[发明专利]同步定位光刻曝光装置及方法

权利要求书

1.一种同步定位光刻曝光装置，所述装置包括二维运动平台、位于所述二维运动平台正上方用于承载待刻蚀对象的压电陶瓷运动模块、以及位于所述压电陶瓷运动模块上方的光源发生装置，其特征在于，所述二维运动平台包括控制二维运动平台沿第一方向运动的第一传动装置，所述压电陶瓷运动模块包括控制压电陶瓷运动模块沿与第一方向相反的第二方向运动的第二传动装置。

2.根据权利要求1所述的同步定位光刻曝光装置，其特征在于，所述第一传动装置和第二传动装置的传动速率相等。

3.根据权利要求1所述的同步定位光刻曝光装置，其特征在于，所述第二传动装置包括与压电陶瓷运动模块一端相连的脉冲电压发生装置，当压电陶瓷运动模块上有电压时，压电陶瓷伸长形成瞬时运动，压电陶瓷运动模块上无电压时，压电陶瓷复位。

4.根据权利要求2所述的同步定位光刻曝光装置，其特征在于，所述装置还包括检测模块，用于检测待刻蚀对象是否运动到待刻蚀位置，若是，则启动第二传动装置，若否，关闭第二传动装置。

5.根据权利要求1所述的同步定位光刻曝光装置，其特征在于，所述光源发生装置包括依次相连的激光源、激光传输系统及激光头。

6.一种如权利要求1所述的同步定位光刻曝光方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

S1、将待刻蚀对象固定于压电陶瓷运动模块上，开启光源发生装置；

S2、使二维运动平台带动压电陶瓷运动模块沿第一方向运动；

S3、检测待刻蚀对象是否运动到待刻蚀位置，若是，控制压电陶瓷运动模块沿与第一方向相反的第二方向运动并进行刻蚀，若否，返回执行步骤S2。

7.根据权利要求6所述的同步定位光刻曝光方法，其特征在于，所述步骤S3中压电陶瓷运动模块的运动速度与步骤S2中二维运动平台的运动速度大小相等方向相反。

8.根据权利要求6所述的同步定位光刻曝光方法，其特征在于，所述步骤S3还包括：

将压电陶瓷运动模块复位到初始位置。

9.根据权利要求8所述的同步定位光刻曝光方法，其特征在于，所述步骤S3后还包括：

重复执行步骤S2~S3，直至待刻蚀对象全部刻蚀完成。