路的长度是统一的。

4.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

与所述多个分割喷头组各自对应地配置所述高频天线。

5.一种作为收纳俯视时呈矩形的基板的处理室的金属窗发挥作用的俯视时呈矩形的喷头，其特征在于：

在以从所述喷头的中央向外周的方向为径向且以绕所述喷头的外周的方向为周向时，所述喷头在所述径向和所述周向上通过绝缘部件被分割为多个分割喷头，各所述分割喷头能够独立地向所述处理室的内部导入处理气体，

所述多个分割喷头被划分为多个分割喷头组，

所述多个分割喷头组包括：

第一分割喷头组，其包括位于所述喷头的角部的多个所述分割喷头；

第二分割喷头组，其包括位于所述喷头的外周且被所述第一分割喷头组的各所述分割喷头夹着的多个所述分割喷头；

第三分割喷头组，其包括存在于所述喷头的中央且在周向上被分割的多个所述分割喷头；和

第四分割喷头组，其包括由所述第三分割喷头组与所述第一分割喷头组或所述第二分割喷头组夹着且在周向上被分割的多个所述分割喷头，

向所述多个分割喷头组各自供给的所述处理气体的流量能够按每个分割喷头组被独立地控制。