[发明专利]壳体及其制作方法

说明书

技术领域

本发明是关于一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有高硬度及釉瓷外观的壳体及其制造方法。

背景技术

现有技术，通常采用喷涂方式于电子产品的壳体表面形成紫色的装饰性膜层，以使壳体呈现出紫色釉感的外观。然而，由于喷涂技术本身的缺陷，喷涂形成的装饰性膜层难以具有高光泽性，使上述壳体无法呈现出如釉瓷般的细腻、通透、清洁等视觉或外观效果。此外，经喷涂形成的装饰性膜层硬度较低，易被刮伤。

发明内容

鉴于此，本发明提供一种易于制备的具有高硬度及釉瓷外观的壳体。

另外，本发明还提供一种上述壳体的制作方法。

一种壳体，其包括基体及依次形成于基体表面的打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。

一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

采用真空镀膜法在该基体的表面依次形成打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。

相较于现有技术，所述的壳体通过在基体表面依次镀覆一打底层、一过渡层、及一颜色层，通过该三层的综合作用，使所述壳体的表面光滑、润泽，呈现釉瓷般的质感。此外，该镀膜件具有较高的强度，不易被刮伤。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图；

图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施例的壳体10包括一基体11、及依次形成于基体11表面的一打底层13、一过渡层15、及一颜色层17。该壳体10可以为电子装置外壳、或汽车装饰件。

所述基体11的材质可为模具钢、陶瓷、或不锈钢。

所述打底层13形成于该基体11的表面。该打底层13为一Ti-M层，其中M可为铬、铝、或硅。该打底层13的厚度可为0.1~0.3μm。该打底层13可增加基体11与过渡层15的结合力。所述打底层13中，钛的质量百分比为50~70%，M的质量百分比为30~50%。

所述过渡层15形成于所述打底层13的表面。该过渡层15为一氧化层，所述氧化层可为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层等。该过渡层15的厚度可为0.3~0.5μm。该过渡层15可增加该打底层13和该颜色层17间的结合力。

所述颜色层17形成于所述过渡层15的表面。该颜色层17为一钛铝氮层，其厚度可为0.5~1μm，且该颜色层17呈紫色，使得该壳体10具有紫色釉瓷外观。所述颜色层17中，氮化钛的质量百分比为30~40%，氮化铝的质量百分比为60~70%。

本明一较佳实施方式的壳体10的制备方法，其包括如下步骤：

请参阅图2，提供一真空镀膜机20，所述真空镀膜机20可为中频磁控溅射镀膜机、或电弧离子镀膜机。该真空镀膜机20包括一镀膜室21及设置于该镀膜室21中的一治具23、一第一靶材25、一第二靶材27、一第三靶材28、及一第四靶材29。所述第一靶材25为钛靶，所述第二靶材27可为铬靶、铝靶、或硅靶，所述第三靶材28可为铝靶、硅靶、或锆靶，所述第四靶材29中含有钛和铝，且该第四靶材29中，钛的质量百分比范围为40~50%，铝的质量百分比范围为50~60%。

提供基体11，该基体11的材质为模具钢、陶瓷、或不锈钢。

对该基体11进行预处理。该预处理为：采用无水乙醇对所述基体11进行超声波清洗，以除去该基体11表面的油污。所述超声波清洗的时间可为25~35分钟。

将基体11装设于该真空镀膜机20的治具23上，加热所述镀膜室21至镀膜室21内的温度为180~220℃，并将该镀膜室21抽真空至5×10^-3Pa。

调节该真空镀膜机20的电源功率为3~5KW，占空比为75~80%，并向镀膜室21内通入流量为600~800标准状态毫升/分钟(sccm)的工作气体氩气，对该基体11施加电压为1000~1200V的偏压，对基体11的表面进行等离子体清洗，以除去该基体11表面的氧化层。其中清洗时间为15~20min。