[发明专利]调光板与发光器件的制作方法

说明书

本申请提供了一种调光板与发光器件的制作方法。该调光板包括阵列排布的多个调光部，各调光部包括中心区域调光部以及边缘区域调光部，边缘区域调光部围绕中心区域调光部，中心区域调光部的光透过量大于边缘区域调光部的光透过量。将该调光板应用在制作发光器件的子像素区域中的各结构层时，可以加快子像素区域的中心区域的原料墨水的干燥速度，使得中心区域与边缘区域的原料墨水的溶剂的挥发速度大致相同，即中心区域的原料墨水与边缘区域的原料墨水同步干燥，避免了咖啡环现象的产生，可得到薄厚均匀的结构层，且方式简单，解决了咖啡环的问题。

技术领域

本申请涉及照明与显示领域，具体而言，涉及一种调光板与发光器件的制作方法。

背景技术

在制作发光器件时，首先在基板上(有的基板上设置有电极层)设置具有开口的像素界定层，像素界定层与基板在开口处形成容纳槽(该区域中的各结构层形成后，该区域形成子像素区域)，然后向容纳槽中注入墨水，墨水干燥后形成对应的结构层，这些结构层可以是量子点发光层、空穴传输层、空穴注入层、电子传输层、电子注入层或光转换层。

在墨水干燥成膜过程中，由于溶剂率先在墨水区域的边缘挥发，这样中心位置的墨水中的溶剂携带粒子会向边缘位置移动，最终粒子在墨水区域的边缘堆积，形成咖啡环，最后干燥形成中间薄两边厚的不均匀的薄膜。咖啡环的产生不仅对器件的发光的均匀性造成影响，且积聚在墨水区域(子像素区域)边缘的材料对器件的老化等也会带来很多未知的影响。

现有技术中有许多缓解咖啡环的方法，比如，授权公告号为CN103928497的专利中，在第一电极上构筑横截面呈中部宽、上下部的宽度依次减小的像素界定层结构，发光的时候，子像素区域边缘的咖啡环区域的发光会被像素界定层结构中部的突出结构遮挡，从而减小了咖啡环效应对发光不均匀的影响。

授权公告号为CN105448957B的专利中，通过形成两个叠置的像素界定层来减小发光单元的边缘发光面积来改善咖啡环造成的发光不均的问题。

上述两种方法都只是利用繁琐的工艺结构减小了咖啡环对器件发光不均造成的影响，并没有从根本上解决咖啡环问题。授权公告号为CN105428554B的专利中，采用通电的方法使导电阳极两端生热，待导电阳极之上的容纳槽内的温度稳定后注入墨水，以使其均匀干燥，减少咖啡环效应带来的影响。但是大量研究表明，此种方法改善的效果是非常有限的，却大大增加了电极制备工艺的复杂性。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种调光板与发光器件的制作方法，以解决现有技术中不能以简单的方式解决咖啡环的问题。

为了实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种调光板，该调光板包括阵列排布的多个调光部，各上述调光部包括中心区域调光部以及边缘区域调光部，上述边缘区域调光部围绕上述中心区域调光部，上述中心区域调光部的光透过量大于上述边缘区域调光部的光透过量。

进一步地，上述中心区域调光部的厚度小于上述边缘区域调光部的厚度。

进一步地，各上述调光部设有至少一个开孔，上述边缘区域调光部的总开孔面积小于上述中心区域调光部的总开孔面积。

进一步地，上述边缘区域调光部的开孔密度小于上述中心区域调光部的开孔密度，和/或，上述边缘区域调光部的开孔孔径小于上述中心区域调光部的开孔孔径。

进一步地，上述调光板包括调光层，上述调光层包括各上述调光部。

进一步地，上述调光部的材料为光反射型材料或光吸收型材料。

进一步地，上述调光板还包括辅助层，上述辅助层设置在各上述调光部的表面上，上述辅助层的透光率不小于90％，优选上述辅助层为玻璃。

进一步地，上述辅助层和/或上述调光层的热膨胀系数范围为10^-6～10^-7m/K。